针对无线本地环路应用的GSM模块

入门级解决方案ISMOQuik2400能够很好地满足无线本地环路(WLL)和简单的机器对机器应用的需要。模块建立在经现场测试和客户检验的GSM协议栈基础之上,确保在全球范围的网络上运行不发生故障;便于制造商可以开发免提通话、多方通话管理及人机界面(如液晶显示屏和键区)等功能。参考设计包(RDP)包括了Q2400模块、完整的硬件设计参考和软件功能参考。固定无线电话的制造商可以使用Wavecom开放AT工具包来创建各自的用户界面,还可以将它们直接嵌入在Q2400模块上。由于Q2400支持的AT指令超过250条,客户最终可以通过模块和外部处理器的结合,…     

狗年行大运QQ2006贺岁版

与往年一样，腾讯在狗年到来之际发布了QQ2006贺岁版，下面．我们就来看一看这个贺岁版有哪些亮点。[编者按]     

硅表面上的纳米量子点的自组织生长

纳米半导体量子点以其所具有的新颖光电性质与输运特性正在受到人们普遍重视。作为制备高质量纳米量子点的工艺技术 ,自组织生长方法倍受材料物理学家的青睐。而如何制备尺寸大小与密度分布可控的纳米量子点更为人们所注目。因为这是关系到纳米量子点最终能否器件实用化的关键。文中以此为主线 ,着重介绍了各种 Si表面 ,如常规表面、氧化表面、台阶表面以及吸附表面上 ,不同纳米量子点的自组织生长及其形成机理 ,并展望了其未来发展前景     

面向对注氢硅片中微结构的影响

把不同面向的注氢硅片制成横截面样品,在高分辨率透射电子显微镜下进行观察,发现衬底面向对其中的微结构有明显的影响.首先表现为衬底中主要出现平行于正表面的氢致片状缺陷,即(100)衬底中,主要出现平行于正表面的{100}片状缺陷,而(111)衬底中出现的主要是平行于正表面的{111}片状缺陷.其原因是注入引起垂直正表面的张应变.另外,面向的影响还表现为,(100)衬底中出现的{113}缺陷在(111)衬底中不出现.在(111)衬底中出现的晶格紊乱团和空洞在(100)衬底中不出现.从而推测,{111}片状缺陷的形成不发射自间隙原子,而(100)片状缺陷的形成将发射自间隙原子.     

日本半导体硅市场

2003年日本半导体硅单晶产量为4875t，比上年增加13％。需求为5162t，比上年增加16％。需求的增长得益于世界半导体市场从2003年2月开始的复苏和之后的顺利增长，增长率为17．4％。其中，起主要拉动作用的是半导体器件中的闪存、动态随机存取存储器、电荷耦合器、CMOS传感器，以及最终产品中的个人电脑关联产品、手机、液晶和等离子薄型显示器、数码相机、DVD录像机等数码家电。     

硅的等离子体深腐蚀

湿法化学腐蚀已被广泛地应用于敏感器件传感结构的微细加工中.近年来,在VLSI中等离子体干法腐蚀已成为获得细线条图形的可行技术.然而,干法腐蚀工艺无论是等离子体腐蚀或反应离子腐蚀,相对于湿法腐蚀来说都是比较慢的.在需要深腐蚀的应用中(如电子束光刻的对准符号刻蚀,电路隔离槽或敏感器件的微细结构腐蚀)当前都着力提高腐蚀速率.在传感器的开发中,主要问题之一是封装,为简化到处于测量环境的传感器的外部连接,希望通过传感器背面进行连接.在化学传感器中,背面连接最为有利.因为假如所有的引线都     

锰硅合金生产中锰矿搭配的最优决策

作者运用线性规划理论建立起锰硅合金生产中锰矿最优搭配的数学模型，并说明最优配比的求解方法及经济意义，提出了最优搭配准则。