介电多层膜与人工介电超晶格的研究

近年来，铁电薄膜制备技术的迅速发展使得人工介电超晶格的生长成为现实。简要介绍了有关介电多层膜和人工介电超晶格的制备、结构和性能的研究状况，讨论了进一步研究需解决的问题。     

基于功能高分子膜的荧光传感器研究

将荧光试剂荧光素共价连接于聚氯乙烯支链上，首次合成了一种具有荧光敏感功能的高分子材料，用该敏感材料为敏感膜的铜离子荧光熄灭型传感器使用寿命显著延长，对铜离子的检测范围与检测下限分别是２．５×１０＾－５￣１．０×１０＾－３ｍｏｌ／Ｌ和１．０×１０＾－５ｍｏｌ／Ｌ。     

压力水膜结晶器的研究与开发

本研究采用先进的冷却原理开发了压力水膜结晶器。该结晶对铸坯的强化冷却效果显著，有利于提高铸机的拉速，同时对减少漏钢作用也颇为有效。     

黄铜表面多层膜的导电性

采用金属－膜－金属结构测量了黄铜在ＢＴＡ－ＰＶＡ钝化剂中形成的表面我层化学转化膜的导电性。结果表明；膜为半导体，但因钝化工艺不同，膜的导电能力相差较大。ＢＴＡ溶液和ＰＶＡ溶液分步处理得到的膜有２次次以上击穿现象发生；ＢＴＡ＋ＰＶＡ混合液处理的膜表现出良好的导电性，有准金属行为，经含微量六价铬的溶液预钝化后，再在ＢＴＡ＋ＰＶＡ混合液中钝化，则膜的导电能力介于上面两之间，有１至２次击穿现象。     

PVDF中空纤维滤膜的形态结构

用Ｌ－Ｓ相转换法制备了聚偏氟乙烯（ＰＶＤＦ）中空纤维不对称滤膜。铸膜液由聚合物、溶剂和添加剂组成。用电子显微镜（ＳＥＭ）考察了聚合物浓度、添加剂用量及种类对膜形态结构的影响。实验结果表明，聚合物浓度对膜形态结构有显著影响，当铸膜液中聚合物浓度较低时，无论用什么种类添加剂，都能形成大、且多的孔，但孔的形状随添加剂不同而异。当恒定聚合物浓度时，添加剂的用量对膜形态结构有很大的影响，但孔的大小及多少与添加剂含量的多少不成正比。     

渗析法处理酸洗废液的膜面积

本文介绍了渗析地处理钢铁酸洗废液的原理，建立了计算渗析膜面积的公式，提出了渗析适宜条件是流入倍数为１．０５－１．２５，回收率为８０％－９０％。     

NH_4Cl水溶液在成膜过程中的致孔作用

本文以ＮＨ４Ｃｌ饱和水溶液做添加剂，对ＰＶＤＦ／ＮＭＰ体系在成膜过程中的致孔作用做了研究。铸膜液中随ＮＨ４Ｃｌ水溶液加入量的改变，膜孔径也发生变化，并出现最大值。通过Ｘ－射线衍射扫描发现制膜液中存在无机盐时膜中无定形态结构增加，表明无机盐的加入有助于膜孔形成     

无机膜的应用与展望

本文综述了无机膜的发展、制备方法和应用。     

氮化钛薄膜的高分辨AES谱和XPS谱研究

着重讨论了TiNx薄膜俄歇电子谱的定量分析方法和X射线光电子谱中线形的变化。利用已知组元强度定量分析技术和Ti的LMV俄歇电子峰，探讨TiNx薄膜中N含量的定量方法。由该方法给出的定量结果与X射线光电子谱定量结果相一致。同时，利用X射线光电子谱测定了TiN和Ti2N2p轨道的结合能。并针对Ti2p峰形随N含量的变化，给出新的解释。     

薄Si膜对基底表面粗糙度的影响

利用ＺＹＧＯ光学干涉测量仪，散射积分测量法观测了光学元件表面均方根粗糙度．详细分析了薄Ｓｉ膜对基底均方根粗糙度的影响，由此认为薄膜并不总是复制基底表面的粗糙度，结果出现了薄膜降低表面粗糙度的现象．提出了一定厚度范围的薄Ｓｉ膜的表面粗糙度存在着一个稳定值的新设想．