纳米SiO2改善纤维复合防砂体的制备及性能研究

为了提高纤维复合防砂体的力学性能,采用在树脂涂覆砂中加入纳米SiO_2的方法对纤维复合体进行改性,通过超声波分散溶液共混法将纳米SiO_2(树脂质量分数的3%)均匀分散到水溶性酚醛树脂中,制备出纳米SiO_2改性树脂涂覆砂体,并加入纤维制备出纤维复合体。研究了不同防砂体的性能。结果表明,纳米SiO_2可以提高酚醛树脂涂覆防砂体的力学性能,几乎不影响纤维复合防砂体的渗透率,能使纤维复合体的强度提高;纤维可使树脂涂覆防砂体的渗透率提高11.13%。     

防雷达波隐身涂料前处理工艺研究

阐述研究了XX型防雷达波隐身涂料在某军品车辆涂覆时，对基材表面涂装前处理的目的、工艺方法、以及对涂层附着力的影响。提出了采用有机除油、喷砂工艺的方法。能使该涂判料具有良好的附着力．从而解决了防雷达波隐身涂料在工程化应用中前处理问题．推动隐身技术的运用和发展。     

真空镀SiOx高阻透薄膜

真空镀SiOx高阻透薄膜是以等离子体化学气相沉积技术为基础，利用激光电子束枪加热，将SiOx制成棒状连续供料，在薄膜表面涂覆SiOx制成新型高阻透性包装用薄膜。该技术实现了SiOx作为蒸发源而不能连续供料，需高温高真空涂覆的难题，涂层厚度只有几十纳米，因而大大提高了生产效率，改进了薄膜的柔性和涂层与衬底材料间的结合力。     

旋转涂覆和浸涂工艺制备MoO3陶瓷薄膜的比较

以钼酸铵为原料，乙二醇为溶剂．用溶胶凝胶法制备氧化钼薄膜．通过对于凝胶粉做DTA和TG分析，用SEM和X射线衍射对薄膜的显微结构和晶相组成进行分析，研究比较了旋转涂覆和浸涂工艺对薄膜形态和结晶相的影响浸涂工艺可得到连续致密的MoO3薄膜，而旋转涂覆工艺易得到不连续颗粒组成的MoO2薄膜。     

等离子体涂层椭球目标的电磁散射

采用椭球坐标系下的分离变量法,结合介质和目标的边界条件导出了涂层导体椭球的电磁散射场计算公式,将入射场、散射场和内场分为轴对称和非轴对称两部分,数值计算了涂敷椭球粒子的单、双站散射截面的角分布,讨论了散射截面随入射波频率、等离子体碰撞频率、电子浓度和涂层厚度的变化规律,对等离子涂层目标的隐身技术研究有一定意义．     

溶胶-凝胶法制备La0.7Ca0.3MnO3薄膜庞磁电阻效应和电流诱导电阻特性

采用溶胶凝胶法成功制备了La0.7 Ca0.3MnO3块材和单晶薄膜,研究了薄膜的电阻随温度的变化特性,以及在不同的恒定电流下,薄膜的电阻的变化特性,实验发现在同一温度下,电阻随着电流的增大而变小,在同一稳恒电流下,在T>Tc 时,电阻随着温度的升高而变小;并且出现了双极值现象。这些输运特性可以采用双交换作用和晶格畸变产生的小极化子的机制来解释。     

条带涂覆平板的远场散射

本文由阻抗劈的高频绕射系数公式,迭加原理和物理光学近似导出条状有耗介质涂覆平板远场RCS的解析表达武。本文结果得到实验验证且和文献符合很好。     

光纤宏弯损耗性能影响因素的仿真研究

为了优选宏弯损耗敏感光纤,研发基于光纤宏弯损耗的光学器件,对影响单模光纤宏弯损耗的主要因素进行了理论分析和仿真研究。基于D.Marcuse和H.Renner提出的光纤宏弯损耗理论模型,选取SMF28、SMF28e和1060XP三种单模光纤,仿真研究了涂覆层、弯曲半径、光源波长、MAC值和弯曲圈数对光纤宏弯损耗性能的影响。结果表明:无涂覆层、带吸收层的单模光纤宏弯损耗随着波长增长而增大、随着弯曲半径增大而减小、随着圈数增多而增大、随着MAC值增大而增大;光纤的丙烯酸酯类涂覆层会引起宏弯损耗随弯曲半径变化发生振荡;MAC值是衡量光纤宏弯损耗敏感性能的指标,也是优选宏弯损耗敏感光纤的重要参数。因此,光纤宏弯损耗器件适合选用MAC值大的光纤,去除其涂覆层,增加吸收层,然后选择较长的波长、较小的弯曲半径和适当多的弯曲圈数。     

各向异性材料部分涂覆导体的散射特性研究

利用物理光学法(PO)与有限元法(FEM)混合方法,研究了有各向异性媒质局部涂覆的电大导体目标的电磁散射问题.在有复杂媒质涂覆的电小结构区域采用有限元法,在未涂覆媒质的电大导体区域采用物理光学法结合等效电磁流法.将两部分区域的边界进行消隐处理,考虑耦合效应,并利用共同的等相位面,将不同区域产生的散射场矢量叠加得到总散射场.文中的实例结果与传统的FEM很好的一致,说明了该方法的有效性和精确性.     

低温型锂离子电池性能研究

着重对影响锂离子电池低温性能的相关因素进行了试验对比分析.结果表明:影响低温下锂离子电池性能的因素很多,如电解液、导电剂比例、活性物质颗粒度、电极涂覆量等.通过分析,总结出相关因素对制备低温型锂离子电池的影响.