用LIGA技术制作微马达构件

阐述了LIGA技术的组成及特点。对LIGA工艺掩膜、X射线光刻、电铸及塑铸等进行了朱理分析。用一次成型法制作了以聚酰亚胺为衬基、以Au为吸收体的X射线光刻掩膜。简单介绍了这种掩膜的制作工艺过程，并用这种掩膜在北京电子对撞机国家实验室进行了同步辐射X射线光刻，得到了深度为500μm，深宽比达8．3的PMMA材料的微型电磁马达联轴器结构。给出掩膜和X射线光刻照片。同时，对Au、Ni等金属材料的厚膜电铸进行了工艺研究。     

同步辐射X射线光刻掩模镀金工艺的研究

介绍了利用北京正负对撞机(BEPC)同步辐射X射线光刻装置,进行LIGA工艺技术深结构光刻实验研究,详细论述了X射线光刻使用的掩模制备过程及掩模镀金工艺,在国内最早曝光出直径为400μm、厚为27～45μm的三维立体齿轮胶图形。     

化学镀Ni—P镀层的组织形貌与耐蚀性

通过观察化学镀Ｎｉ－Ｐ镀层沉积过程形貌及形貌变化特征，研究了用不同镀液化学镀所获得的不同含磷量镀层的形貌变化，并指明在含磷量为（４．０￣７．０）％范围内，镀层成胞状和菜花状的腐蚀破坏常常首先沿胞壁进行，且大胞中心易出现腐蚀裂纹和沟槽。若胞的大小均匀，凸凹不明显，胞表面光滑，含磷量均匀，则耐蚀性好。     

映像--衍纸 简约而不简单

悦来纸艺创始人柳军微博名为纸博士自称是厨艺一流 纸艺二流 球艺不入流。化学专业的梦想做建筑师却干了8年ＩＴ 现在创业做纸艺。其实不但是衍纸创作纸雕纸雕灯等跟纸艺相关的技艺柳军都很有造诣。衍纸又叫卷纸是纸艺中比较独特的一项。和剪纸一样衍纸也是一门很古老的手工艺术据称来源于古埃厦。时至今日这一技艺又逐渐得以发展并成为一种时尚的艺术形式。     

从背光源看电视直下式及侧入式LED背光源分析

◎同样的LED不同的摆位 LED背光俨然成为当前液晶电视主流背光技术.作为影响液晶电视显示效果的关键因素之一,LED背光技术按光源色彩可分为白光LED和RGB-LED两种,前者低价、低功耗且利于控制机身厚度,后者拥有出色的显示效果,不过功耗、发热量和成本却较高,这在不少液晶显示器的报道和评测中均有提及.而LED背光其实还可以按入射位置划分为直下式RGB-LED、直下式白光LED、侧光式白光LED三种,后两种并存于当前主流液晶电视市场.     

大电流条件下气体火花开关电极烧蚀的研究进展

气体火花开关在各类脉冲功率装置中应用广泛,但放电产生的热等离子体将对电极材料产生烧蚀,烧蚀产物(金属蒸汽、液滴等)也会对开关绝缘造成污染,影响开关工作特性、缩短开关寿命,因而受到特别关注。在过去几十年间,国内外学者针对电极烧蚀机理及其影响因素开展了广泛研究,得到了常见电极材料在不同放电条件下的烧蚀特征;近年来,随着材料科学与诊断技术的进步,电极烧蚀研究集中在新型电极材料与烧蚀表征两方面。为此回顾了不同实验条件下电极烧蚀现象的相关研究,描述了电极烧蚀的基本特征,归纳了影响烧蚀的主要因素,介绍了电极与绝缘子表面烧蚀形貌的测试方法,介绍了电极烧蚀产物表征与分析的实验方法,论述了电极烧蚀对开关工作特性的影响规律。最后,分析并提出了电极烧蚀的一般评估方法,指出了电极烧蚀研究的热点问题和发展方向,对今后继续深入开展该领域的研究工作具有一定借鉴意义。     

Quantification of trace amounts of impurities in high purity cobalt by high resolution inductively coupled plasma mass spectrometry

An analytical method using high resolution inductively coupled plasma mass spectrometry (HR-ICP-MS) for rapid simultaneous determination of 24 elements (Be, Mg, Al, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, As, Se, Mo, Ag, Cd, Sn, Sb, Ba, Pt, Au, and Pb) in high purity cobalt was described. Sample digestions were performed in closed microwave vessels using HNO3 and HCl. The matrix effects because of the presence of excess HCl and Co were evaluated. The usefulness of high mass resolution for overcoming some spectral interference was demonstrated. The optimum conditions for the deter- mination were tested and discussed. The standard addition method was employed for quantitative analysis. The detection limits were 0.016-1.50 μg?g?1, the recovery ratios were 92.2%-111.2%, and the RSD was less than 3.6%. The method was accurate, quick, and convenient. It was applied to the determination of trace impurities in high purity cobalt with satisfactory results.     

等离子喷涂氧化物陶瓷涂层的形貌、结构及结合机制

前言等离子喷涂是一项现代化的表面防护与强化新技术。陶瓷材料的等离子喷涂技术由于其涂层的许多独特性能和工艺复杂性,已成为近年来热喷涂行业研究发展的热门,正在许多高科技部门得以推广。等离子喷涂陶瓷粉末包含复杂的物理、化学反应,且这些反应极其迅速,因此难以避免地会在陶瓷涂层中产生孔隙、裂纹等缺陷。为获得高质量的等离子陶瓷涂层,须对陶瓷涂层的任一局部区域进行     

碳纳米管及稀土元素钇(Y)对高Ni含量Ti(C,N)基金属陶瓷组织与性能的影响

研究了不同含量的碳纳米管及0.8%稀土Y对高Ni含量Ti(C,N)基金属陶瓷组织性能的影响.将不同成分的试样分别于1400℃、1410 ℃、1420℃真空烧结,测试抗弯强度、洛氏硬度,观察背散射电子形貌、断口形貌并做能谱分析.结果表明,加入质量分数(下同)为0.8%Y及0.3%～1.0%的碳纳米管时,碳纳米管含量为0.5%的组织较均匀,芯壳结构明显,抗弯强度及硬度均较高.