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退火对反应磁控溅射制备ITO薄膜性能影响 总被引：2，自引：0，他引：2
采用铟锡合金靶(铟-锡，90-10)，通过直流反应磁控溅射在玻璃基片上制备出ITO薄膜，并在大气环境下高温退火处理。研究了退火温度对薄膜结构、光学和电学性能的影响。研究表明，随着退火温度升高薄膜的电学特性得到很大提高。 相似文献
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23.
粉镀(渗)锌技术及其工业应用 总被引：2，自引：0，他引：2
概述了粉镀（渗）锌专利技术的开发概况、工艺原理及渗镀层性能特点，并与热镀锌做了比较，对其产品检验、使用范围等也作了介绍。 相似文献
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本文简述了以EVA为基质材料制备有机PTC特性材料的实验,实测了样品有关特性,并用非线性回归方法讨论了其导电机理.这对指导温度传感器的设计有一定帮助. 相似文献
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