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硅表面上的纳米量子点的自组织生长 总被引:1,自引:1,他引:0
纳米半导体量子点以其所具有的新颖光电性质与输运特性正在受到人们普遍重视。作为制备高质量纳米量子点的工艺技术 ,自组织生长方法倍受材料物理学家的青睐。而如何制备尺寸大小与密度分布可控的纳米量子点更为人们所注目。因为这是关系到纳米量子点最终能否器件实用化的关键。文中以此为主线 ,着重介绍了各种 Si表面 ,如常规表面、氧化表面、台阶表面以及吸附表面上 ,不同纳米量子点的自组织生长及其形成机理 ,并展望了其未来发展前景 相似文献
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53.
瑞法科学家研究出量子非破坏(QND)测量技术据美国《Phys.Rev.Lett.》报导,瑞典斯德哥尔摩皇家技术研究院和法国巴黎附近的奥尔墨理论与应用光学研究所的研究小组,各自独立研究出了从光束中提取信息然后再复制出含有相同信息的原光束的技术,这两个小... 相似文献
54.
本文制备了四种不同粒度的超微粒AgBr照相乳剂,用X射线衍射技术对其粒子的大小进行了测定;观察到乳剂的紫外吸收峰随晶体颗粒的减小表现出逐渐蓝移;本文提出晶体表面的悬键的存在使得纳米晶体的平均键能升高,并对纳米AgBr乳剂的量子尺寸效应进行了解释。 相似文献
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文章报道了用分子束外延(MBE)法在600℃和650℃下,在Si掺杂的GaAs衬底的(311)A和(311)B面上成功地生长了高质量的AlxGa1-As/GaAs单量子阱材料。计算了光荧光(PL)峰值能量,并与实验作了比较。讨论了(311)A和(311)B面上的不同生长特性。 相似文献
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对In(0.2)Ga(0.8)As/GaAs应变多量子阱在77K下的光调制反射谱(PR)和热调制反射谱(TR)进行了实验研究.对PR结果的线形拟合指认了应变多量子阱中子能级的跃迁,并与理论计算结果作了比较.实验对比确认PR中11H、13H等跃迁结构为非耦合态、具有电场调制机构的一阶微商性质.而11L、31H、22H等跃迁结构为阶间耦合态,对这些隧穿耦合的低场调制产生三阶微商特性. 相似文献
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SDH中泊松分布下误块率与误码率的关系分析 总被引:2,自引:0,他引:2
本文较详细地介绍了SDH中的BIP误码校验方式,推导了泊松分布下,BIP误块率与误码率的一般关系式,给出了SDH中几种典型的误块率与误码率的关系曲线,并做了计算机模拟验证 相似文献