包层折射率均匀调制LPFG光谱特性研究

介绍了光纤光栅发展的过程,阐述了光纤光栅的各种常用写制方法以及目前LPFG的发展现状,分析了耦合模理论;基于耦合模理论在纤芯折射率均匀调制的LPFG中的应用,利用Matlab软件对LPFG的光谱进行模拟,将耦合模理论进行修改,给出了单侧写制的LPFG的光谱图,提出了多侧写制LPFG的模型及曝光均匀度的概念。     

全彩色LED显示屏的计算机辅助调校方法

阐述了全彩色LED显示屏的结构与基本工作原理,并根据人的视觉特点和LED的显示特性,给出了用笔记本式计算机和SpyderTV套件调校全彩色LED显示屏的方法,包括调校前的基本设定以及精确地检测全彩色LED显示屏画面的色温、亮度、对比度、色饱和度、色调等光度特性.应用表明,该方案具有很高的可靠性与易用性,经过调校的金彩色...     

Development of a large area plate-to-plate type UV imprinting tool

A UV imprint lithography tool has been developed for micro/nano-scale patterning in an extremely large area, i.e., ∼300 × 400 mm². To achieve high pattern fidelity, residual-layer thickness uniformity, and an air bubble-free layer in a large area, the UV imprint tool has several main components including a silicon rubber uniform pressurizer, a large area UV-LED module, a vacuum pump, a chuck module, etc. Contact and structural analyses have been performed using commercial FEM packages such as LS-DYNA and ANSYS. The developed tool has been tested, and its performance indices including pattern fidelity and residual-layer thickness uniformity have been measured to be ∼97% and ∼90%, respectively.     

n型高阻硅单晶电阻率均匀性的控制

通过不同工艺的拉晶实验,发现晶转、拉速、热对流等因素对高阻n〈111〉硅单晶径向电阻率均匀性有所影响.采用水平磁场拉晶工艺,通过提高晶转、增大拉速、减小热对流等,可有效提高硅单晶径向电阻率均匀性.     

一种改善LED显示屏亮度均匀性的算法

基于显示屏控制技术与校正原理,提出了一种改善LED显示屏亮度均匀性的算法.通过CCD相机采集显示屏RGB图像,用数学形态学和模板匹配法确定灯点的位置并根据发光区域的灰度值计算其相对亮度,生成每个灯点的校正参数,用脉冲宽度调制控制灯点的亮度.实验结果表明提出的算法能有效改善显示屏的亮度均匀性,提高显示屏的显示质量并延长其使用寿命.     

湿法刻蚀FI CD均一性的影响因素及提高刻蚀均一性的研究

随着高分辨率产品导入,TFT-LCD阵列段各项参数范围越来越小,工艺要求更为严格,为了更好地管控湿法刻蚀各项参数,本文以湿法刻蚀FI CD(Final Inspection Critical Dimension)均一性的影响因素及如何提高FI CD均一性为目的进行研究。首先,通过对湿法刻蚀设备参数(主要包括刻蚀液温度、流量、压力、浓度、Nozzle Sliding、Oscillation Speed、刻蚀时间等)进行试验,验证各项参数对FI CD均一性的影响。其次,对沉积工序、曝光工序以及产品设计等进行试验,获悉影响因素并进行改善。通过对湿法刻蚀设备自身参数的调整,如减少设备温度、流量、压力波动,使参数保持相对稳定状态,可有效改善湿法刻蚀FI CD均一性,FI CD的均一性可从1.0降低至0.5。通过对湿法刻蚀设备参数进行试验并做相应调整,湿法刻蚀FI CD均一性改善效果显著。     

多孔硅薄膜的纵向均匀性及其光学特性研究

多孔硅样品使用脉冲电化学腐蚀法经过不同的腐蚀时间制备完成,使用反射光谱、光致发光光谱和SEM对多孔硅薄膜的纵向均匀性以及其光学特性进行了研究,还详细研究了随腐蚀深度变化的折射率和光学厚度(n*d)等光学参数。实验表明：随着腐蚀深度的增加,多孔硅薄膜的平均折射率n降低,即多孔度变大;多孔硅薄膜的光学厚度的形成速度减小;同时,反射光谱表现更弱的干涉性,表明薄膜的均匀性和界面的平整性变差;另外,光致发光谱的强度微弱变强。     

地地战术导弹集束战斗部抛撒均匀性判定方法

简述了地地战术导弹集束战斗部抛撒均匀性判定问题 .对一种类型的集束战斗部的抛撒均匀性判定方法进行了分析 .结合实际工作运用 ,提出了注意事项 ,为其他类似的集束战斗部抛撒均匀性判定提供一种借鉴     

真空炉温度均匀性测量的数值模拟研究

热电偶是检测真空炉温度均匀性的常用计量器具,但目前热电偶的几何特性及发射率对炉温均匀性检测影响方面的研究较少.本文利用数值模拟方法研究了热电偶发射率和直径对真空炉温度均匀性检测的影响,结果表明直径和发射率对常用规格热电偶稳态温度影响量级相当.开展零维模型分析,结果表明热电偶温度对直径和发射率相对变化率的敏感性相等,验证...     

RSD Requirement for Different Sample Size for Blend Sampling

A formula for calculating the equivalent relative standard deviation (RSD) for different sample sizes other than the Office of Generic Drugs (OGD) draft guidance was derived. These critical values vary with the population RSD and the sample size and guarantee the same confidence of passing a batch similar to the OGD blend uniformity test. Simulation results showed that the normal approximations give very close results to the simulation results. An assessment of the proposed OGD blend uniformity criteria against the first-stage USP content uniformity (CU) criteria for tablets was also made.