全文获取类型
收费全文 | 143篇 |
免费 | 6篇 |
国内免费 | 9篇 |
专业分类
电工技术 | 4篇 |
综合类 | 8篇 |
化学工业 | 18篇 |
金属工艺 | 3篇 |
机械仪表 | 12篇 |
建筑科学 | 3篇 |
能源动力 | 14篇 |
轻工业 | 10篇 |
无线电 | 64篇 |
一般工业技术 | 20篇 |
冶金工业 | 1篇 |
自动化技术 | 1篇 |
出版年
2024年 | 1篇 |
2023年 | 2篇 |
2022年 | 3篇 |
2021年 | 3篇 |
2020年 | 1篇 |
2019年 | 3篇 |
2018年 | 2篇 |
2016年 | 6篇 |
2015年 | 5篇 |
2014年 | 4篇 |
2013年 | 5篇 |
2012年 | 9篇 |
2011年 | 4篇 |
2010年 | 5篇 |
2009年 | 7篇 |
2008年 | 4篇 |
2007年 | 7篇 |
2006年 | 11篇 |
2005年 | 3篇 |
2004年 | 10篇 |
2003年 | 6篇 |
2002年 | 6篇 |
2001年 | 1篇 |
2000年 | 5篇 |
1999年 | 7篇 |
1998年 | 4篇 |
1997年 | 4篇 |
1996年 | 2篇 |
1995年 | 10篇 |
1993年 | 2篇 |
1992年 | 3篇 |
1991年 | 2篇 |
1990年 | 8篇 |
1989年 | 2篇 |
1988年 | 1篇 |
排序方式: 共有158条查询结果,搜索用时 15 毫秒
61.
62.
通过对PMMA光学塑料红、绿、蓝三种光减反射膜的设计和制备,研究了这种材料的真空镀膜技术,对制备的膜层进行了光谱、牢固性和防水性能的测试,并给出了其中一些实验结果.最后进行了简短的分析,对进一步提高薄膜质量提出了改进方法. 相似文献
63.
[目的]采用大气压等离子体射流(APPJ)技术在聚二甲基硅氧烷(PDMS)表面产生结构色的方法和机制鲜有报道。[方法]通过对处在拉伸状态的PDMS进行1 min的氩气等离子体处理,然后释放拉应力,获得了具有环形渐变结构色的PDMS。[结果]扫描电镜(SEM)照片揭示,APPJ处理后的PDMS表面生成了周期排列的纳米褶皱结构,且褶皱周期是逐渐变化的。X射线光电子能谱(XPS)分析表明,经APPJ处理的PDMS表面发生了进一步交联和氧化,生成了弹性模量比PDMS更高的氧化硅物质层。可见光吸收和反射光谱分析表明,具有结构色的PDMS对可见光表现出了更低的反射率,而其垂直方向的可见光透过率则无显著改变。[结论]通过APPJ技术能够简单、快速地对有机硅化合物表面进行改性而获得精细结构色,该工艺方法有望满足显示、传感、防伪、功能材料等领域的实际需求。 相似文献
64.
65.
双波段增透膜在激光系统中得到越来越多的应用,目前薄膜设计方法仅能设计简单的V与W型增透薄膜,利用矢量方法提出了一种新型的三层双波段减反射膜设计方法,基于所提出的薄膜设计方法,设计一个实例,与实际镀制薄膜反射光谱进行了对比,结果表明:实际镀制结果与理论计算结果具有较好的吻合,在所要求的波长处反射率为0.25%与0.29%,基本达到了工作要求。 相似文献
66.
文中讨论了用于锗上的高效高稳定性宽带红外减反射膜的设计及制备,其特点为:(1)采用了吸收较大但膜层稳定性好的膜料以保证其性能;(2)运用等效折射率理论进行膜系设计,从而保证满意的光学性能。 相似文献
67.
68.
双层减反射膜镀制半导体光放大器 总被引:2,自引:0,他引:2
首次采用ZnSe和MgF2双层减反射膜镀制半导体光放大器,分别测出了两端面的剩余反射比曲线。结果表明,该放大器两端面反射比乘积最小值低于1×10-6,按照O’Mahoney给出的判据,其可用行波单程增益为22dB。 相似文献
69.
70.
采用常规膜厚监控方法在二极管激光器端面镀高效减反射膜有很多困难。本文从理论上研究了自发光监测控制减反射膜的可行性,并且得到了用这种方法在半导体激光器端面镀高效减反射膜的实验结果。利用 Kaminow 等人提出的间接测量法,测得在 GaAs 激光器端面镀制了单层 SiO 膜后的剩余反射率小于5×10~(-4)。 相似文献