Preparation of Ultra—fine Aluminum Nitride in Thermal Plasma

Ultra-fine aluminum nitride has been synthesized by the evaporation of aluminum powder at atmospheric-pressure nitrogen plasma in a hot-wall reactor.The average size of aluminum nitride particle is 0.11μm measured by scanning electric mirror(SEM),and the purity is at least over90% evaluated by X-Ray diffraction(XRD).The conversion of Al powder to aluminum nitride is strongly depended on the injection of NH3.Typical experimental parameters such as the feed rate of raw material,the flow rate of ammonia and the position of injecting aluminum powder into the reactor are given.     

天然气分析特殊情况时合峰和乙烷峰的分离及含量测试

进行天然气常量组分分析，当乙烷含量很低时，合峰(甲烷和空气)与乙烷峰分不开，无论怎样改变操作参数都无效，出现这种情况时，向试样中加入定量标样进行分析，再通过一定的计算就可测出乙烷含量。方法简便易行。     

SiH4激光等离子体内H谱线的线型研究

本文利用OMA-Ⅲ系统测量了脉冲TEA CO_2激光诱发的SiH_4等离子体发光谱内H巴耳末系的H_α、H_β和H_γ线的线型及线宽。通过理论及实验分析,认为这些谱线的主要加宽机制为Stark加宽。由实验线型和理论线型的拟合得到等离子体的电子温度T≈40000K和电子密度N≈10~(17)cm~(-3)。     

试论价键理论和晶体场理论的统一性

论述了价键理论和晶体场理论的统一性，并将两理论相结合，形成价键－晶体场理论，用于研究配合物的结构问题，取得了满意的结果。     

微波等离子体源在钢表面氮化中的应用

对微波等离子体源和常规等离子体源进行了对比，分析了微波等离子体源应用于离子氮化的优越性，报道了微波等离子体在钢表面氮化中的应用．     

非晶硅基薄膜的等离子体刻蚀光发射谱检测

本文研究了采用锁定放大相干检测技术的等离子体光发射谱检测系统。用该系统检测了仅用CF4作为刻蚀气体刻蚀非晶硅基薄膜的等离子体光发射谱。分析了检测结果和刻蚀机理。     

镁团块球化剂和稀土镁硅铁合金的复合应用

介绍了镁团块球化剂的特点及工艺要求,着重指出,这种球化剂与传统的稀土镁硅铁合金球化剂各半使用可得最佳效果。     

乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合反应历程

应用色谱—质谱(GC-MS)及裂解色谱-质谱(PGC-MS)测定了乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合反应中的气体冷凝物及聚合物,研究推导了等离子体聚合反应历程。单体在气相中被电子撞击,然后扩散到基底,在基底发生链增长和链终止反应。