光照区域结构参数对硅光电晶体管性能的影响

利用Silvaco-TCAD半导体器件仿真软件,全面系统地分析了光照区域结构参数对硅NPN型红外光电晶体管光电转换特性的影响.仿真结果表明:厚度为240 nm/130 nm的SiO2/Si3 N4双层减反射膜在特征波长(λ =0.88μm)处具有最优的光吸收效果和峰值光响应度(RM);为满足器件对红外波段的有效吸收和响应,外延层厚度应选择为55 ～ 60 μm;提高外延层电阻率虽可增大集-射击穿电压(BVCEO),但较高的外延层电阻率同时会降低红外波段光谱响应度;为了获得较高的红外光谱响应度,同时抑制可见光波段的响应,光照区域基区表面浓度应选择为5×1019 cm-3,结深应选择为2.5μm.     

溶胶粒径对氧化硅减反射膜结构和光学性能的影响

以正硅酸四乙酯为前驱体,制备出粒径20-100 nm的二氧化硅溶胶。用提拉法在玻璃基片上制备出氧化硅基多孔减反射膜,并研究了不同粒径的二氧化硅溶胶老化后溶胶胶粒的微观结构与相应的多孔氧化硅减反射膜微观孔结构的差异。结果表明,颗粒粒径约20nm的硅溶胶在老化过程中易团聚成较大的二次颗粒,形成结构疏松的氧化硅多孔减反射薄膜。镀有这种减反射膜的玻璃,其峰值透过率在波长510 nm处达到99.2%。     

Ag颗粒表面等离子体增强GaAs太阳电池双层减反射膜的设计与模拟

Surface plasmon enhanced antireflection coatings for GaAs solar cells have been designed theoretically.The reflectance of double-layer antireflection coatings（ARCs） with different suspensions of Ag particles is calcu-lated as a function of the wavelength according to the optical interference matrix and the Mie theory.The mean dielectric concept was adopted in the simulations.A significant reduction of reflectance in the spectral region from 300 to 400 nm was found to be beneficial for the design of ARCs.A new SiO2/Ag-ZnS double-layer coating with better antireflection ability can be achieved if the particle volume fraction in ZnS is 1%-2%.     

应用等离子体离子辅助技术沉积的锗基底红外减反射膜

红外光学系统大多数均采用锗作为透镜和窗口的材料,由于其折射率高达４．０,引起的反射损失较大,降低了红外光能量的透过率和红外成像系统的能力。为了减少锗表面的反射损失,我们研制了高性能的红外减反射膜,使锗透镜的红外透射率高达９８％ 以上。通过等离子体离子辅助沉积技术的应用,获得了耐久性能优异的红外减反射膜,满足了杜瓦瓶封接钎焊工艺对窗口膜层的苛求,也满足了红外热像仪系统对膜层的要求,而且所有膜层均无放射性     

半导体激光器腔面镀膜研究

从理论和实验两方面研究了半导体激光器腔面功率增强膜的镀制方法,得到一些新的镀膜设计方案,改善了传统半导体激光器腔面镀膜工艺。     

非晶硅太阳电池减反射膜的设计

基于非晶硅太阳电池的工作原理,对其减反射膜进行研究．根据四分之一波长作用原理得到反射率最小时的厚度优化参数．单层减反射膜选用ITO（m=2．0,d=75nm）,加权平均反射率为5．91％．双层膜选用MgF2／ITO,厚度分别为111nm和75nm,加权平均反射率为3．72％．此外,还作出反射率随波长的变化曲线,并通过计算仿真结果进行比较说明如何选材：对于单层减反射膜,采用折射率小的材料能取得更好的效果,而对于双层减反射膜,采用折射率上低下高形式,能取得更好的效果．     

空间高效硅太阳电池减反射膜设计与数值分析

结合AM0太阳光谱特性对空间硅太阳电池的减反射膜进行了设计分析,得到了最小反射时的最佳膜厚.分别讨论了单、双、三层减反射膜厚度变化对反射率的影响,并对有钝化层的SiO2(94nm)/TiO2(60nm)双层减反射膜进行了优化设计,优化后硅太阳电池的短路电流和效率分别提高了2.1%和1.4%.     

热处理对SiO2—ZrO2两层减反射膜的影响

文章指出了ＳｉＯ２－ＺｒＯ２两层减反射膜经过热处理后光学性能发生变化的规律,并对之进行了分析研究,从而应用到实践中解决了生产中出现的问题。     

溶胶-凝胶法制备氧化硅光学减反射膜

综述了溶胶-凝胶光学减反射膜的应用背景及光学原理,系统讨论了溶胶-凝胶氧化硅减反射膜的完整制备工艺以及薄膜在使用过程中的主要性能评价指标,最后展望了薄膜的未来发展趋势。     

热带雨林环境中锗基底薄膜微缺陷对减反射膜环境稳定性的影响

采用投样试验的方法,在锗基底上镀制红外减反射膜样品,将样品放置在西双版纳热带雨林环境进行试验,通过傅里叶红外光谱仪、扫描电镜等测量手段,分析了试验前后样品的变化特性,对镀膜样品在热带雨林环境中的稳定性进行了研究。实验发现,在热带雨林环境中薄膜微缺陷的腐蚀、扩展是导致薄膜失效的主要原因。