WPAN/WLAN应用环境下基于PER的链路自适应算法

本文重点研究基于包错误率测量的链路自适应算法，分析了包错误率与信道参数的关系，提出了一种有别于固定门限值方案的优化门限值方案。仿真结果表明，优化门限值方案的网络吞吐量要大于固定门限值方案和基于信干比估计的链路自适应算法，最大增幅可达12Mbit/s。在系统引入重传机制后，网络吞吐量将有所损失，但最大不超过1Mbit/s，相比较服务质量的提高是值得的。需指出的是，虽然分析和仿真均以HIPERLAN／2为例，但不失一般性，它们同样适合于WPAN/WLAN等类似系统。     

快乐HC2061AR(Ⅲ)彩电黑屏故障检修

故障现象 一台快乐HC2061AR彩电,无光栅。分析与检修 查电压和行扫描电路正常,显像管灯丝已亮,屏幕上有字符,三个阴极电压均在170V左右,测量三个视放管基极和发射极电压均为7.6V左右,反偏截止;将显像管加速极电压调高后,出现纯净的白光栅,但有回扫线,说明显像管供给中、高电压正常,判断故障在解码和亮度电路。该机为东芝TA二片机(TA7680AP和TA7698AP),微处理器为TMP47C433AN。查扫描、解码电路TA7698AP的脚12V供给电压正常(见附图),亮度控制端脚电压为4V左右,且随亮度调整上下变化, TA7698AP内部亮度电路输出端23脚电压为8…     

宽带无线网络中的自适应编码调制技术研究

由于自适应编码调制技术在宽带无线网络中对于改善频谱利用率和增加数据速率来说是一项很强的技术，因此本文针对刚提出的CT～TCM接术，将其与RCPT和ARO技术结合起来，讨论了一种新的自适应编码调制方案并对实现该方案的一些具体细节进行了详细的阐述。     

GMSK无线接收终端设计

设计了GMSK(Gauss Minimum Shift Keying，高斯最小频移键控)无线接收终端的硬件与软件系统。硬件的射频电路对空中信号进行接收与滤波，再由以MX589构成的解调模块解调，输出数字信号；数字硬件以单片机GMS97L5为核心。软件系统设计了对IC卡AT88SCl608加密卡的认证以及对串行数据的接收与处理的中断程序。终端系统接收数据快、性能稳定。     

基于均匀光纤光栅的DWDM系统PMD补偿方法

提出一种基于均匀光纤Bragg光栅(FBG)的透射型密集波分复用(DWDM)系统多信道偏振模色散(PMD)补偿方案。当FBG受到横向挤压时，会产生双折射现象。当一波长的光信号从光栅带隙附近透射时，就会在快轴和慢轴之间产生时延差(DGD)。通过改变外力的大小来调节DGD的大小可以实现对PMD的补偿。通过将多个补偿光栅级联，就可以实现对DWDM系统多信道PMD的补偿。在100N外力作用下，5cm长的光栅最大可以补偿121ps的PMD，而对相邻0．8nm的信道，只引入0．2ps的DGD。     

龚嘴水力发电总厂“无人值班”（少人值守）建设

对龚嘴水力发电总厂实施“无人值班”（少人值守）的工作情况进行了介绍，并着重讨论了监控系统及主辅设备的改造以及管理方面的建设情况。     

基于支持向量机的缓存预估模型的设计与实现

采用支持向量机(SVM)对网络业务流数据进行预测估计，通过训练样本，从而获得样本以外数据的分布规律。在此基础上，设计了一种网络排队队列缓存的预估模型。实验表明，该模型具有较高的训练效率和很高的估计精确度。     

BaxSr（1—x）TiO3多层膜椭偏光谱研究

用溶胶－凝胶技术在Bi(100）衬底上制备了单层和渐变型多层的BaxSr(1-X)TiO3薄膜，其膜层组分分别为：Ba0.7Sr0.3TiO3,Ba0.8Sr0.2TiO,Ba0.9Sr0.1TiO3,BaTiO3，对生长制备出的多层BaxSr(1-X)TiO3薄膜进行了变角度椭偏光谱测量，通过椭偏光谱解谱分析研究，首次得到了BaxSr(1-X)TiO3多层膜结构不同膜层的膜厚和光学常数，其结果显示：椭偏光谱分析得到的不同膜层的膜厚与卢瑟福背向散射测量得到的结果基本相符；渐变型多层膜中BaTiO3薄膜的折射率比单层BaTiO3薄膜折射率大许多，与体BaTiO3的折射率相接近，这说明渐变型多层膜中BaTiO3薄膜的光学性质与体材料的光学性质接近。     

砂岩酸化中水化硅沉淀的影响因素分析

讨论了砂岩酸化中产生水化硅沉淀的反应机理。使高岭土与1.0%HF和多种配比的HCl HF在不同温度(20-90℃)反应不同时间(10-300分钟),用等离子吸收光谱法(ICP)测定酸液中可溶性硅的浓度(mg/L),取某时段测定值的减小量为该时段水化硅沉淀生成量,讨论了多种因素的影响,得到了如下结果和结论。反应温度越高,则高岭土与HF之间的反应越快,形成水化硅沉淀的时间越短,最终生成的沉淀量越大;在HF中加入HCl(使用土酸体系)、减小土酸中HF质量分数、加大土酸中HCl、HF质量分数比,均可使生成沉淀时间延后,使最终生成沉淀量减少。60℃时300分钟沉淀量,在1.0%HF、5.0%HCl 1.0%HF、9.0%HCl 1.0%HF中分别为482、321、201mg/L。提出了在酸化设计与施工中可以采取的6条简便易行的减少水化硅沉淀量的措施。图4表1参6。     

液态金属离子源发射尖的制备工艺与技术

发射尖是液态金属离子源(LMIS)的关键部件之一，其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性。通过对系统软件和硬件的设计，开发了一套发射尖自动腐蚀装置，该装置可以对发射尖腐蚀过程中的速度和深度以及腐蚀电压进行控制，实现发射尖腐蚀工艺的重复性、可靠性，从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制、开发提供了一个有效的辅助工具。