用磁控溅射法制备软X射线多层膜

本文介绍用直流-射频平面磁控溅射法制备软x射线多层膜的初步实验结果。在一定工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,严格按照设计周期制备了多层膜样品,并给出了X射线衍射仪小角衍射的检测结果。     

溅射薄膜技术的应用

本文介绍了溅射镀膜的基本原理,溅射镀膜工艺及其在各方面的应用实例。     

一种全向天线的制造工艺技术

以双螺旋锥形全向天线为例,给出了多螺旋锥形全向天线的制造工艺方法：磁控溅射法、柔性微带法和金属带线缠绕法。针对不同的工艺方法,给出了数学模型的直角坐标转换公式、展开图形和实体模型图。     

纳米硅-氧化硅薄膜的XPS测量

利用XPS能很好地分辨出硅基纳米硅-氧化硅膜层中的n-Si和n-SiO2。对Si2P峰进行的拟合处理，可计算出n-Si和n-SiO2的含量，其结果与RF-磁控溅射沉积薄膜中所用的复合靶Si和SiO2的面积比基本一致。     

磁控溅射制备低应力金属膜的工艺研究

研究了在磁控溅射中溅射气压、溅射电压(溅射功率)与金属Au、Ta薄膜应力的关系,分析了相关的机理,给出了一种用磁控溅射法制备低应力Au、Ta薄膜的方法,就应力的产生因素作了一些探讨。     

磁控溅射MoS2薄膜的生长特性研究

利用非平衡磁控溅射技术制备出二硫化钼薄膜,并通过扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究了工作气压和沉积时间对薄膜表面形貌和结构的影响及其演化规律.实验结果表明,在小于0.40 Pa的气压下,沉积MoS2薄膜的(002)面平行于基体表面,而在高于0.60Pa的高气压下,膜层的(002)面垂直于基体表面.在沉积初期,无论工作气压的高低,薄膜均按(002)基面的方式生长;在沉积后期,低气压下形成的薄膜仍按(002)基面方式生长,而在高气压下薄膜将转向以(002)基面与(100)或(110)棱面联合的方式生长.薄膜的表面形貌、微观结构,与薄膜的生长速率和沉积粒子的能量有关.     

Fe/Si3N4复合多层膜的制备及其电磁性能

多层膜结构隐身材料因其特有的结构具有非常好的吸波性能，在隐身领域有很大的应用前景。用磁控溅射方法制备了Fe／Si3N4复合多层膜，利用SEM分析了其微观形貌，测试了其电磁参数，然后与传统吸波材料羰基铁粉比较了低频下的电磁参数。结果表明，Fe／Si3N4复合多层膜的低频吸波性能优越。     

高速钢刀具磁控溅射离子镀TiN涂层的工艺与性能研究

采用磁控溅射离子镀法(MSIP)对高速钢W18Cr4V进行了TiN镀膜试验,对镀膜后试样的各项性能进行了测试分析,并对溅射时间、氮分压、溅射电流等工艺参数对TiN膜层的显微组织、厚度、硬度和耐磨性的影响进行了研究,确定了可获得最佳涂层综合性能的镀膜工艺参数。     

江西兴建低辐射玻璃高科技项目

以低辐射玻璃为主要产品的江西省2003年重点建设项目安源工程玻璃项目日前开工建设。这一高科技项目建成后,将年产低辐射玻璃及其复合产品200万m2,成为江西周边几省区域内最大的玻璃深加工基地。低辐射玻璃是采用离线真空磁控溅射技术在玻璃原片上镀若干层金属、化学膜,形成对太阳光的可见光部分具有较高透过率、对远红外线具有较高阻挡率的功能。这一特种玻璃在夏天能阻挡室外的热量进入室内,在冬天能阻挡室内的热量传出,节能效果达到70%,它还不存在普通热反射玻璃的光污染问题。这一省级重点建设项目由江西省的上市公司安源股份有限公司投…     

平板玻璃的表面改性与镀膜技术

介绍了建筑用镀膜玻璃;阐述了镀膜窗玻璃的光谱特性、光学热学性能参数以及平面磁控反应溅射的成膜技术。