金刚石光学薄膜的制备有其在宝钢的应用

化学气相沉积金刚石薄膜是近年来发展很快的一种新材料，着重描述了在减少薄膜的散射从而改善其光学性质方面的工作与成果，并介绍了它作为红外光学增透保护膜在上海宝山钢铁厂的应用。     

PZT多层薄膜物性的研究

对磁控溅射ＰＺＴ铁电多层薄膜进行了分析。结果表明：通过多层薄膜合理的设计和厚度控制，可以改善薄膜进一步的器件应用提供了可能性。通过研究发现，制备多层较理想的溅射条件是衬底温度Ｔ＝６５０℃，薄膜子层厚度约为３００ｎｍ，衬底则以ＭｇＯ（１００）单晶、Ｓｉ２（１００）单晶为佳。结构分析的结果显示出：ＰＺＴ以铁电膜中的晶粒排列整齐，颗粒大小均匀，基本上和衬底成定向织构，膜的角度对多层膜的绝缘性能影响不大，     

薄膜微型电源

介绍了新型的薄膜微型电源的工作原理、结构及制造工艺。     

电子束和热退火后处理的射频溅射沉积ZrO2—Y2O3薄膜的结构特征

对射频磁控溅射沉积的ＺｒＯ２－１２ｗｔ％Ｙ２Ｏ３薄膜进行了电子束处理和热退火处理。通过ＸＲＤ，ＸＰＳ，ＳＥＭ等的微观分析，研究了薄膜的相结构组成，薄膜主要组成元素的氧化态以及薄膜的形貌特征。并对以提高薄膜增韧性为目的而进行的后处理的方式选择作了讨论。     

氧化锡基ZnO／SnO2UPF复合工艺对其微观结构的影响

着重讨论了用直流气体放电活化反应蒸发沉积法制备的氧化锡基ＺｎＯ／ＳｎＯ２超微粒子薄膜（ＵＰＦ）的制备工艺对其物相结合及表面形貌等影响。结果表明：复合型薄膜上层的ＺｎＯＵＰＦ比单层薄膜的ＺｎＯＦＵＰＦ致密；主要晶相成分为ＳｎＯ２相，并沿（００２）、（１１０）、（１０１）等晶面择优生长；ＺｎＯ相呈非晶态结构。     

衬底对PZT铁电薄膜显微结构的影响

利用ＸＲＤ和ＳＥＭ观察了在不同衬底材料上用Ｓｏ１－Ｇｅｌ法制备的ＰＺＴ铁电陶瓷薄膜的显微结构。发现ＰＺＴ薄膜的结晶性能受衬底材料的影响极大。ＰＺＴ薄膜在金属铂片上能够很好地结晶，而在单晶硅片上则很难结晶，其在镀铂硅片上的结晶难易程度介于金属铂片与单晶硅片之间。在衬底上制备ＰＴ过渡层可以促进ＰＺＴ薄膜的结晶。     

沉积方式与基体材料对TiN薄膜内应力的影响

本文研究了TiN薄膜在化学气相沉积、物理气相沉积(包括热灯丝离子镀和多弧离子镀)以及等离子增强化学气相沉积等不同生成条件下的内应力变化。并通过改变钢及硬质合金基体的化学成份和表面状态。考察了基体材料对薄膜应力的影响。在此基础上,对薄膜内应力的形成机制进行了分析讨论。     

含淀粉聚乙烯膜的时控光降解研究

使用复合光降解剂，得到了可光降解的生物降解膜。对膜的光降解进行了考察，并对影响光降解的因素进行了讨论，结果表明，我们所制得的膜是一种较好的时控光降解膜。     

SnO2光敏,气敏元件的性能研究

报道了用常压蒸发法制备的ＳｎＯ２薄膜的光敏性能和用烧结法制备的圆珠状气敏元件的气敏性能。初步探讨了其结构与机理。指出进行集光敏、气敏全一体的传感器的研究。     

金刚石薄膜中晶粒尺寸的研究

扫描电子显微研究表明，化学汽相沉积的金刚石薄膜中晶粒大小比较均匀。但随着沉积时间和薄膜厚度的增加，晶粒逐渐变大，且每一层内，存在少量的大金刚石颗粒，讨论了晶粒尺寸变化和大晶粒形成的原因和机制。