基于均匀光纤光栅的DWDM系统PMD补偿方法

提出一种基于均匀光纤Bragg光栅(FBG)的透射型密集波分复用(DWDM)系统多信道偏振模色散(PMD)补偿方案。当FBG受到横向挤压时，会产生双折射现象。当一波长的光信号从光栅带隙附近透射时，就会在快轴和慢轴之间产生时延差(DGD)。通过改变外力的大小来调节DGD的大小可以实现对PMD的补偿。通过将多个补偿光栅级联，就可以实现对DWDM系统多信道PMD的补偿。在100N外力作用下，5cm长的光栅最大可以补偿121ps的PMD，而对相邻0．8nm的信道，只引入0．2ps的DGD。     

龚嘴水力发电总厂“无人值班”（少人值守）建设

对龚嘴水力发电总厂实施“无人值班”（少人值守）的工作情况进行了介绍，并着重讨论了监控系统及主辅设备的改造以及管理方面的建设情况。     

基于支持向量机的缓存预估模型的设计与实现

采用支持向量机(SVM)对网络业务流数据进行预测估计，通过训练样本，从而获得样本以外数据的分布规律。在此基础上，设计了一种网络排队队列缓存的预估模型。实验表明，该模型具有较高的训练效率和很高的估计精确度。     

浅谈开关电源

本文综合介绍了开关电源技术中一种广泛应用的重要体制——脉宽调制，即PWM体制变换器的基本工作原理、类型、性能分析以及发展和使用概况；着重介绍了近年来开始受到重视的谐振式开关电源，并完成了Flyback ZVC—QRC的简单分析。     

BaxSr（1—x）TiO3多层膜椭偏光谱研究

用溶胶－凝胶技术在Bi(100）衬底上制备了单层和渐变型多层的BaxSr(1-X)TiO3薄膜，其膜层组分分别为：Ba0.7Sr0.3TiO3,Ba0.8Sr0.2TiO,Ba0.9Sr0.1TiO3,BaTiO3，对生长制备出的多层BaxSr(1-X)TiO3薄膜进行了变角度椭偏光谱测量，通过椭偏光谱解谱分析研究，首次得到了BaxSr(1-X)TiO3多层膜结构不同膜层的膜厚和光学常数，其结果显示：椭偏光谱分析得到的不同膜层的膜厚与卢瑟福背向散射测量得到的结果基本相符；渐变型多层膜中BaTiO3薄膜的折射率比单层BaTiO3薄膜折射率大许多，与体BaTiO3的折射率相接近，这说明渐变型多层膜中BaTiO3薄膜的光学性质与体材料的光学性质接近。     

医用激光治疗机的触摸屏控制系统设计

介绍了医用红宝石激光器触摸屏控制系统的基本结构，分析了医用红宝石激光器中主要电磁干扰（EMI）的产生机制，提出了具体的电磁兼容（EMC）技术措施并得到实验验证。     

砂岩酸化中水化硅沉淀的影响因素分析

讨论了砂岩酸化中产生水化硅沉淀的反应机理。使高岭土与1.0%HF和多种配比的HCl HF在不同温度(20-90℃)反应不同时间(10-300分钟),用等离子吸收光谱法(ICP)测定酸液中可溶性硅的浓度(mg/L),取某时段测定值的减小量为该时段水化硅沉淀生成量,讨论了多种因素的影响,得到了如下结果和结论。反应温度越高,则高岭土与HF之间的反应越快,形成水化硅沉淀的时间越短,最终生成的沉淀量越大;在HF中加入HCl(使用土酸体系)、减小土酸中HF质量分数、加大土酸中HCl、HF质量分数比,均可使生成沉淀时间延后,使最终生成沉淀量减少。60℃时300分钟沉淀量,在1.0%HF、5.0%HCl 1.0%HF、9.0%HCl 1.0%HF中分别为482、321、201mg/L。提出了在酸化设计与施工中可以采取的6条简便易行的减少水化硅沉淀量的措施。图4表1参6。     

万利达N-996型PDVD影碟机开关电源检修思路与实例

万利达N-996DVD影碟机电路中采用了MOS开关管,这类器件受雷电、AC高压(指AC电压升高)及静电的冲击下较易损坏,损坏后往往又会引起其它元件受损,对该开关电源的检修有一定的技巧。本文在上期《万利达N-996型PDVD影碟机开关电源原理》文章的基础上,重点介绍检修思路,希望能对读者     

液态金属离子源发射尖的制备工艺与技术

发射尖是液态金属离子源(LMIS)的关键部件之一，其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性。通过对系统软件和硬件的设计，开发了一套发射尖自动腐蚀装置，该装置可以对发射尖腐蚀过程中的速度和深度以及腐蚀电压进行控制，实现发射尖腐蚀工艺的重复性、可靠性，从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制、开发提供了一个有效的辅助工具。     

开关电源监控接口电路及故障修理

介绍了常用的开关电源监控RS232接口电路的工作原理，对监控单元上的RS232←→TTL电平转换电路进行了论述，并对此类接口电路的故障进行了分析，对修复此类故障保证开关电源数据的实时上报和通信设备的安全运行具有相当重要的意义。