非接触式全场三维激光ESPI与Shearography(NDT)测试技术

本文介绍最新激光电子散斑干涉技术ESPI与Shearography激光错位检测技术的基本原理及其应用.该技术足近十年间发展起来的最新的光测技术,它们的特点是非接触式全场三维测试,适用于新材料研究、电子元器件与构件的力学性能试验、振动测试及无损检测.国外的应用表明,ESPI技术可以提供快速、全场、三维的测试信息,能解决许多目前电测方法所不能解决的复杂问题,是目前具有广泛工程应用前景的先进的光测技术.     

用CMOS工艺实现非接触IC卡天线的集成化设计

论述了用CMOS工艺实现非接触式IC卡天线的集成化需要考虑的各个方面,建立了集成天线的模型,给出了合理的设计方案,并通过实验验证了模型和设计方案.实验结果表明,采用片上天线完全可以提供非接触式IC卡工作所需要的能量.在频率为2 2 .5 MHz、感应强度为6×10 - 4 T的磁场中,面积为2 m m×2 mm的集成天线可以为10 kΩ的负载提供1.2 2 5 m W的能量.     

X射线光刻掩模背面刻蚀过程中的形变仿真

开发了理论模型以验证有限元方法用于X射线光刻掩模刻蚀过程数值仿真的正确性。利用相同的有限元技术，对X射线光刻掩模的背面开窗、Si片刻蚀过程进行数值仿真。结果表明，图形区域的最大平面内形变(IPD)出现在上、下边缘处，最大非平面形变(OPD)出现在左、右边缘处。此外对Si片单载荷步刻蚀和多载荷步刻蚀的仿真进行比较，结果表明图形区域最终的形变量与Si片刻蚀的过程无关。     

基于形态学top-hat算子的多传感器图像融合

本文根据形态学top-hat算子能够提取图像中极大值与极小值区域的特点,将其应用于多传感器图像融合的两个重要领域——多聚焦图像融合和高分辨、多光谱图像融合.实验中将本文方法与Laplacian塔型变换、子波变换、主分量分析等方法进行了比较,结果表明本文所提的基于top-hat算子的融合方法具有优越的性能,拓广了top-hat算子的应用范围.     

大米检验中的染色法

对大米加工精度、糯性米与非糯性米、稻米新陈度的染色法汇编成卡片。     

陆东凹陷油气藏烃类组成非均质性及其意义

陆东凹陷原油和油砂抽提物中烃类的宏观组成存在着明显的非均质性。在高孔隙度(>15%)储层单元中,饱和烃的含量高,占总组成的含量均大于40%,而极性化合物则相对较低,一般不足40%;相反,在低孔隙度(<15%)储层单元中,饱和烃的含量明显降低,而极性化合物则显著增加。此外,陆东凹陷原油和油砂抽提物中烃类成熟度亦存在着非均质性:在高孔隙度储层中,原油和油砂烃类的成熟度参数高,而在低孔隙度储层中原油和油砂烃类的成熟度参数低。根据原油和油砂抽提物中烃类的宏观组成特征和成熟度参数的变化规律,提出了陆东凹陷油气聚集模式。     

声发射检测技术在油罐底板腐蚀检测中的应用

声发射检测技术(Acoustic Emission Detection Technique,简称AE)主要用于对地面油罐的底板腐蚀状况进行非破坏性检测。该技术利用紧贴在油罐外壁的多个高灵敏度探头所发出的声波数据,用声波检测仪来分析和判断油罐底板腐蚀状况。台湾省石油公司炼制研究所采用Physical Acoustic     

豚鼠耳蜗毛细胞静纤毛变异的扫描电镜观察

为进一步了解豚鼠耳蜗毛细胞静纤毛变异的形态特征和原因，采用本实验室20多年各种实验动物耳蜗的扫描电镜观察标本，回顾分析耳蜗毛细胞静纤毛的形态特征和变异。收集正常对照豚鼠37只，受噪声刺激者187只，给予耳毒性药物（奈替米星）实验者20只，WM88拈抗庆大霉素耳毒性实验观察24只，丹参滴耳液实验6只，激光辐射镫骨底板实验7只，给予负压和超压者6只，接受次声者23只。共观察豚鼠310只，620只耳蜗。样品制备按照常规或本实验室改良的技术方法进行，所有动物均快速断头处死，取出双侧颞骨，挑破圆窗膜，取出镫骨，打开卵圆窗，用针在耳蜗尖挑一小孔，用21．5％戊二醛做蜗管内灌注固定，随后置冰箱连续固定8h。0．1mol／L磷酸缓冲液漂洗后，1％四氧化锇固定2h。然后在0．1mol／L磷酸缓冲液中去除耳蜗骨壳，去除螺旋韧带、前庭膜，充分暴露Corti器。单宁酸导电染色，梯度酒精脱水，HCP-2型临界点干燥仪干燥，E-102型离子溅射仪镀金。Philip SEM 505型或Hitachi S-800型扫描电镜观察。     

基于均匀光纤光栅的DWDM系统PMD补偿方法

提出一种基于均匀光纤Bragg光栅(FBG)的透射型密集波分复用(DWDM)系统多信道偏振模色散(PMD)补偿方案。当FBG受到横向挤压时，会产生双折射现象。当一波长的光信号从光栅带隙附近透射时，就会在快轴和慢轴之间产生时延差(DGD)。通过改变外力的大小来调节DGD的大小可以实现对PMD的补偿。通过将多个补偿光栅级联，就可以实现对DWDM系统多信道PMD的补偿。在100N外力作用下，5cm长的光栅最大可以补偿121ps的PMD，而对相邻0．8nm的信道，只引入0．2ps的DGD。     

现代电子工业Cpk评价中的特殊问题

现代电子工业生产具有许多新的特点，如果不针对具体情况，均采用传统工业生产中广泛使用的常规方法计算其工序能力指数，评价生产工艺水平，将可能导致错误的结论。总结了电子工业生产中工艺参数的典型特点，并讨论了工序能力指数的正确计算方法。