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73.
《中国电子商情》2006,(2):86-87
日前.Vishay Intertechnology宣布推出VSMP系列超高精度表面贴装Bulk MetalZ箔(BMZF)电阻.这些是业界率先在70℃时具有750mW高额定功率并且具有低至&;#177;0.005%的长期稳定性、低于土0.2ppm/℃的超低典型TCR、在额定功率时&;#177;5ppm的出色PCR及&;#177;0.01%低容差等特性的器件。  相似文献   
74.
火炮身管内表面激光硬化处理的实验研究   总被引:2,自引:1,他引:1  
王扬  邓宗全  齐立涛 《兵工学报》2003,24(4):476-478
提高身管寿命是火炮行业亟待解决的关键技术问题,激光表面改性技术是解决这一问题的有效方法之一。本文在分析激光表面相变硬化性能的基础上,对身管内表面进行了激光硬化处理实验研究,检测了其内表面阳线和阴线的硬化层硬度和深度,对比分析了离焦量和焦深对其内表面硬化层硬度的影响,并对激光相变硬化层金相组织进行了分析。经激光硬化处理后,身管的内表面硬度有明显提高,硬化层较深,且为很细的条状马氏体组织。  相似文献   
75.
用荷兰阳离子表面活性剂Arquad2HT鄄75与P2O5组合对复筛原糖浆进行气浮清净试验并与其它的组合进行比较。实验结果表明:2HT鄄75与P2O5的组合最优。在实验条件下,2HT鄄25添加量500×10-6,可取得较佳的清净效果。  相似文献   
76.
提高焊膏印刷质量的工艺改进   总被引:1,自引:0,他引:1  
杨晓渝 《微电子学》2003,33(5):419-421
焊膏印刷作为SMT工艺的第一步,其质量好坏对SMT工艺有着重要影响。文章通过对焊膏成分、特性的分析,讨论了印刷中各种工艺参数的正确选择;对焊膏印刷中容易出现的质量问题进行了详细分析,指出了产生问题的原因,提出了改进措施。  相似文献   
77.
一种微透镜阵列的研制   总被引:1,自引:0,他引:1  
杨修文  祝生祥  谢红  路素彦 《光电子技术》2003,23(3):170-172,181
介绍一种利用表面张力的作用、以光纤作材料、用分离的自聚焦透镜制作微透镜阵型的方法,这种方法具有制作工艺简单、无须昂贵设备等优点,用此方法实际制作了具有良好连续面型的微透镜阵列,并对制作的微透镜阵列进行了测试,效果较好。  相似文献   
78.
从20世纪80年代早期——表面贴装技术(SMT)的出现,人们便开始围绕组装工艺中塑料封装IC器件的湿度敏感性这一严重问题展开了讨论。湿气会扩散到电子封装里面去,这是一个复杂的现象,在制造过程中,受潮的器件不能直接进行回流焊接。许多PCB组装人员经常会误解湿度敏感现象的本质及其工艺指导原则。在生产现场正确地遵循工艺指导原则,是对生产工艺的一个巨大挑战。10年前,我们在ESD(Electrostatic Sensirive Devices静电敏感器件)面前不知所措,而今我们又在MSD面前似乎显得束手无策。随着MSD器件在PCB组装厂中用量的慢慢增长,为了提高电子产品的可靠性,无疑又一次向我们提出了新的挑战。  相似文献   
79.
大块非晶合金的性能、制备及应用   总被引:4,自引:0,他引:4  
综述了大块非晶合金的性能、制备方法及应用,对比了吸铸法制备的棒状Zr41.2Ti13.8Cu12.5Ni10Be22.5,Zr57Cu20Al10Ni8Ti5,Zr52.5Ti5Cu17.9Ni14.6Al10(原子分数)大块非晶样品的过冷温度区间宽度(△Tx),给出了3种大块非晶合金系列的热稳定性参数Tg、Tx及△Tx,提出了大块非晶合金领域存在的问题及发展方向.  相似文献   
80.
Au/NiCr/Ta多层金属膜通过磁控溅射沉积在Si(111)基片上。XRD分析其晶体取向,SEM观察薄膜断面形貌,AFM研究薄膜表面粗糙度。结果表明薄膜表面粗糙度与沉积温度有关,随着沉积温度100℃→250℃的改变,薄膜表面发生从粗糙→光滑→粗糙的变化过程。根据不同的沉积温度探讨了薄膜表面粗糙化机理。  相似文献   
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