相对压强对白炭黑氮吸附表面积测试稳定性的影响

研究相对压强对白炭黑氮吸附表面积测试稳定性的影响。结果表明:在相同液氮纯度、脱气温度、脱气时间、氮吸附点数量条件下,与相对压强范围为0.05~0.1时相比,相对压强范围为0.05~0.2时白炭黑的氮吸附表面积测量值偏低,且差值随氮吸附表面积的增大呈增大趋势;相对压强范围较小时,氮吸附表面积测试结果的线性相关因数较大,再现性较好,测试结果较稳定。     

碱性阻挡层抛光液中ULK介质抛光性能的研究

研究了化学机械抛光(CMP)过程中抛光液的SiO₂磨料质量分数和表面活性剂对多孔SiOCH薄膜(ULK介质)介电常数(k)及抛光速率的影响。所用抛光液(pH=10)主要由0%~4%(质量分数,下同)SiO₂、0.075%H₂O₂、1%邻苯二甲酸氢钾和不同质量浓度的表面活性剂组成,其中表面活性剂为非离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO-9和AEO-15)、阴离子表面活性剂十二烷基硫酸铵(ADS)和两亲性非离子表面活性剂辛基苯酚聚氧乙烯醚(OP-50)。结果表明,磨料质量分数的增大会使ULK介质的去除速率和k值都增大。聚醚类表面活性剂都能在CMP过程中很好地保护ULK介质表面,降低其去除速率,OP-50的效果尤其好。当采用2%SiO₂+0.075%H₂O₂+1%KHP+200 mg/L OP-50的抛光液进行CMP时,ULK介质的去除速率为5.2 nm/min,k值增幅低于2%,Cu和Co的去除速率基本不变。     

镁基复合材料微区力学状态的有限元分析

弹性变形范围内,在采用三维有限元模型分析了颗粒增强Mg基复合材料(PRMMCs)中,颗粒的分布形态对材料微区力学状态的影响。结果表明,在保持颗粒长径比(2:1)和颗粒间距(d)不变的情况下,随着θ的变化,不存在颗粒断裂的危险,材料的主要失效方式为界面脱离和基体开裂。增强体相对夹角θ=15o时的结果优于其它情况,这更有利于充分发挥材料的性能。     

日使用超临界CO2消除残留的光刻胶

日本索尼公司最新开发成功使用超临界CO2消除在制备超大规模集成电路过程（VLSIs）中的干燥-蚀刻残留的光刻胶。据这家电子设备制造商称：上述技术能使VLSIs的低介电常数层间薄膜和底板不受损伤。     

工业石蜡的结构分析

采用核磁共振（NMR），红外吸收光谱（IR）和色－质联用（GC－MS）方法，测定了弓弩用工业石蜡的^13C-NMR谱、反转门控^13C-NMR谱、IR光谱、气相色谱和各组分的质谱，确定了该石蜡9种主要组分及其相对含量。     

GDX-102色谱柱测定T-103塔尾气中的丙烯腈

用GDX-102色谱柱测定T—103塔尾气中的丙烯腈，相对标准偏差为0．4094％。数据准确、可行。     

大型机械轴承相对标高测试系统

介绍了一种使用连通管、电涡流传感器测量轴承相对标高的测试系统,它能准确测量大型机械相邻轴承的相对标高变化.文中叙述了其测量原理、特点以及系统的硬件电路和软件设计,最后给出一个测试实例,并对测量结果进行了简要分析.     

“绿色”聚氨酯清洗溶剂

近期国外一种名为Upaco 5SZ-0554的“绿色”聚氨酯清洗溶剂问世，它可用于喷涂双组分胶黏剂和涂料等管子和喷嘴的冲洗。这种溶剂相对密度1．03～1．05．闪点59℃，沸点154℃，挥发速度相当于乙酸乙酯的22倍，气味温和，