1．55μm超辐射发光管端面减反射膜的研究

减反射膜层折射率和厚度的精密监控是超辐射发光管的关键技术。分析了超辐射发光管端面减反射膜的四种膜系,提出了监控薄膜厚度的挡板调制、高级次过正极值法。采用该法制备超低剩余反射膜的实验表明:单面镀膜后,砷化镓基片的剩余反射率达到0.04%;管芯的反馈谐振被抑制,出现超辐射现象,峰值波长从1610nm移动到1560nm,蓝移约60nm,光谱纹波小于0.3dB。     

离子源在太阳电池减反射膜沉积中的应用研究

在无烘烤条件下,使用离子源辅助沉积技术进行空间用三结砷化镓太阳电池(GaInP/GaInAs/Ge)的减反射膜沉积。对比不同离子源参数下的减反射膜薄膜折射率、太阳电池表面反射率、短路电流及转换效率增益,分析出当阳极电压为150～180 V、束流为5～6 A时可获得较好的增益效果。通过太阳电池外量子效率测试发现,由辅助沉积粒子所引起的电池结构损伤主要表现为顶结电池的光谱响应下降。     

多功能光纤端面激光宽带减反射膜的应用研究

在光学系统中,设计了一种新型的近红外光纤宽带激光减反射膜,应用波段为800~1300 nm,能够同时适用于多波段大功率半导体激光器并具备较高损伤阈值。通过选择合适的光学材料,利用TFCalc软件仿真,调整最佳的工艺参数,采用热蒸发式真空镀膜机及RF离子源辅助沉积的方法,解决了小口径光纤端面的清洁和低温镀膜时膜层的牢固性等问题,实验采用Agilent CARY6000i型光波测量系统对镀膜后的样品进行光谱分析,实验结果显示,该减反射膜在800~1300 nm平均透射率为99.2%。分别用单管808 nm、980 nm和1064 nm半导体激光器为光源测得多模光纤镀膜后的输出功率较镀膜前均有明显提高。该膜层有效地提高了大功率半导体激光器与光纤的耦合效率具有更好的应用价值和实用意义。     

宽角度硅太阳电池减反射膜的优化设计

以太阳电池减反射膜为研究对象,考虑太阳光从O°～60°宽角度人射,同时结合硅的光谱响应和太阳光谱分布,采用加权平均反射率作为评价膜系质量的标准,利用数值计算设计了的最佳双层减反射膜SiNx/SiOxo计算结果表明30°是设计减反射膜的最佳优化角度.对于入射介质为空气时,最优薄膜参数为nSiNx=2.3,dSiNx=56nm,nSiO2=1.46,dSiO2=90nm.当太阳电池封装后,即入射介质为硅胶时,最佳膜系参数为nSiNx=2.3,dSiNx=65nm,nSiOx=1.63nm,dSiO=80nm.     

一种新型太阳能电池减反射膜的制备

提高太阳电池的光电转换效率的方法有很多，该文提出了一种折射率不能变化的减反射膜，具有更好的减反射效果，增加了光生载流子的生成数量，从而提高晶硅太阳电池的转换效率。通过硅烷和氨气流量的连续变化，从而使减反射膜的折射率由上至下等速率地增大，可提高电池转换效率0.13%。     

晶体硅太阳电池Sin:H减反射层的大规模在线溅射镀膜

1引言 大多数多晶硅太阳电池的减反射膜都是用增强的等离子化学气相沉积法（PECVD）沉积的掺氢氮化硅膜层（Sinx：H）。和其它减反射膜（如二氧化钛）相比，Sinx：H的优点是它具有很好的表面和体钝化功能。除了这些优点之外，PECVD技术有几个显著的缺点，主要是PECVD工艺使用爆炸性气体以及维护周期较短，同时PECVD技术在大面积在线镀膜时的膜厚均匀性也存在问题，这些问题使人们对采用不同的沉积技术产生了兴趣。由于对不同材料在大面积基片上采用溅射镀膜具有高产能、良好的均匀性和较长的维护周期等优势，因此溅射技术成为在太阳电池片上沉积Sinx：H膜层的较为理想的方式。     

《太阳能光伏组件用减反射膜玻璃》建材行业标准审查会在江苏无锡召开

2012年5月15日,我国工业玻璃和特种玻璃标准化技术委员会在江苏无锡组织召开了《太阳能光伏组件用减反射膜玻璃》建材行业标准审查会,本次会议得到了国家太阳能光伏产品质量监督检验中心的大力支持。建材联合会标准质量部副主任周丽玮、标委会秘书长陈璐、中国建筑玻璃与工业玻璃协会副秘书长李会等领导以及来自生产、用户、科研院所、检测等单位的共41位代     

长波长1．3μm激光器腔面镀减反射膜超辐射发光管的制备

本实验采用ＩＬ－４００型膜厚速率控制仪和钼舟，对半导体激光器端面分别蒸镀单层和双层减反射膜来制备长波长超辐射发光二极管，并对蒸镀减反射膜后器件的功率特性和光谱特性方面进行了测试。     

长波长1.3μm超辐射发光管的制备

对半导体激光器腔面分别蒸镀单层和双层减反射膜（ＡＲ）制备超辐射发光管（ＳＬＤ），测试了器件功率特性、光谱特性和远场分布，并计算了器件端面的剩余反射率。