全文获取类型
收费全文 | 100696篇 |
免费 | 7142篇 |
国内免费 | 6469篇 |
专业分类
电工技术 | 8035篇 |
技术理论 | 3篇 |
综合类 | 6896篇 |
化学工业 | 20590篇 |
金属工艺 | 6216篇 |
机械仪表 | 7651篇 |
建筑科学 | 3697篇 |
矿业工程 | 1425篇 |
能源动力 | 3477篇 |
轻工业 | 6570篇 |
水利工程 | 645篇 |
石油天然气 | 4410篇 |
武器工业 | 895篇 |
无线电 | 13209篇 |
一般工业技术 | 10696篇 |
冶金工业 | 2495篇 |
原子能技术 | 1169篇 |
自动化技术 | 16228篇 |
出版年
2024年 | 285篇 |
2023年 | 1293篇 |
2022年 | 2247篇 |
2021年 | 2667篇 |
2020年 | 2371篇 |
2019年 | 2360篇 |
2018年 | 2219篇 |
2017年 | 2886篇 |
2016年 | 3119篇 |
2015年 | 3251篇 |
2014年 | 4632篇 |
2013年 | 5415篇 |
2012年 | 5751篇 |
2011年 | 6916篇 |
2010年 | 5739篇 |
2009年 | 6577篇 |
2008年 | 6359篇 |
2007年 | 6967篇 |
2006年 | 6711篇 |
2005年 | 5538篇 |
2004年 | 4828篇 |
2003年 | 4630篇 |
2002年 | 3819篇 |
2001年 | 3071篇 |
2000年 | 2735篇 |
1999年 | 2149篇 |
1998年 | 1560篇 |
1997年 | 1246篇 |
1996年 | 1165篇 |
1995年 | 1176篇 |
1994年 | 1051篇 |
1993年 | 893篇 |
1992年 | 682篇 |
1991年 | 416篇 |
1990年 | 295篇 |
1989年 | 291篇 |
1988年 | 200篇 |
1987年 | 125篇 |
1986年 | 123篇 |
1985年 | 87篇 |
1984年 | 76篇 |
1983年 | 53篇 |
1982年 | 54篇 |
1981年 | 62篇 |
1980年 | 30篇 |
1979年 | 26篇 |
1978年 | 27篇 |
1977年 | 23篇 |
1976年 | 27篇 |
1975年 | 21篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
111.
续竞存 《固体电子学研究与进展》1996,16(3):254-258
用电荷控制及热电子弹道运动模型计算InAs/InP0.7Sb0.3热电子晶体管的截止频率fT及最高振荡频率fmax。结果表明,fT、fmax分别达到280GHz及600GHz。并指出,通过生长GaSb中间层,InAs/InP0.7Sb0.3HET可在GaAs衬底上实现单片集成。 相似文献
112.
介绍了调剖剂XJF的配方,讨论了影响调剖剂性能的配方因素(膨润土含量、HPAM溶液浓度、XJ用量及添加剂Fc的浓度),考察了封堵能力和应用范围,简介了在火烧山油田现场试验的结果。 相似文献
113.
114.
115.
文章报道了用分子束外延(MBE)法在600℃和650℃下,在Si掺杂的GaAs衬底的(311)A和(311)B面上成功地生长了高质量的AlxGa1-As/GaAs单量子阱材料。计算了光荧光(PL)峰值能量,并与实验作了比较。讨论了(311)A和(311)B面上的不同生长特性。 相似文献
116.
由于器件的快速退化,101.5小时似乎成了Znse基蓝绿色半导体激光器难于逾越的寿命极限。分析退化机制,发现在强电流注入的半导体激光器中,热退化具有重要影响。研究表明,用作载流子限制层的宽带Ⅱ-Ⅵ族四元合金(如ZnMgSSe)只能对ZnSe中的电子有效地限制,无法对空穴很好地限制;而对BeTe,却只能对空穴进行有效的限制,无法对电子很好地限制。这导致ZnSe(或BeTe)活性层空穴(或电子)漏电发热,引起退化。本文提出以ZnSe/BeTe超晶格为蓝绿发光层,并用包络函数理论具体计算了阱宽、垒宽对载流子能级的不同影响,考察了ZnSe、BeTe厚度比和超晶格周期对带隙、载流子限制能力的调节。为研制新型长寿命蓝绿色半导体激光器提供了一条新的途径。 相似文献
117.
118.
客户机/服务器计算环境 总被引:3,自引:0,他引:3
本文介绍了客户机/服务器计算环境的基本概念和产生背景,阐述了客户机/服务器计算中操作系统的选择原则及企业级客户机/服务器计算环境的特点。 相似文献
119.
120.
文章简要地介绍了InGaAs/InP PIN PD阵列的制作现状及其应用和发展趋势。 相似文献