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91.
表外储油层酸化防膨剂的评价及效果分析   总被引:1,自引:1,他引:0  
本文论述了采用不同防膨试验方法评价不同类型粘土防膨剂,并以回归曲线和价值工程分析防膨效果。由分子结构理论提出分子保护膜的防膨机理新观点,论述了酸液中添加具有多种功能的非离子型防膨剂QC—1可提高表外储层酸化与排酸效果。  相似文献   
92.
聚丙烯表面改性及与涂料的粘结   总被引:3,自引:2,他引:1  
讨论了聚丙烯制品喷涂着色的优点及影响聚丙烯制品与涂料之间粘结强度的各种因素。综述和评价了对聚丙烯进行表面改性的必要性及各种表面改性方法。  相似文献   
93.
电荷耦合图像传感器在细线直径测控系统中的应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
文中给出了一个以氟化氪固体激光器做光源,以电荷耦合图像传感器为光屏,应用夫朗禾费衍射原理,实现对细丝直径在线检测自动控制。该方案对相关企业质量控制的自动化是有意义的。  相似文献   
94.
In the research presented here, we explore the use of a low‐energy plasma to deposit thin silicone polymer films using tetramethyldisiloxane (TMDSO) (H(CH3)2? Si? O? Si? (CH3)2H) on the surface of an ethylene propylene diene elastomeric terpolymer (EPDM) in order to enhance the surface hydrophobicity, lower the surface energy and improve the degradation/wear characteristics. The processing conditions were varied over a wide range of treatment times and discharge powers to control the physical characteristics, thickness, morphology and chemical structure of the plasma polymer films. Scanning electron microscopy (SEM) shows that pore‐free homogeneous plasma polymer thin films of granular microstructure composed of small grains are formed and that the morphology of the granular structure depends on the plasma processing conditions, such as plasma power and time of deposition. The thicknesses of the coatings were determined using SEM, which confirmed that the thicknesses of the deposited plasma‐polymer films could be precisely controlled by the plasma parameters. The kinetics of plasma‐polymer film deposition were also evaluated. Contact angle measurements of different solvent droplets on the coatings were used to calculate the surface energies of the coatings. These coatings appeared to be hydrophobic and had low surface energies. X‐ray photoelectron spectroscopy (XPS) and photoacoustic Fourier‐transform infrared (PA‐FT‐IR) spectroscopy were used to investigate the detailed chemical structures of the deposited films. The optimum plasma processing conditions to achieve the desired thin plasma polymer coatings are discussed in the light of the chemistry that takes place at the interfaces. Copyright © 2004 Society of Chemical Industry  相似文献   
95.
阐述了用AutoLisp程序模拟塑料熔体在2层复合膜机头内的流动情况,并介绍了复合膜机头的内部结构。  相似文献   
96.
本文采用一种新型的等离子体浸没式离子注入 离子束增强沉积的技术(PIII IBAD),在Cr12MoV钢基体上制备出了TiN膜,对沉积膜的组织进行了光电子能谱分析,并对沉积膜进行了硬度检测、摩擦试验及磨痕形貌分析。试验结果表明,沉积膜中的组织为TiN、TiO2和Ti2O3,TiN膜具有高达Hv3200的高硬度和极其优良的摩擦性能。  相似文献   
97.
98.
测试了氧化锌颗粒膜电阻响应-恢复特性,讨论了颗粒形态,加热电压、环境气氛、气氛浓度和注入方式等因素对电阻响应-恢复特性的影响。结果表明,随着加热电压的升高,电阻响应-恢复的速度和程度明显加大;断续注入时颗粒膜电阻值的响应随着浓度的增加逐步减弱.  相似文献   
99.
Bilayered palladium (30 nm thick)–magnesium (350 nm thick) thin films were prepared using the pulsed laser deposition technique in the presence of various background gases (Ar, He and a mixture He + H2) under different partial pressures (47 and 27 Pa). According to the deposition atmosphere, the Pd/Mg interface shows either a sharp or an extended transition. The electrochemical hydriding properties and the mechanical stability upon cycling of the Pd/Mg film are greatly improved when an extended «intermixing» zone between the Pd and Mg layers is present. The Pd–Mg films prepared under pure helium fulfill these conditions.  相似文献   
100.
This paper presents the use of molecular dynamics (MD) simulation in the investigation of the surface topography of early-stage film growth on a GMR (giant-magnetoresistance) corrugated structure. The size of the simulated system is limited in order to reduce the computational workload. The numerical model adopts the Morse potential and the Verlet-leapfrog time evolution scheme [R.W. Hockney, 1970; D. Potter, 1972 (Chapter 5). [1]] to describe the atomic interactions which take place between the atoms. The impact energy transferred from the incident atoms to the substrate is modeled by rescaling the atoms within the upper substrate layers. It is found that the important properties of the film-substrate system may be obtained after the deposition of just several atomic layers. The influence of the impact velocity upon the coating parameters is investigated by varying the incident energy of the deposited atoms. The current results indicate that the surface coverage is poor, when atoms are deposited at low incident energies upon a low temperature substrate. At a higher incident energy, the deposited film tends to exhibit a quasi-layer-by-layer growth mechanism, which results in an improved surface coverage. Finally, it is demonstrated that a distinct quasi-fluid behavior is evident on the substrate when the atoms are deposited at high incident energies.  相似文献   
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