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无掩模光刻技术的前景 总被引:6,自引:1,他引:6
介绍了无掩模光刻技术的现状、存在的问题和前景展望;说明了无掩模光刻技术的最大优点即是降低掩模成本;同时还介绍了电子束光刻技术及其改进。 相似文献
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造伪问题日趋严重,许多安防部门正在积极寻找先进工具,以帮助防伪人员识别欺诈行为,如护照、身份证、信用卡和钞票等的真伪识别.现行的防伪方法都有缺陷,均要求在被识别物体上加水印、全息图及射频ID芯片. 相似文献
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65.
《电子工业专用设备》2010,(12):57-57
SUSS MicroTec AG的全资子公司HamaTech APE GmbH & Co.KG宣布,已接到几十份MaskTrack Pro设备订单。MaskTrack Pro于2009年投产,是用于下一代光刻领域的完整掩模流程平台。 相似文献
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山东浪潮电子设备有限公司 《信息技术与标准化》2002,(11):20-21
浪潮集团有限公司是国内最早涉足信息产业的大型企业之一,在全国电子百强中排名第20位,是国家和山东省重点扶持的骨干企业。经过多年的艰苦创业和技术创新,浪潮已经发展成为拥有两家上市公司的IT高端产业集团,是INTERNET时代设备与方案的领先供应商,是首批40家国家级技术开发中心之一、国家高技术“863”成果转化基地、国家支持的5家计算机、全国18家微电子设计中心之一,通过了ISO9001国际质量体系认证及ISO14001国际环境体系认证。集团拥有国家级“企业博士后工作站”。根据国务院关于加快实施“金税工程”建设的精神,以及李… 相似文献
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