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在穿透硅通孔(TSV)工艺中,研究了碱性抛光液组分的组合方式和抛光液的稀释倍数对硅衬底去除速率的影响。分析了硅衬底的去除机理;研究了抛光液对Si/Cu去除速率的选择性;研究了抛光液的存储时间不同时pH值和硅衬底去除速率的变化。该抛光液通过在硅溶胶中依次加入表面活性剂、无机碱、有机胺碱,再用去离子水稀释15倍配制而成,并应用于TSV图形片。实验结果表明:该抛光液对硅衬底的去除速率较高,达到1.045 μm/min;采用该抛光液对TSV图形片抛光120 s后,铜柱露出2 μm;抛光液储存时间30天后,硅衬底去除速率仅损失1.3%。该碱性抛光液满足半导体制造行业要求。 相似文献
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《现代表面贴装资讯》2009,(6):52-52
OK国际最近推出的可同时使用内外预加热器进行快捷、方便分析的新软件,已进一步加强其APR-5000XL/XLS芯片返修系统的能力。 相似文献
64.
本文阐述了不锈钢复合板的焊接性,对其焊接接头缺陷产生的原因进行了探讨,并结合实践经验对不锈钢复合板的返修措施进行了总结,可供同行参考借鉴. 相似文献
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OK Internationa(lOK公司)推出全新设计的网站www.metcal.com,以配合其首要产品Metcal MX-5000焊接、解焊和返修系统的发布。全新网站具有最新的网络设计和在线技术,为客户提供了获取Metcal产品信息、交互式材料和视频演示的直接途径。 相似文献
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《现代表面贴装资讯》2013,(3):28-28
VJ Electronix有限公司将在NEPCONSouthChina2013的Kasion展位(1H43)上展出全新的VertexII下一代X射线技术及高性能SRT Micra返修平台。 相似文献
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通过对总装车间内返修工艺的介绍,着重分析了整车厂总装生产过程中,应如何对返修这一工艺环节实现标准化、受控化管理.阐明了我们应如何在有限的投入下,提高返修工艺环节的纠错效果及其重要意义. 相似文献
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《现代表面贴装资讯》2010,(3):61-61
X射线检测技术和返修技术领先厂商VJ Technologies公司日前宣布,其边缘连接器组装工具(ECAT)回流焊系统已荣获2010年维修/返修设备类的EM Asia创新奖。2010年4月21日,在上海光大国际大酒店举办的颁奖典礼上,VJ Technologies公司领取了奖杯。 相似文献
70.
《电子工业专用设备》2009,(12):58-58
法国马锡--(美国商业资讯)--Alchimer有限公司(Alchimer S.A.)是半导体互连部件和三维硅通孔(TSV)纳米薄膜沉积技术的领先提供商。公司日前宣布,在硅通孔的形成方面取得了一项突破性的进展,可免去传统金属化步骤之中的一步操作。 相似文献