陶瓷电容器丝网掩模漏印孔间隔设计

改进丝网掩模漏印孔间隔，提高陶瓷电容器容量偏差（等级品）合格率，用０．０２ｍｍ漏印孔尺寸间隔代替０．１ｍｍ，可大幅度提高等级品（Ｃ、Ｊ、Ｋ级）合格率，在相同设施的条件下，大大提高了生产能力，经济效益显著。     

基于JPEG2000的ROI改进编码算法研究

在许多的图像应用中，基于感兴趣区域（ROI）图像编码技术占有重要地位。对图像压缩和传输处理，总是希望自己所感兴趣的图像区域能够得到相对于背景（BG）区域更好的压缩效果。在JPEG2000中采用了General Scaling Based Method 和 Maxshift Method的ROI编码技术。最重要平移和逐个平移法在最大位移法的基础上进行了改进、实验结果表明，该方法可行且性能优越。     

数字掩模制作控制系统误差特性研究

数字化掩模制作系统的核心控制部件是数字微镜。文中系统分析了数字微镜控制系统对数字化掩模制作系统精度的影响。指出误差来源主要为数字微镜帧刷新率、像素黑栅效应、像素量化和调制非线性等因素,并分别提出了相应的误差修正或补偿方法。提高系统的精缩倍数、像素分辨率以及占空比,可以降低这些误差来源的影响。     

基于聚类算法的多态单模板掩模边缘检测算法

提出了一个能够动态估计邻域中边缘位置的基于聚类算法的多态单模板掩模边缘检测算法。该算法根据估计出来的边缘位置设置模板上相应位置的权值，可以获得更为准确的差分结果。同时根据边缘的连续性，排除不连续的伪边缘，以在获取较高分辨率的同时减低噪声。实验证明基于聚类算法的多态单模板掩模边缘检测算法具有良好时实性及较高的分辨率。     

用于投影光刻机掩模自动对准的锁相干涉技术

<正> 本文叙述了用于投影光刻机中的一种掩模对准技术。在片子与掩模的对准中,通过一种锁相干涉法确定其偏移量。此方法采用的对准图形是一种交叉的栅格,用氦氖激光束照明。经过衍射和干涉后得到了一种谐波强度信号,信号的相位表示了掩模与片子的相对位移。用一个电流计扫描仪驱动一块可倾斜的玻璃片来实现相位调制和精密对准。包括套准和精密对准在内总的对准操作用一个PC单元控制,具有毫微米的套准精度和低于0.3秒的对准周期。此方法特别适用于缩小步进投影光刻机中的逐场对准。最后讨论了其理论研究与试验的结果。     

新型URE-2000S型紫外单、双面深度光刻机研制

重点介绍新近开发的用于单、双面深度曝光的URE-2000S新型紫外光刻设备的技术背景、工作原理、结构组成、技术措施以及总体性能。该设备采用了国内首创的CCD图像底面对准技术、单曝光头实现双面对准曝光,具有双面套刻对准精度高、操作简单、工作高效等优点。实验表明,该设备总体性能处于国产双面光刻的先进水平,接近国外同类产品水平。     

一种新的InSAR合成相位展开算法

提出一种新的InSAR二维相位展开方法。该合成算法充分利用了枝切法和有限元方法的优点。方法的核心是确定相位可靠区域与不可靠区域,有效避免了相位误差从不可靠区域向可靠区域的传递,保证了可靠区域相位展开结果的精度,较大程度上提高了整体的相位展开结果精度。仿真数据实验结果验证了这种合成算法的有效性。     

SUSS MicroTec公司进一步巩固其光刻设备在技术和市场上的领先地位

SUSS MicroTec AG的全资子公司HamaTech APE GmbH ＆ Co．KG宣布,已接到几十份MaskTrack Pro设备订单。MaskTrack Pro于2009年投产,是用于下一代光刻领域的完整掩模流程平台。     

3块掩模实现低成本运动传感器,颠覆智能手机运动传感器市场

从事加速度、角速度及力度传感器丌发的日本Wacoh公司开发出了只需要3块掩模即可制造的3轴加速度及3轴角速度（动作）传感器,而通常制造这类传感器时要使用10多块掩模。Wacoh公司虽未公布实现技术的详细内容,但表示能使售价降至民用传感器的一半以下。     

多维直方图联合概率分布的掩模矩阵降维算法

彩色图像的分量独立处理或感知彩色空间的强度分量处理,都能达到增强图像对比度的效果,但由于没有考虑各个分量之间的联系,不能开发完全的RGB色域。多通道直方图建模技术可以改善上述缺陷,就是通过求取多个分量的直方图联合概率密度函数和累积分布函数,从而得到彩色图像的像素灰度值映射函数,但计算联合直方图的过程也导致了过高的运算复杂度。为了降低计算量,提出了掩模降维的方法,将计算多维直方图的过程转化为了计算一维直方图,从而大大降低了运算复杂度,提高运算速度,增强对比度的效果。