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21.
以沥青焦为原料,KOH为活化剂在不同的工艺条件下制备了双层电容器用活性炭电极材料。分别考察了活化剂用量、活化时间、以及加入Cu、Ni催化活化等工艺条件对活性炭孔结构及作为双电层电容器电极的电化学性能的影响。结果表明:在实验范围内增加KOH用量及活化时间,活性炭的比表面积和比电容增加,比电容最高达到247F/g。添加Cu、Ni催化活化后活性炭的比表面积及比电容增加,高功率放电性能明显改善。  相似文献   
22.
舒志兵  严彩忠 《机床与液压》2007,35(10):149-151
在研究基于工业以太网的现场网络化控制系统结构的基础上,提出了一种基于嵌入式控制器的网络化运动控制实验平台的设计和实现方案.介绍了一种文型高级运动控制语言ELMO Studio 语言及其编译系统.这种语言采用类似C语言的结构形式,包括了 PLC和运动控制器指令,实现了两种指令的统一编程.  相似文献   
23.
交流阻抗法在凝汽器黄铜管腐蚀研究中的应用   总被引:2,自引:1,他引:2  
探讨交流阻抗法研究凝汽器黄铜管在循环冷却水系统中的腐蚀问题.采用热电厂实际使用的黄铜管制作管状传感器,利用交流阻抗法在同种材料三电极体系电解池中测量传感器的电化学阻抗谱,并与经典三电极体系电解池下的数值作比较.结果表明,实验室数据与现场测试数据基本吻合,交流阻抗法可以提供凝汽器黄铜管在循环冷却水系统中的年腐蚀速率和极化电阻,帮助现场工作人员及时了解凝汽器黄铜管的腐蚀状况.交流阻抗法可以有效地评定黄铜管的耐腐蚀性能,为现场腐蚀监测,进而指导生产提供了有益信息.  相似文献   
24.
基于触摸屏的分布式伺服控制系统研究   总被引:2,自引:1,他引:2  
传统的生产和检修设备大多采用继电器控制,操作复杂、故障点多、可靠性及可信度低、设计周期长、投资回收慢。与此同时随着自动化领域对人机界面要求的提高,触摸屏在这领域得到越来越广泛的应用。论文以现场总线控制系统理论和触摸屏幕应用理论为基础,介绍了一种基于RS232通讯协议的HITECH触摸屏与分布式控制系统的通讯方法,采用现场总线控制系统的设计思想,设计并实现了一个基于PWS6600、CAN总线和以太网的多电机的伺服控制系统。  相似文献   
25.
重离子装置中的加速器磁体均服役在±2.25T/s的高速脉冲条件下,因此要求该种磁体所用的超导线材具有较高的临界电流和较低的损耗。针对项目需求,本文设计及制备了两种新型结构的NbTi/Cu5Ni超导线材,芯数分别为12960芯和10800芯、铜比2.0、芯丝直径均小于5 μm。系统研究了两种新型结构超导线的芯丝截面形貌、芯丝表面形貌、磁滞损耗及不同时效热处理下的临界电流密度和n值。通过优化工艺后获得了Jc(5 T、4.2 K)为2902 A/mm2,Qh(4.2 K,± 3T)为34.2 mJ/cm3 的千米级NbTi/Cu5Ni超导长线,并可实现批量化生产,为重离子装置的研制提供材料基础。  相似文献   
26.
循环冷却水中微生物对黄铜管的腐蚀影响   总被引:3,自引:0,他引:3  
采用交流阻抗(EIS)测试技术,研究了电厂循环冷却水中微生物对黄铜腐蚀行为影响。结果表明黄铜电极在有菌培养基溶液中浸泡初期,电极表面形成的生物膜抑制了黄铜的腐蚀,随着浸泡时间的延长,生物膜内微生物的代谢活动和代谢产物促进了黄铜的腐蚀。提出了在无菌和有菌培养基溶液中所测得的EIS的等效电路,并计算了相应的等效电路参数。  相似文献   
27.
李宪政 《电焊机》1998,28(6):31-33
论述并分析了交流弧焊机初级串接电容后对焊机空裁状态各性能参数的影响,通过实验证实了理论分析是正确的。对于交流弧焊机的应用有实际的指导意义。  相似文献   
28.
本文用交流阻抗方法研究了熔融Sn-S/ZnCl2-NaCl体系界面脱硫反应动力不过程,得到了该体系的阻抗响应图。通过用Randles等效电路,将所得的阻抗响应用非线性最小二乘法拟和,得到了Sn-S/ZnCl2-NaCl体系界面脱硫反应动力学的参数,溶液电阻Re,界面反应电荷传递电阻Rct双电层电容Cd及界面脱硫反应的速率常数kf。  相似文献   
29.
唐为民 《电焊机》1989,(4):2-3,44
提出一种用可控硅代替节能开关中的接触器的节能防触电交流弧焊机。该机引弧动作快,有较好的焊接适应性,为造船、建筑、桥梁和矿山等工业部门提供了较理想的交流弧焊机。  相似文献   
30.
高精度力传感器信号直接数字化技术研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
针对目前国内通用的称重传感器存在的信号传输距离短、组网能力有限、二次放大引入误差等问题,提出了一种将力传感器信号直接数字化的技术,将应变电桥式称重传感器的输出信号直接数字化后,通过RS485方式进行传输,解决了传输距离短和组网容量小的问题。经实验验证系统精度达0.15μV/20mV(百万分之7.5),且具有线性度、重复精度好等特点。  相似文献   
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