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251.
针对X射线二极管平响应滤片的设计要求,采用电子束蒸发生长薄金层、紫外光曝光光刻、微电镀厚金层、体硅腐蚀制作镂空结构和等离子体刻蚀去掉PI等技术,成功制备了阵列结构的圆孔直径为5μm,周期为10.854μm,金层厚度分别为50,400nm的薄、厚两种金层滤片。电镀过程中采用台阶仪多次测量图形四周电镀厚度后取均值的方法得到尽可能准确的电镀厚金层。滤片交付实验后,在X光能量0.1~4keV取得的平响应曲线标准偏差与均值之比在13%以内,可以满足相关单位的具体物理研究实验要求。 相似文献
252.
253.
254.
沉积温度对ZnO薄膜结构及发光性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
利用Nd-YAG激光器(波长为1064nm,频率为10Hz)做光源,采用纯金属锌靶,以Si(111)为基体在有氧的气氛中通过激光烧蚀锌靶表面来制备氧化锌薄膜,研究基体温度对ZnO薄膜结构及发光性能的影响.通过XRD和AFM原子力显微镜来表征氧化锌薄膜的结构和表面形貌,其光学性质由光致发光谱来表征.结果表明:在450-550 ℃的条件下沉积的ZnO薄膜具有c-轴择优取向,500℃时c-轴取向最明显.具有c-轴取向的ZnO薄膜具有强的紫外光发射和弱的绿光发射,发光中心在518nm处的黄绿光发射主要归因于电子从导带底部到氧位错缺陷OZn能级之间的跃迁. 相似文献
255.
以天然矿物为原料,添加其他化学试剂在微波场中合成了矿物无机凝胶,反应时间由常规的6~8h减至45m in,反应温度由230~310℃减至90~95℃。经XRD、DTA、IR和化学成分分析,均表明其特征与天然矿物无机凝胶具有很好的吻合性。 相似文献
256.
紫外激光与半导体相互作用是当今国内外研究的热点。综述了紫外激光与半导体相互作用在光电子产业、激光加工、激光表面改性等方面的应用。介绍了紫外激光与半导体相互作用的基本原理,总结了紫外激光烧蚀半导体的理论模型,包括热传导模型、载流子耦合扩散模型、光化学模型、表面热蒸发模型、双温模型、表面充电模型等。总结了关于损伤形貌、烧蚀阈值和紫外激光损伤半导体机理的实验研究。提出了紫外激光与半导体相互作用可能的研究和新的应用方向。 相似文献
257.
韦正世 《光纤与电缆及其应用技术》2011,(2):18-21
由于固化前后紫外光(UV)固化涂层材料分子链中>C-C<键上的C-H键面外弯曲振动在810cm-1附近产生的红外特征吸收峰会发生变化,因而采用了傅里叶变换红外光谱法(FTIR)对特种微型光缆外护层固化度进行测定.借此对不同抗氧阻聚、辐照时间等工艺条件下以及长期储存过程中特种微型光缆外护层的固化度进行研究及原因分析,为控... 相似文献
258.
UV/Fenton法处理硝基苯废水的试验研究 总被引:7,自引:0,他引:7
以自配硝基苯水样为处理对象,采用自制光反应器,用还原-偶氮光度法测定出水中硝基苯的含量,再计算出硝基苯的去除率,然后比较分析各反应的去除效果。研究表明,UV/Fenton法有较高的去除率和反应速率,反应时间、投加量和硝基苯浓度三因素影响最大。试验确定了最佳反应条件:倍数应在1.5左右;Fe2 与H2O2的摩尔比为1∶30;pH值宜选在4左右;硝基苯的质量浓度不宜大于200mg/L;载气在该反应中的作用不大;反应时间为50 min。在最佳反应条件下,去除率可达到95%。 相似文献
259.
采用5种光引发剂体系,通过LED紫外光固化技术制备了玻璃纤维(GF)增强不饱和聚酯树脂(UPR)复合筋材(直径达1.5 cm),进行了热重分析以及力学性能测试,讨论了光引发剂种类及浓度(0.1%~2.0%,质量分数)、紫外光波长(365 nm、395 nm)、光照强度(30~750 mW/cm2)和光照时间对固化及制品性能的影响。结果表明:波长为365 nm的光源具有更好的固化效果;对于给定的引发剂体系,随着光照强度的增加,表观固化时间缩短;巴氏硬度随光照强度的增强而增大,且趋于稳定。在相同的紫外光光照强度下,表观固化时间一般随光引发剂浓度的升高而降低,但对于PI1光引发剂体系,表观固化时间随光引发剂浓度的升高先降低而后又升高。采用PI0或PI5作为光引发剂,紫外固化40 s所得复合材料的拉伸强度达到1 000 MPa,弹性模量达到45 GPa,均优于经热固化所得复合材料,表明,通过LED紫外光固化技术,高效制备厘米级大直径筋材具有可行性。 相似文献
260.
The effects of 1 Me V electron irradiation in air at a fixed accumulated dose and dose rates of 393.8,196.9,78.8,and 39.4 Gy s-1on a shape memory epoxy(SMEP)resin were studied.Under low-dose-rate irradiation,accelerated degradation of the shape memory performance was observed;specifically,the shape recovery ratio decreased exponentially with increasing irradiation time(that is,with decreasing dose rate).In addition,the glass transition temperature of the SMEP,as measured by dynamic mechanical analysis,decreased overall with decreasing dose rate.The dose rate effects of 1 Me V electron irradiation on the SMEP were confirmed by structural analysis using electron paramagnetic resonance(EPR)spectroscopy and Fourier transform infrared(FTIR)spectroscopy.The EPR spectra showed that the concentration of free radicals increased exponentially with increasing irradiation time.Moreover,the FTIR spectra showed higher intensities of the peaks at 1660 and 1720 cm-1,which are attributed to stretching vibrations of amide C=O and ketone/acid C=O,at lower dose rates.The intensities of the IR peaks at 1660 and 1720 cm-1 increased exponentially with increasing irradiation time,and the relative intensity of the IR peak at 2926 cm-1decreased exponentially with increasing irradiation time.The solid-state13 C nuclear magnetic resonance(NMR)spectra of the SMEP before and after 1 Me V electron irradiation at a dose of 1970 k Gy and a dose rate of 78.8 Gy s-1 indicated damage to the CH2–N groups and aliphatic isopropanol segment.This result is consistent with the detection of nitrogenous free radicals,a phenoxy-type free radical,and several types of pyrolytic carbon radicals by EPR.During the subsequent propagation process,the free radicals produced at lower dose rates were more likely to react with oxygen,which was present at higher concentrations,and form the more destructive peroxy free radicals and oxidation products such as acids,amides,and ketones.The increase in peroxy free radicals at lower dose rates was thought to accelerate the degradation of the macroscopic performance of the SMEP. 相似文献