金刚石光学薄膜的制备有其在宝钢的应用

化学气相沉积金刚石薄膜是近年来发展很快的一种新材料，着重描述了在减少薄膜的散射从而改善其光学性质方面的工作与成果，并介绍了它作为红外光学增透保护膜在上海宝山钢铁厂的应用。     

C3N4—替代金刚石的新材料

Ｃ＿３Ｎ＿４──替代金刚石的新材料李建保，孔向阳，范守善（清华大学材料系，清华大学物理系北京１０００８４）Ｃ３Ｎ４作为一种预言其硬度可与金刚石相比拟的新材料已为不少材料科学工作者所关注。这种新材料一开始不是从实验研制中获得的，而是ＭａｒｖｉｎＬ．Ｃｏ...     

金刚石薄膜中晶粒尺寸的研究

扫描电子显微研究表明，化学汽相沉积的金刚石薄膜中晶粒大小比较均匀。但随着沉积时间和薄膜厚度的增加，晶粒逐渐变大，且每一层内，存在少量的大金刚石颗粒，讨论了晶粒尺寸变化和大晶粒形成的原因和机制。     

飞利浦单片集成电路TDA8362

飞利浦单片集成电路ＴＤＡ８３６２张喜ＴＤＡ８３６２是飞利浦公司１９９１年推出的彩色电视机单片集成电路，它是目前国内外较新的产品，我国许多厂家都在利用它开发新一代多制式彩色电视机产品。ＴＤＡ８３６２采用ＢＩＭＯＳ＋ＭＯＳ技术，适应性强，集成度高。视频处...     

在（311）面上所生长的Al_xGa_（1－x）As／GaAs单量子阱特性

文章报道了用分子束外延（ＭＢＥ）法在６００℃和６５０℃下，在Ｓｉ掺杂的ＧａＡｓ衬底的（３１１）Ａ和（３１１）Ｂ面上成功地生长了高质量的ＡｌｘＧａ１－Ａｓ／ＧａＡｓ单量子阱材料。计算了光荧光（ＰＬ）峰值能量，并与实验作了比较。讨论了（３１１）Ａ和（３１１）Ｂ面上的不同生长特性。