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显卡芯片霸主nVIDIA在GeForce3推出之后就一直没有再为它的后继产品提供进一步的消息,直到ATI的Radeon8500逼到家门口也只是拿出超频后的GeForce3 Ti500版本应付了事,反而愈发增添了一份神秘色彩。不过nVIDIA不可能永远将它的宝贝藏着不放,在新年之后,代号为GeForce4的系列芯片终于揭开了盖头出现在我们的眼前,那么GeForce4会给我们带来些什么新的刺激呢? 相似文献
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从原料与生产工艺过程分析了瓷质势光砖批量色差产生的原因,并提出了相应对策,为生产质量佳化提供一定的参考。 相似文献
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显卡市场上产品种类繁多,所属的档次也不尽相同,我们这次的评测就将产品分为了三个档次,高端和低端各向您推荐了一款产品,鉴于中档次的产品较多,我们就选择了两款,因为这也是最为适合普通消费者的产品。 相似文献
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钨酸根抑制不绣刚局部腐蚀的机理 总被引:1,自引:0,他引:1
用X射线光电子能谱(XPS)研究了AISI304不锈钢在含WO2-4+Cl-的模拟闭塞电池中形成钝化膜的组成与结构及WO2-4抑制其局部腐蚀的机理.研究表明,闭塞区内AISI304不锈钢表面的钝化膜的外层主要为WO2-4、CrO3、CrCl3、FeCl2和FeCl3,此外,还有少量的Ni2O3、Fe2O3、CrO2-4、γ-FeOOH以及Fe(OH)3;溅射5 min时膜内层主要为Cr2O3、CrOOH、Cr(OH)3、FeCl2、FeCl3和WO3,还有少量的WO2和WO2-4.WO2-4对钝化膜的影响在于WO2-4迁入闭塞区后吸附在金属表面,可全部或部分取代吸附在钢表面的Cl-,并与腐蚀产物Fe2+发生氧化还原反应生成Fe3+和WO2,WO2-4与Fe2+、Fe3+反应生成难溶化合物FeWO4和Fe2(WO4)3覆盖在阳极上,形成较耐蚀的保护膜,降低闭塞区内自催化效应速度,从而抑制局部腐蚀的进一步发展. 相似文献
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介绍了为新疆哈得4油田设计的一种强适应性高效分离脱水器。该设备具有结构合理,内部空间利用率高,分离效果好和投资较少等特点,利用这种分离器对含水原油一次处理后,净化原油含水小于1%,污水含油小于1000mg/L,使传统原油处理工艺流程得到简化。作为关键处理设备,适合哈得4油田不同开发时期的多种工况的分离脱水要求,取得了理想的使用效果。 相似文献
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