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Chae-Seon Hong Hyeong-Ho Park Hyung-Ho Park Ho Jung Chang 《Journal of Electroceramics》2009,22(4):353-356
Low-temperature crystallized ZnO thin film was achieved by sol–gel process using zinc acetate dihydrate and 2-methoxyethanol
as starting precursor and solvent, respectively. Ag nanoparticles were prepared with uniform size at 4.4 nm by spontaneous
reduction method of Ag 2-ethylhexanoate in dimethyl sulfoxide (DMSO). The optical and electrical properties of ZnO thin films
containing various contents of Ag-nanoparticles were monitored. Light scattering and charge emission and scattering behaviors
of Ag nanoparticles in ZnO film were found. The incorporation of Ag nanoparticles into Al-doped ZnO film was also investigated.
The optical transmittance was not degraded but the increase of electrical sheet resistance was found. The effect of Al-dopant
on the transmittance and electrical sheet resistance of ZnO film was found too great to distinguish the positive effect of
the incorporation of Ag nanoparticles into Al-doped ZnO thin films. 相似文献
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报道了一台输出功率超过1.5kW的激光二极管抽运Nd∶YAG双薄片激光器。设计了四通光学耦合系统,通过优化经微柱透镜准直后光束的发散角,实现了抽运光的近平顶分布。薄片激光介质镀完介质膜后镀Ti,Pt,Au实现金属化,再采用铟焊工艺焊接在铜微通道冷却器上,以提高散热效率和冷却的均匀性。采用两片直径40mm,厚度1.3mm的Nd∶YAG薄片激光介质,在两个二极管激光器阵列抽运下,当每个薄片上的抽运峰值功率为17.7kW,占空比10%时,获得了平均功率1.52kW的准连续激光输出,光-光转换效率达到43%,电-光转换效率超过20%。 相似文献
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通过飞秒脉冲激光(50 fs,800 nm,1 kHz,2 mJ)沉积技术在n型Si(100)单晶基片上制备了ZnO薄膜.详细研究了基片温度变化以及退火处理对ZnO薄膜的结构、表面形貌及光学性质的影响.X射线衍射(XRD)结果表明,不同温度下(20~350℃)生长的ZnO薄膜具有纤锌矿结构,并且呈c轴择优取向;当基片温度为80℃时,薄膜沿(002)晶面高度择优生长;当基片温度为500℃时薄膜沿(103)晶面择优生长,场发射扫描电子显微镜(FEEM)结果表明薄膜呈纳米晶结构,并观察到了ZnO的六方结构.进一步通过透射光谱的测量讨论了基片温度及退火处理对ZnO薄膜光学透射率的影响,结果表明退火后薄膜的透射率增大. 相似文献
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新型的形状记忆合金/硅薄膜微驱动器 总被引:2,自引:1,他引:2
介绍了一种用硅微加工技术制作的NiTi/Si 薄膜结构的双向微驱动器。它利用NiTi 形状记忆合金薄膜(SMA) 大的相变回复应力和Si 衬底膜的反偏置力产生有一定位移量的双向运动。对NiTi 薄膜进行合理的图形化后使得驱动器位移量增大,双向效应显著,响应速度提高。同时图形化后的NiTi 膜也是加热电阻,使驱动结构简单,所需功率减少。驱动器实际驱动面积为3 ×3m m2 厚度为20μm 。可产生的最大位移为50μm ,最高驱动频率可达100Hz。驱动功率可减小到200m W。经过1000 万次振动后,驱动膜无开裂,性能正常。它已被成功的应用于压缩型微泵,该泵最大流量达340μL/min 。 相似文献
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为了分析溶胶-凝胶法制备的TiO2薄膜的光学常数,采用旋涂法制备了多层TiO2薄膜,利用扫描电镜对表面形貌进行了分析,利用椭圆偏振光谱对薄膜的折射率色散和孔隙率进行了拟合分析,并利用原位共角反射光谱对拟合结果进行了验证,得到了TiO2薄膜厚度、孔隙率和折射率色散曲线。结果表明,TiO2薄膜厚度与旋涂层数成线性关系,薄膜孔隙率约为15%且与旋涂层数无关,New Amorphous色散模型可以较好地拟合溶胶-凝胶旋涂方法制备的TiO2薄膜在1.55eV~4.00eV波段的椭偏光谱。该研究为溶胶-凝胶法制备的TiO2薄膜的光学常数测量提供了参考。 相似文献