熔敷金属扩散氢逸出特性研究

采用酒精法测量扩散氢 ,研究了焊条熔敷金属扩散氢含量以及在测氢过程中扩散氢逸出量与逸出时间的关系 (逸出特性 )。研究结果表明 ,熔敷金属扩散氢逸出特性受扩散氢含量、焊道数、熔敷金属化学成分和表面状态等多种因素的影响。熔敷金属扩散氢 (HDo)可以分为快速逸出扩散氢 (HDq)和慢速逸出扩散氢(HDs)两部分     

规则网络中的扩散和反应：Monte Carlo模拟研究（Ⅱ）规则…

对Ｔｅｏｄｏｒｏｕ和Ｗｅｉ所建立的模拟规则网络中简单异构化反应Ａ－Ｂ的Ｍｏｎｔｅ Ｃａｒｌｏ方法作了某些改进后，考察了随机孔道堵塞和均匀孔道堵塞对反应表观速率和有效因子的影响，以及网络大小，网络占有率因子的影响。     

DVB-H中高效PRBS的实现研究

本文介绍一种不同于传统的PRBS处理方式,该方法基于Verilog HDL语言,用于改进传统的PRBS串行处理方式,以实现DVB-H/DVB-T传输系统中高效的PRBS的并行处理,提高系统性能.     

用激光激发荧光的水流层析X射线摄影法

激光激发荧光（ＬＩＦ）与层析Ｘ射线摄影法相结合，用于绘制紊流的三维浓度场图象。空间分辩度观测精度可小至粘滞长度，而时间分辨度则为时间上研究这种浓度场的发展开辟了新的前景。     

硬质合金与铁基复合材料热等静压扩散连接

以烧结结态硬质合金和粉末态铁基复合材料为连接对象，研究了两种材料的热等静压扩攻连接工艺，获得了直接连接接头和加镍作中间过渡层的间接连接接头，考察了接头的结合界面形貌，界面的元素扩散和界面结合强度。     

ZhP－30型氦质谱检漏仪的设计特点和性能

ＺｈＰ－３０型氦质谱检漏仪采用涡轮分子泵真空系统，以逆扩散方式检漏；只有一个操作手柄的组合阀可完成预抽、检漏和放气的全部功能；取代传统的冷规，用总离子流测量质谱室压强并提供对灯丝的过压保护．本文给出分子泵作检漏用的各项特性。仪器最小可检漏率＜５×１０（－１１）Ｐａ·ｍ３／ｓ．     

Cr/SiO_2界面还原反应研究

利用俄歇电子能谱研究了Cr／SiO2薄膜在热处理过程中的界面扩散反应机理、界面反应动力学过程及界面反应产物。研究结果表明，Cr／SiO2体系的界面还原反应主要是Cr与SiO2的反应，其还原反应产物是CrSix和Cr2O3物种。界面还原反应的速度与反应时间的平方根成正比，其界面还原反应过程受Cr向SiO2层的扩散过程所控制，界面还原反应的表观活化能为72．5kJ／mol（约0．75eV）。     

06NiCuCrMoNb钢高温加热时表层铜的行为

将06NiCuCrMoNb钢试样在不同的加热温度保温不同时间后，观察并分析试样表层的形貌和成分。结果表明，在一定条件下铜会扩散进入表层奥氏体晶界，得到沿奥氏体晶界分布的富铜相，并在热变形加工时导致热脆。试验得到了沿奥氏体晶界分布的富铜相与加热温度和保温时间的关系。     

多层气敏薄膜表面吸附及界面扩散的研究

制备了ＳｎＯ３／ＺｎＯ及ＺｎＯ／ＳｎＯ３多层结构的气敏薄膜，用能谱结合氩离子刻蚀的方法及Ｘ射线衍射法，对薄膜的表面吸附。膜间的相互与组成等进行了研究，结果表明：薄膜表面存在少量的吸附多层膜中锌的扩散远比锡一个模型，对吸附现象作了初步的解释，讨论了造成锌锡扩散的原因。