首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   30440篇
  免费   2240篇
  国内免费   2471篇
电工技术   1316篇
综合类   1897篇
化学工业   5763篇
金属工艺   3312篇
机械仪表   2111篇
建筑科学   876篇
矿业工程   229篇
能源动力   1511篇
轻工业   1829篇
水利工程   155篇
石油天然气   442篇
武器工业   288篇
无线电   5725篇
一般工业技术   6980篇
冶金工业   726篇
原子能技术   612篇
自动化技术   1379篇
  2024年   140篇
  2023年   376篇
  2022年   604篇
  2021年   724篇
  2020年   838篇
  2019年   730篇
  2018年   724篇
  2017年   983篇
  2016年   964篇
  2015年   979篇
  2014年   1413篇
  2013年   1741篇
  2012年   1897篇
  2011年   2452篇
  2010年   1767篇
  2009年   1876篇
  2008年   1692篇
  2007年   2156篇
  2006年   1946篇
  2005年   1639篇
  2004年   1490篇
  2003年   1255篇
  2002年   1029篇
  2001年   955篇
  2000年   847篇
  1999年   698篇
  1998年   612篇
  1997年   500篇
  1996年   407篇
  1995年   366篇
  1994年   332篇
  1993年   271篇
  1992年   191篇
  1991年   142篇
  1990年   99篇
  1989年   100篇
  1988年   55篇
  1987年   36篇
  1986年   20篇
  1985年   15篇
  1984年   19篇
  1983年   9篇
  1982年   11篇
  1981年   8篇
  1980年   6篇
  1979年   7篇
  1976年   3篇
  1974年   3篇
  1963年   3篇
  1959年   10篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
41.
42.
使用光强标定的发射光谱(AOES)测量了CHF3/C6H6混合气体的微波电子回旋共振(ECR)放电等离子体中基团的分布状态。实验发现随着CHF3流量的增加,成膜基团CF、CF2、CH等的相对密度增大,而刻蚀基团F的密度也会增加,从而使得a—C:F薄膜的沉积速率降低。同时红外吸收谱(IR)分析表明,在高CHF3流量下沉积的a—C:F薄膜中含有更高的C—F键成分。可见在a—C:F薄膜的制备中CHF3/(CHF3 C6H6)流量比是重要的控制参量。  相似文献   
43.
提出了在碱性抛光液中铝薄膜化学机械抛光的机理模型,对抛光液的pH值、磨料、氧化剂浓度对过程参数的影响做了一些试验分析。试验结果表面粗糙度的铝薄膜所需的最优化CMP过程参数:硅溶胶粒径为15~20nm,pH值为10.8~11.2,氧化剂浓度为2.5%~3%。  相似文献   
44.
用溶胶-凝胶技术在Bi(100)衬底上制备了单层和渐变型多层的BaxSr(1-X)TiO3薄膜,其膜层组分分别为:Ba0.7Sr0.3TiO3,Ba0.8Sr0.2TiO,Ba0.9Sr0.1TiO3,BaTiO3,对生长制备出的多层BaxSr(1-X)TiO3薄膜进行了变角度椭偏光谱测量,通过椭偏光谱解谱分析研究,首次得到了BaxSr(1-X)TiO3多层膜结构不同膜层的膜厚和光学常数,其结果显示:椭偏光谱分析得到的不同膜层的膜厚与卢瑟福背向散射测量得到的结果基本相符;渐变型多层膜中BaTiO3薄膜的折射率比单层BaTiO3薄膜折射率大许多,与体BaTiO3的折射率相接近,这说明渐变型多层膜中BaTiO3薄膜的光学性质与体材料的光学性质接近。  相似文献   
45.
基于多抽样率信号处理的无源雷达MTD方法   总被引:1,自引:0,他引:1  
鞠晓燕  陶然  王越 《现代雷达》2004,26(4):43-46
以数字电视信号为机会照射源的雷达系统研究为背景 ,提出用以多抽样率信号处理为基础的多级抽取信号处理算法解决运动目标检测中海量数据处理问题。文中叙述了数字电视广播信号回波的数学模型、多级抽取基本原理、目标检测算法 ,以数字电视信号为反射回波做了仿真 ,对运动目标进行检测 ,并对仿真结果做了分析。  相似文献   
46.
A three-dimensional model was developed to investigate the influence of various hot filaments parameters on substrate temperature fields that significantly affect the nucleation and growth of diamond films over large area by hot-filament chemical vapordeposition (HFCVD). Numerical simulated results indicated that substrate temperature varies as a function of hot filamentsnumber, radius, temperature, emissivity, the distance between filaments, and the distance between substrate and filamentsarrangement plane. When these filaments parameters were maintained at the optimal values, the homogeneous substrate temperature region of 76 mm×76 mm with the temperature fluctuation no more than 5% could be obtained by a 80 mm×80 mmhot filaments arrangement plane. Furthermore, the homogeneous region could be enlarged to 100 mm×100 mm under thecondition of supplementary hot filaments with appropriate parameters. All of these calculations provided the basis for speciallyoptimizing the hot filaments parameters to dep  相似文献   
47.
SnO2 是最早使用也是目前使用最广泛的一种气敏材料 ,使用该材料设计制作的气敏传感器具有许多优点。在简要介绍溅射镀膜的成膜过程和特点的基础上 ,着重介绍了SnO2 膜的制备流程 ,分析了功率和温度变化对成膜质量的影响  相似文献   
48.
Investigation into polishing process of CVD diamond films   总被引:1,自引:0,他引:1  
A new technique used for polishing chemical vapor deposition (CVD) diamond films has been investigated, by which rough polishing of the CVD diamond films can be achieved efficiently. A CVD diamond film is coated with a thin layer of electrically conductive material in advance, and then electro-discharge machining (EDM) is used to machine the coated surface. As a result, peaks on the surface of the diamond film are removed rapidly. During machining, graphitization of diamond enables the EDM process to continue. The single pulse discharge shows that the material of the coated layer evidently affects removal behavior of the CVD diamond films. Compared with the machining of ordinary metal materials, the process of EDM CVD diamond films possesses a quite different characteristic. The removal mechanism of the CVD diamond films is discussed.  相似文献   
49.
本文用计算机数字模拟方法研究了电活性分子多层Z型L-B膜修饰电极的循环伏安行为。计算了电极与修饰L-B膜分子第一层之间的电荷转移速度常数K_o,L-B膜分子层间的电荷转移速度常数k_i;对峰电位差△E_p及阳极峰面积Q的影响,以及在不同条件下各层分子的氧化态分数随扫描时间的变化。为研究和设计电活性分子修饰电极的实际体系提供了大量数据和信息。  相似文献   
50.
水溶性防氧化剂在SMT用印制板上的应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
朱民 《电子工艺技术》2002,23(3):104-107
水溶性的防氧化剂是一种有机可焊性保护剂。其方法是在印制板完全阻焊、字符层的印刷,并经电检之后,通过表面浸渍在裸铜的贴片位或通孔内形成一种耐热性的有机可焊性膜层。这种有机、可焊、耐热的膜层,膜厚可达0.3-0.5mm,其分解的温度可达约300℃,传统的印制板的热风整平法亦无法满足QFP愈来愈密集的需求,同时也无法满足SMD表面平整度的要求,更无法适应PCB薄型化生产。烷基苯并咪唑的OSP法能弥补这项缺陷,因而在PCB业乃至SMT产业中得到了广泛的应用。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号