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讨论了光滑或非均匀生长阴极表面的主要因素,这些因素包括溶液的电阻、金属离子到阴离子的扩散,其他组分到阴极的扩散,沉积表面的结构等。在恒电位和动电位条件下,利用低频和中频单极脉冲电流研究了镍在光滑和微观粗糙表面上的电沉积。 相似文献
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本文研究了一种Zn-Ti合金新镀层,经盐水浸泡、中性盐雾和大气暴露试验结果试验,其耐蚀明显超过镀Zn层,并与镀Cd层相近,用缺口持久拉伸试验检验氢脆性,拉伸持续时间超过200h,达到原航空部部颁标准(HB5067-85),该镀层适用于高强度钢防护。 相似文献
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一前言在电沉积过程中,电流密度的大小是影响镀层质量的主要因素之一,而目前在实际生产中主要的还是在经验的基础上来进行估算,精度差。此外,有时尽管有一个具有最佳性能的配方,由于电沉积生产周而复始的进行,各种因素的影响,镀液中各种成分都将发生变化,同时还有电网电压波动,温度的变化,都将使得电沉积过程中的电流密度发生改变。如何及时发现这种改变,并采取措施进行调整,使其复原,这是实现电镀过程控制和调节的主要 相似文献