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利用发射光谱诊断技术研究了磁增强反应离子刻蚀系统中CF4+O2的辐射谱、谱线成分及强度,分析了谱线强度与射频福射功率、氧气含量的关系,并与没有磁场存在时的情况作了比较。 相似文献
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二苯并-18-冠-6的合成条件的优化 总被引:3,自引:0,他引:3
通过改变溶剂的极性、离子性、离去基团的活性及反应温度等方法,对传统的Pedersen冠醚合成法进行了优化,使目标产物的最高产率达到71%以上.产物通过IR、1H NMR及元素分析等方法进行结构表征. 相似文献
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Power deposition profiles generated by Ion Cyclotron Resonance Heating (ICRH) in non-circular tokamaks are studied using a ray-tracing technique. The simulation results for the Experimental Advanced Superconductor Tokamak (EAST) D-shaped plasma are presented. It is indicated that the spatial distributions of plasma parameters (plasma density, species temperature, minority ion concentration, etc.) have an significant influence on the power deposition profiles. The findings may be highly useful to the planned plasma heating and experiments in EAST. 相似文献
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飞行时间二次离子质谱--强有力的表面、界面和薄膜分析手段 总被引:8,自引:0,他引:8
二次离子质谱(Secondary ion mass spectrometry,简称SIMS)是一种对表面灵敏的质谱技术,建立在表面各种类型带正、负电荷原子或分子发射的基础上。用飞行时间(Time of flight,简称TOF)仪器对这些二次离子进行质量分析,能确保并行质量登录、高质量范围、高流通率下的高分辨和精确质量测定这些优异性能。配合细聚焦扫描一次离子束,可在优于1nm的高深度分辨和优于50nm的横向分辨本领下,实现对表面优于单层ppm(百万分之一)量级的极高检测灵敏度。当今TOF-SIMS已发展为一种成熟且完善的表面分析技术。极高的灵敏度,再加上即使对大分子及不易挥发性分子都独具的敏感性,使它成为很多高技术领域不可缺少的分析手段,这些领域包括微电子学、化学和材料科学以至纳米技术和生命科学等。本文简述了TOF-SIMS的原理、仪器及其多方面的应用和展望。 相似文献
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ZnO压敏陶瓷最佳掺杂含量的理论计算 总被引:3,自引:0,他引:3
从对电子薄膜材料研究中得到的最佳掺杂含量定量理论推广到ZnO陶瓷材料。该理论建立了电子薄膜材料的某一物理性能与晶体结构、制备方法和掺杂剂含量之间的联系,给出了一个能够拟合实验曲线的具有确定物理意义的抛物线方程。该方程的极值点确定了最佳掺杂含量与晶体结构和制备方法之间的定量关系,进而得到了一个掺杂最佳含量的表达式。系统地分析了ZnO压敏陶瓷的掺杂改性的实验结果,应用此表达式定量计算了ZnO压敏陶瓷的最佳掺杂含量,定量计算的结果与实验数据相符合。该理论也适用于其他薄膜材料最佳掺杂含量的理论计算。 相似文献