基于有限元与正交试验法的机械刻划光栅研究

在有限元软件DEFORM中建立了金刚石弧形刻刀刻划光栅的数值模型,得到了刻划过程的刻划力曲线。通过数值模拟和正交试验方法,对刻划过程的4个主要因素(刃口半径、主刃轮廓半径、方位角、刻划速度)进行了分析,得到了各因数对刻划力的影响次序及显著性。极差分析表明:方位角对x向刻划力影响显著,主刃轮廓半径对y向、z向刻划力影响显著。最后采用综合平衡法进行结果评定,确定了光栅机械刻划的合理方案。     

高精度控制光电光栅刻划机的光栅外差干涉仪

为提高光电式光栅刻划机的控制精度,设计了一种自准直式激光光栅外差干涉仪的新型测量系统。以光栅衍射和偏振光学为理论基础,结合电子学的相关知识对系统进行了理论分析,设计了基准光栅,并进行了大量的实验研究。由实验研究可知,这种利用光栅的自准直衍射和以光栅栅距作为计量基准的干涉测量系统,具有受环境因素的影响低,结构简单、装调方便等优点;采用双频激光得到的测量信号增益大,信噪比高;该系统用于光栅刻划,得到的栅线间距刻划偏差优于10nm,在3mm行程内累积误差约为0.3μm。结果表明,该系统具有纳米级分辨力,用于实时测量控制系统,测量误差很小,完全达到了中阶梯光栅等特种光栅对刻划机的高精度分度要求。     

越窑 耀州窑 景德镇窑瓷器刻划花装饰研究

刻划花工艺在五代至宋的发展由简到繁，由繁到简，每种方法都有一定历史时期扮演了不同角色，满足了人们不同审美需求的同时也体现出古人源源不断的创新意识。     

基于应变梯度理论的光栅铝膜本构关系表征及纳米压痕实验

基于应变梯度理论,提出了一种玻璃基底光栅铝膜本构关系的表征方法。建立了包含基底参数和铝膜参数的本构关系数学模型,并逐一表征了相关参数。进行了79g/mm中阶梯光栅铝膜的纳米压痕实验,验证了上述本构关系表征过程的正确性。提出了光栅薄膜材料和基底材料都具有尺度效应的假设,并应用纳米压痕实验对铝膜的尺度效应和基底效应进行了实验表征。对光栅铝膜压痕实验与含基底压深实验的结果进行了比较,结果显示,在有无基底条件下,压痕结果在应力方向上相差0.8倍,在应变方向上相差3倍。进行了光栅刻划实验,结果显示压痕实验对刻划实验具有重要的指导作用。研究过程及研究结果表明:理论分析和两种实验可有效地分析光栅刻划过程,有助于在实际光栅刻划过程中减小误差,对光栅刻划的工艺过程具有较好的理论指导意义。     

莫氏（Mohs）硬度和刻划（scratch）

刻划硬度是硬度测试的最古老方式 ,以一个固体物被另一固体物擦刻划伤 (ｓｃｒａｔｃｈ)来确定判别。首先由矿物学家和宝石收集、检验师采用。 182 2年Ｍｏｈｓ首先提出一个半定量概念 :以滑石作为 1和以金刚石作为 10 ,分成 10个等级 ,也称为莫氏硬度 (见表 1中左边部分 )。一些材料的典型莫氏硬底列于表 1。莫氏硬度在有些场合仍有应用 ,尤在矿物学及宝石鉴别上仍相当广泛 ,等级也愈分细小些。表 1中列出表面硬化钢 (ｃａｓｅ-ｈａｒｄｅｎｅｄｓｔｅｅｌ)、马氏体和一些碳化物的莫氏硬度值的数据在国内尚属首先译出公布。莫氏硬底不能很…     

接近式光刻中刻划间隙对刻线质量的影响分析

用近场菲涅耳理论，分析了接近式曝光法刻制光栅及码盘时，刻划间隙与刻线质量之间的关系；并利用刻线相对对比度的概念给出了确定刻划间歇时应遵循的规律。为实际光刻时的选择最佳刻划间隙提供了一条可靠的依据。     

彩虹薄膜工艺及研究

本文简要地介绍了彩虹薄膜的结构、原理和主要工艺过程，并对光栅的条纹数和沟槽深度对彩虹效果的影响作了一些理论探讨。     

圆光栅刻划偏心分析与调整

本文通过对圆光栅刻划偏心与莫尔条纹图案特性之间对应关系的分析讨论,提出了在圆刻机上调整刻划偏心大小及方向的具体方法。     

极小刻划间隙下的衍射光强度变化规律分析

讨论了极小刻划间隙下的衍射场光强度分布规律,并以单缝为例分析了当缝宽与波长改变时,相对光强度变化规律,补充和完善了使用普通平行光照明系统时的接近式光刻衍射场理论。