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91.
利用CO_2连续激光器在45钢表面进行了激光熔敷镍基合金、镍基Cr_2O_3合金和镍基WC合金,以2Cr13不锈钢为对比材料,系统地研究了激光熔敷层在不同冲击速度和腐蚀介质浓度下的腐蚀磨损特性,并根据组织分析、显微硬度测试及腐蚀磨损后的表面形貌观察,探讨了激光熔敷层的腐蚀磨损过程。结果表明:激光熔敷层的腐蚀磨损性能均比2Cr13不锈钢好。 相似文献
92.
93.
介绍了国内首次研制的光缆CATV用1.3μmDFB激光器组件。组件工作频带达到1GHz,带内起伏〈1dB,组件的RIN〈-153dB/Hz;出纤光功率〉2mW,载噪比CNR〉50dB。首次实现用低反射尖锥端光纤的DFB激光器耦合。 相似文献
94.
95.
军事和空间技术的要求促进了微光技术的发展。微光图像实时处理技术是夜技术今后发展的重要方向,本文针对微光图像与脉冲激光测距仪的数据信息实时融合与显示的方法及其实现进行了研究。给出了系统框图及工作原理,为实现探测识别、跟踪的实时性、智能化和微型化,从而为研制新一代战术侦察与火控系统提供了具体有效的技术基础。 相似文献
96.
97.
研究了热传导方程的通解,进而提出激光热源形成的微观机理和热源形成过程的三个理论计算式。对激光热效应的应用具有指导意义。 相似文献
98.
Higher resolution can be achieved in lithography by decreasing the wavelength of the exposure source. However, resist material
and their processing are also important when we move to a shorter wavelength lithography technology. This paper reviews the
recent development and challenges of deep-UV photoresists and their processing technology. 相似文献
99.
光刻胶灰化工艺与深亚微米线条的制作 总被引:5,自引:1,他引:4
随着器件尺寸的缩小,细线条的制作成为很关键的工艺,普通光学光刻已接近其分辨率的极限,而电子束光刻和X射线光刻技术复杂、费用昂贵。本文对光刻胶灰化工艺进行了分析和研究,并应用此工艺进行了深亚微米线条的制作,在普通光学光刻机上制作出宽度小于0.25μm细线条。我们已将此工艺成功地应用在深亚微米MOSFET的制作中。 相似文献
100.
非冲击式印刷和热敏成像技术的发展概述 总被引:7,自引:4,他引:3
本文概述了NIP印刷的特点,类型和发展背景,着重介绍了NIP印刷中热敏成像技术的发展历程,热敏成像材料的分类及热成像用热源的新发展。 相似文献