智能型辅助绝缘垫

设计出一种电力变电所电力安全检修时绝缘垫的辅助装置,为具有检测报警功能的智能型绝缘垫.解决了工作人员无意间踩踏于安全位置以外而造成的安全隐患.     

连续进动气囊抛光行间距优化及实验研究

为提高和调控模具加工质量,针对行切法连续进动气囊抛光的行间距优化问题进行了仿真分析和实验研究。在取得优化进给速度和叠加次数的基础上,兼顾抛光效率与抛光效果,运用二分法原理,通过MATLAB仿真分析了行间距对气囊抛光材料去除特性的影响,获得了优化行间距D=8.2mm。基于建立的连续进动气囊抛光离线规划原型系统进行了实验对比验证,实验结果与仿真结果吻合。     

大尺度光学玻璃离散粒子抛光技术研究

分析大尺度光学玻璃加工工艺,说明离散粒子抛光是大尺度光学玻璃精密加工的关键工序.介绍各种离散粒子抛光方法内涵、发展过程与趋势,从加工精度、质量、效率角度进行重点评述.介绍目前正在进行研究的可控式磨料流体抛光原理、实现形式及现状.研究表明可控式磨料流体抛光是一种值得关注的离散粒子抛光方法.     

装载机销轴外窜分析及解决办法

1台ZL50型装载机在使用500h后,出现动臂与前机架铰接处的2个销轴外窜的故障。检查发现,2个销轴锁板已发生变形,严重影响整机性能及使用安全。经分析,造成该故障的原因,一是结构件加工误差过大,二是销轴和衬套磨损严重,三是动臂与机架铰接处轴向间隙过大。     

高精度内圆磨床液体静压导轨刚度计算

高精度内圆磨床采用了运行精度高、摩擦因数低、产生热变形小的液体静压导轨;作为磨床可移动部件与固定部件间的重要结合部分,液体静压导轨的刚度特性对磨床结构动态特性有着不可忽视的影响;介绍了液体静压支承的基本原理,计算了高精度内圆磨床进给系统采用液体静压闭式导轨对置油垫的刚度,并借助Matlab软件分析对置油垫刚度随供油压力、主油膜厚度、油腔宽度以及总间隙变化的规律,为液体静压导轨的刚度调整提供了理论依据。     

LED用蓝宝石衬底抛光技术进展

蓝宝石单晶衬底具有优秀的物理化学性质,作为LED的主要衬底材料,其晶片表面质量要求非常高,而加工工艺在很大程度上决定了表面质量。对蓝宝石衬底加工的各种工艺原理作简要介绍,如化学机械抛光、磁流变抛光、浮法抛光等,指出这些加工方法的优缺点、发展进程等。目前蓝宝石衬底的抛光质量已经达到:表面粗糙度0.1nm,平面度0.5μm。随着生产工艺的不断进步,数字化、全自动、绿色无污染的抛光工艺是未来蓝宝石衬底加工的发展方向。     

“一体式”垫架在综采刮板机机尾部护顶支架上的应用

针对陈四楼煤矿综采刮板输送机机尾部护顶支架难以实现同步前移的难题,特研制了一种新型高强度刮板输送机机尾“一体式”垫架.介绍了该机尾“一体式”垫架的结构及工作原理,进一步阐述了该结构的主要创新点.     

杏山铁矿主井井筒工作面预注浆技术

杏山铁矿主井井筒施工到-438m处（距井底还有43.8m）时,掘进工作面涌水量增大到了46.32m^3/h。由于涌水量太大,为确保井筒安全顺利到底,决定先停止掘进,进行工作面预注浆,封堵含水层涌水。注浆段高为52m,全段高下行压入式注浆。注浆后,井筒涌水量降到了5.8m^3/h,取得了很好的效果。     

水垫塘设计问题探讨

全混凝土衬砌的水垫塘造价较高,后期维护量大,因此有必要进一步探讨水垫塘的其它可能的结构方式。本文对无底板水垫塘、局部衬砌水垫塘以及二道坝采用过水堆石坝等问题的可行性进行了探讨。     

纳米CeO2颗粒的制备及其对硅晶片（100）和（111）的抛光性能

以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料,在微波辐射条件下,使用乙醇/水反应体系,通过均相沉淀法制备了纳米CeO2颗粒,利用X射线衍射仪（XRD）、透射电子显微镜（TEM）、傅里叶转换红外光谱仪（FT-IR）和比表面积测定仪（BET-N2）等手段对样品的成分、物相结构、形貌、颗粒大小以及团聚情况进行了表征.将所制备的纳米CeO2颗粒作为磨料用于硅晶片（100）和（111）的化学机械抛光,用原子力显微镜（AFM）观察抛光表面的微观形貌,测量表面粗糙度,并对抛光表面划痕进行了分析.结果表明,微波辐射以及乙醇/水反应体系均有利于制备出粒径更小、分散性更好的纳米CeO2颗粒,而且微波辐射能够显著加快反应速度;经纳米CeO2磨料抛光的硅晶片（100）和（111）表面非常平整,在2μm×2μm范围内的粗糙度Ra值分别为0.275 nm和0.110 nm,获得了具有亚纳米量级粗糙度的抛光表面.