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TiO2光催化剂表征技术及催化活性影响分析 总被引:2,自引:1,他引:2
TiO2光催化氧化技术是近年来国内外的一个热点研究领域,具有良好的应用前景。文中系统介绍了TiO2光催化作用机理,评述了TiO2光催化剂的表征方法及影响其光催化活性3个主要因素,最后讨论了TiO2光催化氧化技术的发展方向。 相似文献
72.
TiO2的光催化作用及其研究进展(Ⅱ) 总被引:8,自引:1,他引:8
马荣骏 《稀有金属与硬质合金》2006,34(3):23-29
对新型光催化剂TiO2所具有的活性强、氧化性能好、节能、成本低、无毒等优异性能进行了介绍,并对其性质、结构、催化性能、影响因素、掺杂改性及研究和应用,做了扼要阐述。 相似文献
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74.
柠檬酸助微波水热法制备纳米ZnS及其光催化性能研究 总被引:3,自引:0,他引:3
以锌粉和硫化钠为原料,利用柠檬酸助微波水热法制备得到了纳米ZnS光催化剂。XRD、TEM、PSD、FTIR分析结果表明,获得的产品属于高纯的立方形(闪锌矿)晶相,微粒粒径小,粒径分布窄。与水热法相比,反应时间明显缩短。CBW水溶液的光催化降解活性测试结果证实,与直接水热法获得的ZnS光催化剂相比较,微波水热法制得的产品表现出更高的催化活性。 相似文献
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硫化锌掺杂二氧化硅(以下简用ZnS+SiO2表示)靶材主要用于CD-RW,DVD-RAM光盘,它通过溅射方法在光盘上形成一层保护膜,以保证光盘的记录性能不受外界条件的影响.靶材的密度越高,溅射形成的膜的质量越好.ZnS+SiO2靶材可通过热等静压工艺或热压工艺获得,本实验采用真空热压工艺对ZnS+SiO2靶材致密化进行了研究,分析了主要热压工艺参数对ZnS+SiO2靶材密度的影响.最适宜的热压温度为1 250℃,压力为36 MPa,时间为3 h,采用此工艺参数制备的靶材相对密度达99.2%. 相似文献
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