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991.
Properties of TiO2 Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering 总被引:6,自引:0,他引:6
With rapid progressive application of TiO2 thin films,magnetron sputtering becomes a very interesting method to prepare such multi-functional thin films.This paper focuses on influences of various deposition processes and deposition rate on the structures and properties of TiO2 thin films.Anatase,rtile or amorphous TiO2 films with various crystalline structures and different photocatalytic,optical and electrical properties can be produced by varying sputtering gases,substrate temperature,annealing process,deposition rate and the characteristics of magnetron sputtering.This may in turn affect the function of TiO2 films in many applications.Furthermore,TiO2-based composites films can overcome many limitations and improve the properties of TiO2 films. 相似文献
992.
993.
工作气压对磁控溅射ZAO薄膜性能的影响 总被引:7,自引:0,他引:7
工作气压在ZnO∶Al(ZAO)薄膜制备过程中是一个重要的工艺参数,直接决定着薄膜的性能。本文利用中频交流磁控溅射方法,采用氧化锌铝(ZnO与Al2O3的质量比为98∶2)陶瓷靶材,在基体温度为250℃,工作气压范围为0.2~8.0Pa条件下,制备了ZAO薄膜。利用X射线衍射仪和原子力显微镜对薄膜的结构和形貌进行了分析和观察,利用分光光度计和霍尔测试仪测量了薄膜的光学和电学性能,研究了制备薄膜时不同的工作气压(氩气压力PAr)对薄膜的结构、形貌、光学性能和电学性能的影响。结果表明:随着工作气压的增加,薄膜的电阻率先略有下降然后上升,相应地,载流子浓度和迁移率先略有上升然后下降,而可见光谱平均透过率保持在80%以上。当基体温度为250℃,氩气压力为0.8Pa时,薄膜的电阻率最低,为4.6×10-4Ω·cm,方块电阻为32Ω时,在范围为490~600nm的可见光谱内的平均透过率可达90.0%。 相似文献
994.
电子束蒸发与磁控溅射镀铝的性能分析研究 总被引:7,自引:0,他引:7
通过对半导体器件电极制备的两种方法即电子束蒸发与磁控溅射镀铝的比较,详细分析了两种方法的膜厚控制、附着力,致密性、电导率和折射率等重要性能指标,测试结果分析表明磁控溅射铝膜的综合性能优于电子束蒸发。 相似文献
995.
996.
靶功率对PEMSIP法TiN涂层相组成的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
随着靶功率减小等离子体增强磁控溅射离子镀(PEMSIP)TiN涂层的相组成朝着富氮相及其含量增加的方向发展。靶功率对膜层硬度的影响主要是膜层相组成变化而引起的,由Ti_2N和TiN两相组成的膜硬度最高。由Ti_2N和TiN两相组成的刀具涂层使切削力下降,明显提高刀具耐用度。 相似文献
997.
998.
999.
新型磁控溅射法合成C_3N_4/TiN复合膜 总被引:3,自引:0,他引:3
本工作采用在封闭型非平衡磁场dc磁控溅射系统中增加对阴极的方法制备C3N4/TiN复合交替膜,用获得的TiN对进行C3N4强迫晶化,X射线衍射(XRD)和电子衍射(TED)分析表明生成了立方氮化碳(c-C3N4)。交替膜的界面处有TiC的生成。 相似文献
1000.
将水热合成的羟基磷灰石(HA)粉与20 wt%Ti粉混合,冷压烧结成靶材。采用射频磁控溅射方法,在工业纯钛基体上沉积TiO2/HA生物薄膜,通过扫描电镜(SEM)及其能谱(EDS)、X射线衍射(XRD)和差热分析仪(TDA)对膜层进行了表征,探讨了溅射膜的晶化工艺。结果表明:由于选择溅射和OH-损失,溅射膜由TiO2晶体颗粒和非晶钙磷化合物组成,且其Ca/P比降低。经700℃,0.5 h水蒸气处理,非晶钙磷化合物结晶度大大提高,并部分转化为HA晶体,且处理后的溅射膜与基体间无裂纹。 相似文献