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Feng Juanni Guo Xuefeng Xu Chunjie Zhang Zhongming 《中国稀土学报(英文版)》2006,24(1):120-120
As-east mierostruetures and their distribution of Mg-Zn-Y ternary alloy with high magnesium, low zinc and yttrium were examined using Nikon Epiphot optical microscopy (OM), RigakuD/max-3C X- ray diffraetion (XRD), and JEOL JSM-6700F scanning electron microscopy (SEM) equipped with an energydispersive X-ray spectroscopy (EDS). In the as-east mierostructures, Yttrium and zinc tend to segregate at grain boundaries, 相似文献
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纳米ZrO2等离子涂层的结构,性能和工艺特点 总被引:6,自引:0,他引:6
采用大气等离子喷涂技术(APS),制备了常规氧化锆和纳米结构氧化锆两种涂层.利用扫描电镜(SEM)对涂层的显微结构进行了观察.对两种涂层的沉积效率、表面粗糙度和显微硬度作了对比研究.结果表明,粉末原料的显微结构、粒度、形态、喷涂工艺参数(喷涂功率和距离)对涂层的显微结构有较大的影响.等离子喷涂造粒纳米氧化锆粉制备的涂层沉积效率高而稳定,其显微结构与喷涂功率和距离密切相关.与常规氧化锆涂层相比,纳米结构氧化锆涂层具有较高的显微硬度和较低的表面粗糙度. 相似文献
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采用X射线荧光、X射线衍射、金相显微镜和扫描电镜等分析方法 ,通过对微波管陶瓷材料的理化分析 ,对俄罗斯陶瓷及其金属化技术进行了研究 ,并对化学成分和显微结构对性能的影响作了初步的讨论。 相似文献
8.
NiTi形状记忆薄膜的显微结构和力学性能 总被引:3,自引:0,他引:3
NiTi形状记忆合金薄膜具有形状记忆效应,极有希望用于制造高技术领域微电子机械系统中的微型激发器。NiTi形状记忆合金薄膜在制备和使用过程中需要高品质(衬)底材。本文利用高分辨电子显微学和高分辨分析电子显微学详细研究了硅底材NiTi形状记忆合金薄膜的NiTi/Si和NiTi/SiO2微结构体系,包括薄膜精细结构和界面反应。也研究了其显微结构和力学性能的关系。特别给出了NiTi形状记忆合金薄膜产生疲劳过程的微观过程的起因,通过高达十万个使用热循环前后样品显微结构变化的比较,发现纳米尺度上的TiNi3新相的形成导致疲劳过程的发生。如何抑制TiNi3新相形成的研究正在进行之中,这将为进一步提高NiTi形状记忆合金的使用寿命指出方向。 相似文献
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10.
以YAG为添加剂的气压烧结氮化硅 总被引:2,自引:1,他引:1
本文以添加YAG的反应烧结氮化硅(RBSN)为前驱体,采用气氛加压烧结的工艺,在0.5~9.0MPa氮气压力范围,研究了不同氮压对烧结体的密度、相组成、强度和显微结构的影响及其相互间的关系。研究表明,通过改变氮气压力能有效地调控材料的显微结构,材料的性能又受控于显微结构的变化。 相似文献