软X射线对血液有形成分表面电荷的影响——2、淋巴细胞和血小板膜电荷的变化

软X射线不仅能引起红细胞表面电荷的变化,同时也能导致淋巴细胞和血小板表面电荷下降,表现为照射后它们的电泳率下降。低剂量范围内,这种电荷的变化是暂时性的,照后4小时降到最低点,24小时后恢复到对照的水平。细胞电泳率的下降与辐射剂量相关。淋巴细胞是一个复杂的细胞群,正常状态下,按细胞在电场中泳动速度的快慢,可分为两个组分:快峰为T细胞,慢峰为B细胞。软X射线照射以后,T和B细胞的电泳率皆减慢,频数分布峰值下降,离散度加大。血小板成分单一,电泳率较一致。 从照射浓集的血小板再加回自身血浆中电泳率的下降较照射血浆再加到血小板中的电泳率下降大得多;受照射的血小板在磷酸缓冲液中电泳率下降较在血浆悬液中严重得多;2000 rad照后,悬浮于血浆中的血小板电泳率能恢复,而悬浮于磷酸缓冲液中则不能恢复,三个方面来看,血浆中可能存在抗辐射因子。超氧化物岐化酶能有效地预防血小板电泳率的下降,从而可阻止血小板的凝聚。     

金刚石膜的计算机虚拟制备技术中的分子动力学模拟

综述了近年来金刚石薄膜形成过程的分子动力学（Molecular Dynamics，简称MD）模拟研究，详细地阐述了原子间相互作用势的选取，总结了不同沉积条件下MD的计算模型和几种典型情况下的模拟结果。研究表明：在原子尺度上，MD方法能较全面地提供有关膜生长的信息，对进一步了解金刚石膜形成的微观机制以及为细观层次仿真提供基本信息均具有重要意义。     

里印故障与处理方法

前言:里印虽属软包装凹版印刷的范畴,作为凹版复合包装印刷如日中天。对此,包装印刷界深深体会到:“最易也最难”,因为复合包装印刷工艺技术的种类繁多,但一点是共同的——试产、试印、检测、论证/批产、批印、检验、认定,才使其达到适应、质量稳定。这是一个磨合的阵痛过程,虽然看似简单平淡,但做起来确非易事。实践和经验告诉人们:复合包装印刷油墨的应用同其它油墨一样在这个磨合期中只有运用、分析和积累,才能避免故障的发生。为此,下面就其常常出现的十一大故障(同表印一样的部分本文略述),介绍其处理的方法,以包装印刷界同仁商榷。     

钨酸根抑制不绣刚局部腐蚀的机理

用X射线光电子能谱(XPS)研究了AISI304不锈钢在含WO2-4+Cl-的模拟闭塞电池中形成钝化膜的组成与结构及WO2-4抑制其局部腐蚀的机理.研究表明,闭塞区内AISI304不锈钢表面的钝化膜的外层主要为WO2-4、CrO3、CrCl3、FeCl2和FeCl3,此外,还有少量的Ni2O3、Fe2O3、CrO2-4、γ-FeOOH以及Fe(OH)3;溅射5 min时膜内层主要为Cr2O3、CrOOH、Cr(OH)3、FeCl2、FeCl3和WO3,还有少量的WO2和WO2-4.WO2-4对钝化膜的影响在于WO2-4迁入闭塞区后吸附在金属表面,可全部或部分取代吸附在钢表面的Cl-,并与腐蚀产物Fe2+发生氧化还原反应生成Fe3+和WO2,WO2-4与Fe2+、Fe3+反应生成难溶化合物FeWO4和Fe2(WO4)3覆盖在阳极上,形成较耐蚀的保护膜,降低闭塞区内自催化效应速度,从而抑制局部腐蚀的进一步发展.     

塑料温室齿条开窗与卷膜开窗的对比与选用

介绍两种开窗形式的工作原理及其特点,总结了这两种开窗形式在实际使用中的一些经验,时它们的选用提出一些建议.     

用膜电解法处理低浓度SO2吸收液的三室电解槽材料的选择

提出了用膜电解法处理低浓度SO2吸收液的方法，介绍了三室电解槽的设计原理及在电场作用下，电解槽内离子的迁移和电解反应机理，系统地讨论了电解槽组成单元材料（如阳离子交换器）的选择及在H2SO4－NaHSO3-Na2SO3体系中金属阳极的选择等，并进行了试验验证，得到了很好的结果。     

聚丙烯烟膜专用料通过鉴定

2002年12月24日,由中国石化北京燕化石油化工股份有限公司树脂应用研究所(简称树脂所)和聚丙烯事业部合作开发的《聚丙烯(PP)烟膜专用料的研制》顺利通过了中石化股份有限公司专家组的鉴定。燕化公司副总经理杨清雨、副总工程师华炜等公司领导参加了鉴定会。由清华大学教授张增民、北京化工大学教授周亨劲、中国包装协会塑料包装委员会秘书长蔡明池、中石化科技部张勇副主任、王玉庆处长等专家组成     

天津石化开发纳米高透明线型低密度聚乙烯棚膜料

<正>近日,天津石化开发的纳米高透明线型低密度聚乙烯棚膜专用料,成功实现了工业化生产。经检测,全部18批产品的薄膜雾度均小于8%,能较好地满足农膜市场上对高透明性品种的需求。     

高分子纳米LB膜的制备及其光刻性能研究

合成并表征了N-十六烷基丙烯酰胺（HDA）和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯（BPhMA）的共聚物p（HDA-BPhMA）s。当HDA含量较高时，共聚物可在气，液界面上形成稳定，排列紧密的单分子薄膜，并可以Y型膜的方式沉积在各种固体基片上，形成多层均匀的Langrnuir-Blodgett（LB）膜。这种LB膜被成功地应用于光刻，获得了分辨率为0.5μm的LB膜图形。以该图形为抗蚀层，可将图形进一步转移至金属薄膜上，得到分辨率较高的金属图形，在图形转移的过程中，这种LB膜显示出较高的抗蚀性，有望作为纳米抗蚀薄膜材料在亚微米刻蚀领域得到应用。