锗光学零件8～11.5μm高效高稳定性减反射膜研究

文中讨论了用于锗上的高效高稳定性宽带红外减反射膜的设计及制备，其特点为：（１）采用了吸收较大但膜层稳定性好的膜料以保证其性能；（２）运用等效折射率理论进行膜系设计，从而保证满意的光学性能。     

溶胶—凝胶法制备TEOS—DOS基SiO2疏水减反射膜溶胶微结构对膜性能的影响

以乙醇为溶剂，正硅酸乙酯（TEOS，tetraethoxysilane）在氢氧化铵催化下水解缩聚为纳米尺度的无定型SiO2溶胶颗粒，二甲基二乙氧基硅烷（DDS，dimethyldiethoxysilane）在盐酸催化下水解缩聚为线状聚二甲基硅氧链。用混合溶胶在玻璃基片上旋转镀膜，然后于80℃空气气氛下热处理。实验证明通过DDS将疏水的双甲基链引入镀膜胶体，使膜兼具疏水性和减反射性能。利用激光散射粒度分析仪和电子显微镜研究了溶胶颗粒的粒度变化和聚集情况等溶胶微结构，用物理吸附仪研究了膜的孔结构，考察了热处理前后膜的疏水性和透射谱，得到了溶胶微结构与膜性能之间的关联。     

渡膜法获得的超辐射发光二极管的特性分析

在考虑了反射率与波长有关这一基本事实后，用图示方法对由镀膜法获得的超辐射发光二极管（ＳＬＤ）的科特性进行了分析。结果表明：在判定减反射膜镀得好与不好的时间，最低反射处波长控制的准确性与最低反射率本身的大都很重要；同时，也可以香到单面镀膜的ＳＬＤ振荡波长与增益峰值波长不重合的现象。     

红外镜头光学薄膜的发展和应用

红外光学系统主要应用于1～3μm、3.5～5μm和8～14 μm(或更远波段),由红外光学镜头和红外探测器组成.为使探测器能够通过光学镜头实现对辐射源的探测,光学镜头必须通过防护性物方窗口、透镜、反射镜、光阑、滤光片、扫描系统等完成光学信号的时间和空间滤波.从而以给定比例和质量实现物方空间目标和背景的分离.为保证目标最大辐射通量传送到探测器,必须保证通过光学镜头的辐射能量损失达到最小.为在特定波段实现以上目标,光学镜头中各种折射和反射元件需保证对工作波段的辐射能量具有尽可能低的吸收率、散射率,同时具有尽可能高的透过率和反射率,并且根据需要应能够实现一定的角度不敏感性.在光学设计过程中材料选择和元件光学参数设计合理的同时,光学薄膜的各种性能将是关键参数之一.红外光学薄膜可选沉积材料较少,而光学参数并未比可见光学薄膜有所降低,薄膜种类并未减少,包括减反射膜、高反射膜、带通滤光片、带阻滤光片、特种功能膜、分光膜等.由于工作波长是可见波长的2～20倍左右,因此膜层厚度增加很多,没有工艺技术上的特殊保证,将无法保证光学镜头的使用寿命.针对不断提高的光学指标要求,红外光学薄膜的沉积技术逐渐发展成熟,并且在各种红外光学薄膜产品上得以应用.     

含氟有机减反射膜的研究

采用低温等离子体辉光放电技术,用含氟有机单体在硅太阳电池表面聚合成膜。测定膜的光电性能和反射率证实:有膜电池的短路电流、光电转换效率及光谱响应都有明显增加,反射率绝对值降低2％左右,膜为非晶结构。此外,还研究了成膜工艺因素和膜电池性能的关系。     

1.3μm超辐射发光二极管

本文报告了电子束蒸镀 Si_3N_4减反射膜的结果,并制成了1.3μm 超辐射发光二极管。室温连续输出功率1.2mW,光谱半功率宽度9nm。     

应用等离子体离子辅助技术沉积的锗基底红外减反射膜

红外光学系统大多数均采用锗作为透镜和窗口的材料,由于其折射率高达４．０,引起的反射损失较大,降低了红外光能量的透过率和红外成像系统的能力。为了减少锗表面的反射损失,我们研制了高性能的红外减反射膜,使锗透镜的红外透射率高达９８％以上。通过等离子体离子辅助沉积技术的应用,。获得了耐久性能优异的红外减反投奔膜,满足了杜瓦瓶封接钎焊工艺对窗口膜层的苛求。     

高效率硅太阳电池AR-BSF一次成型工艺研究

本文描述一种用LPCVD方法淀积Si3N4形成太阳电池减反射膜(AR)同时又制得高效率硅太阳电池铝合金高低结背面场(BSF)的新工艺。该工艺不仅简化了太阳电池的制作过程,即电池的AR和BSY一次形成,而且由于系统处于高真空,电池处在N2和H2的气氛中,所以改善了太阳电池发射区的表面特性。实验结果表明:为获得较好的电池性能,在完成电池的AR和BSF时,厚的铝膜,较高的淀积Si3N4温度以及在电池发射区表面生长80100的SiO2层是必要的。     

溶胶-凝胶法制备硼硅酸盐玻璃上减反射薄膜

以正硅酸乙酯(TEOS)、不同相对分子量的聚乙二醇(PEG)为主要原料,采用溶胶-凝胶法在硼硅酸盐玻璃板上制备单层SiO2减反射薄膜,研究了制备工艺对薄膜光学性能的影响.结果表明:PEG的添加量可以改变薄膜的透过率,当PEG/TEOS的摩尔比为50/50时能达到最大值.PEG1K能将反射率最小值调整到550 nm,从而对应于最高的太阳辐射波长.     

在锗基底上采用离子辅助淀积的宽带减反射膜

在220℃温度的锗基底上,采用或未采用离子辅助淀积片镀制了五种宽带减反射膜.在这些膜上进行1.06μm波长、0.1μm脉冲的激光损伤阈值的测量.在氩离子轰击下淀积的锗膜显示出较高的激光损伤阈值,所以,锗基底上的减反射膜具有更强的牢固度.