蒙特卡罗模拟在库存控制中的应用

分析了现有确定型库存控制模型存在的问题,提出了一种基于蒙特卡罗模拟的随机型库存控制模型,并给出了应用实例．     

跟踪-微分器在全捷联制导中的应用分析

以仅能获取角度信息的全捷联导引头为研究对象,针对采用直接微分提取惯性视线角速率时存在的噪声放大问题,基于跟踪微分器设计了一种全捷联制导信息提取算法。结合导引头的性能指标要求,对3种不同形式跟踪微分器的提取效果进行了对比分析。仿真结果表明,采用非线性微分器进行惯性视线角速率提取,可以减小延迟时间,避免噪声放大,有效提高制导精度,具有一定的工程应用价值。     

经济评价方法中内部收益率的分析与研究

内部收益率是经济评价中的一项重要指标,反映项目收回投资时间的快慢,可用试差法计算,也可近似等于偿还期的倒数.     

基于GPCA的中部省际农村居民生活水平动态分析

文章首先构建评价农村居民生活水平的指标体系,之后运用全局主成分分析法（GPCA）,实证研究了我国中部各省农村居民从2001年－2006年生活水平的时间演变,并对结果进行了比较分析。     

出钢顺立案模型在宝钢炼钢厂的应用

从基本概念和程序的具体实现两方面,阐述了出钢顺立案模型的功能、特点以及在生产实践中所取得的效果。     

交通灯控制系统中黄灯时间的确定

介绍了电灯的由来,探讨了黄灯时间的长短对交通安全正负两方面的影,在应用力学和运动学原理的基础上,提出了一种计算黄灯时间的模型.分析了模型建立的全部过程,最后列出了黄灯时间的求解公式.     

一维驱动二维跟踪太阳自动跟踪系统设计

本文从对太阳方位变化规律的分析计算入手,利用天文时间来提供准确可靠的自动跟踪信号,并采用一维驱动实现二维精密跟踪的新技术。依此所设计的新型太阳能聚光器自动跟踪系统与同类产品相比,具有准确可靠、抗干扰能力强、成本低、方便实用等特点;这对于通过聚光方式推动太阳能应用具有重大的现实意义。     

250℃下时间效应对PAN纤维热氧稳定化反应的影响及关联

借用傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、元素分析(EA)、X射线衍射(XRD)和示差扫描量热分析(DSC)等手段,对比研究了热氧稳定化过程中250℃下时间效应与两种聚丙烯腈(PAN)共聚纤维及其炭纤维结构和性能之间的关联。研究结果表明,PAN纤维在250℃温区内停留超过9min时,最终热氧稳定化纤维的环化度(RCI)、体密度和芳构化指数(AI)的增加速率开始变小;炭纤维的孔含量(Vp)值与内部微晶的d002值开始增大,微晶排列的规整程度变差,缺陷增多,拉伸强度开始降低。     

一种改进的气动弹性时域推进方法

针对气动弹性控制方程,结构项采用标准龙格库塔方法推进,广义气动力项采用时间上的插值技术,发展了一种在每一时间步内只用计算一次非定常气动力的近似四阶龙格库塔推进方法。通过计算非线性Bernoulli方程和某一超音速翼面的气动弹性响应,证明该方法的时间准确度远高于采用气动力冻结技术的四阶龙格库塔方法。其准确度与标准龙格库塔方法相差不大,而其调用非定常气动力求解器的次数仅为其四分之一,大大提高了气动弹性数值模拟的效率。对于一般的气动弹性响应而言,该时间推进方法只用保证每个周期内的时间步在20～30个左右就能满足较高的准确度要求。     

SURFACE ROUGHNESS OF SPUTTERED SILICON. II. MODEL VERIFICATION

Experimental verification of the mathematical surface roughness model for sputtered silicon was performed. The beam shape and its significant level of intensity were determined first by measuring the topography of craters sputtered by focused ion beam (FIB). Then the beam function was generated for various combinations of beam parameters. The material function was developed both by theoretical and experimental analysis. These two functions were then used in the model to calculate the theoretical surface roughness. Microsurface analysis was formed by FIB sputtering of a (100) silicon wafer. The surface roughness at the bottom of the sputtered features was then measured using an atomic force microscope. The theoretical surface roughness was found to be within ±1 and ±5 nm of the measured surface roughness with the measurement uncertainty (standard deviation) of about ±0.36 and ±0.85 nm for R_a and R_t, respectively.