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本文对硅片直接键合界面的吸杂效应进行了研究,根据键合界面存在晶格缺陷、氧沉积物和微缺陷等事实,提出了键盒介面的吸杂试验,分析了其吸杂效应的机理,给出了吸杂方程。理论计算和实验结果得到了较好的吻合。 相似文献
44.
适合铝丝键合后热老化要求的金导体浆料 总被引:1,自引:2,他引:1
研究了一种适合铝丝键合后热老化要求的金导体浆料,性能达到使用要求。在金浆中添加了少量合金元素,并选用混合型粘结剂。对金导体铝丝焊后热老化失效机理以及添加合金元素的作用,进行了讨论 相似文献
45.
贴片焊层厚度对功率器件热可靠性影响的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
贴片工艺是用粘接剂将芯片贴装到金属引线框架(一般是由铜制成)上的过程.富铅的Pb/Sn/Ag软焊料在功率器件封装贴片工艺中作为粘接剂应用十分广泛.从功率器件整体来看,贴片焊层毫无疑问是影响器件可靠性最重要的因素之一,其不仅具有良好的导电导热性能,而且该焊层能够吸收由于芯片和引线框架之间的热失配而产生的应力应变,保护芯片免于受到机械应力的损伤.基于Darveaux的热疲劳寿命分析模型,利用功率循环加速实验以及有限元方法具体分析了贴片焊层厚度BLT对于功率器件热可靠性的影响.并通过实验与仿真的结果,提出提高功率器件热可靠性的设计原则. 相似文献
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Ki Yeol Byun Isabelle FerainJohn Hayes Ran Yu Farzan Gity Cindy Colinge 《Microelectronic Engineering》2011,88(4):522-525
In this work, an alternative method for producing the single crystalline Ge-Si Avalanche photodiodes (APD) with low thermal budget was investigated. Structural and electrical investigations show that low temperature Ge to Si wafer bonding can be used to achieve successful APD integration. Based on the surface chemistry of the Ge layer, the buried interfaces were investigated using high resolution transmission electron microscopy as a function of surface activation after low temperature annealing at 200 and 300 °C. The hetero-interface was characterized by measuring forward and reverse currents. 相似文献
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热超声倒装焊在制作大功率GaN基LED中的应用 总被引:2,自引:0,他引:2
设计了适合于倒装的大功率GaN基LED芯片结构,在倒装基板硅片上制作了金凸点,采用热超声倒装焊接(FCB)技术将芯片倒装在基板上.测试结果表明获得的大面积金凸点连接的剪切力最高达53.93 g/bump,焊接后的GaN基绿光LED在350 mA工作电流下正向电压为3.0 V.将热超声倒装焊接技术用于制作大功率GaN基LED器件,能起到良好的机械互连和电气互连. 相似文献
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50.
复合固体推进剂用键合剂的种类及其作用机理 总被引:9,自引:0,他引:9
介绍了几种类型的键合剂及其在复合固体推进剂中的作用机理,并就键合剂研究方向提出了一些建议。 相似文献