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1993年 | 1篇 |
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纳米光刻中莫尔对准模型与应用 总被引:1,自引:1,他引:0
在纳米光刻中,采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记.当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制,发生双光栅衍射及衍射光的干涉等复杂现象,最后形成有规律、且呈一定周期分布的莫尔条纹.周期相对光栅周期被大幅度放大,条纹移动可表征两标记的相对位移,具有很高探测灵敏度,可用于纳米级高精度对准.从傅里叶光学角度分析推导了对准应用中,两频率接近的光栅重叠时莫尔条纹振幅空间近似分布规律.并设计了一组对准标记,能继续将灵敏度提高一倍.通过仿真分析,从大致上定量地验证条纹复振幅分布的近似数学模型以及光刻对准应用中的条纹对准过程. 相似文献
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针对新型元启发式蝙蝠算法存在收敛速度慢、求解精度低的现象,文中提出一种基于Lévy飞行轨迹的蝙蝠算法.该算法具有易跳出局部最优,收敛速度快且求解精度高等特点.通过对12个典型的测试函数进行仿真实验,结果表明该算法是有效、可行的,且在求解高维空间问题中也表现出优越的逼近性能. 相似文献
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应用张量积Bézier曲面的几何性质和遗传算法,给出了Bézier曲面的降阶。与已有的算法相比,该算法具有计算简单、逼近误差直接给出,几何直观性强等优点。 相似文献
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