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51.
金刚石薄膜衬底表面不同预处理对薄膜表面形貌的影响   总被引:3,自引:0,他引:3  
用微波等离子体化学气相沉积(CVD)设备,在经过不同粒度的SiC研磨粉进行粗化预处理过的金属钼衬底上沉积出了表面形貌有较大差异的金刚石薄膜,分别用扫描电子显微镜(SEM)、光学显微镜和X射线衍射谱(XRD)以及Raman光谱对样品进行了分析测试,并研究了各样品的场致电子发射特性。结果发现:在我们的实验范围内,对钼衬底研磨预处理所用的SiC研磨粉的粒度越大,其上沉积出的金刚石薄膜样品的表面越粗糙;而金刚石薄膜的表面越粗糙,其场致发射的效果也越好。  相似文献   
52.
注水介质中喹啉缓蚀剂对管线钢的缓蚀作用研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
目的在注水介质中加入喹啉缓蚀剂可有效防止石油设备的腐蚀,注水管表面形成的钝化膜可减小注水介质的腐蚀,研究喹啉缓蚀剂在X70钢表面的吸附膜的生长规律。方法采用恒电位快速划伤法,利用高场强离子传导模型对划伤数据进行计算。结果高场强离子传导模型不完全适用于喹啉缓蚀剂在注水介质中X70钢表面的生长过程。通过进一步函数拟合,发现模拟注水介质中喹啉缓蚀剂在X70钢表面的吸附膜生长动力学规律遵循J(t)=C1exp(-αt)+C2exp(-βt)+C0。结论添加0.3%,0.6%(质量分数)喹啉缓蚀剂后,电流衰减过程中的电流波动较大,形成的膜稳定性较差,划痕区域有发生局部腐蚀的可能性;添加0.9%(质量分数)喹啉缓蚀剂后,拟合曲线与实测电流衰减曲线吻合度达到0.9983,电流波动较小,缓蚀剂吸附膜的稳定性较好。注水介质中,喹啉缓蚀剂含量越高,吸附成膜的质量越好,划伤前后电流密度差越小,划痕表面吸附膜生长状态与未划伤表面吸附膜状态一致,即在较高含量下喹啉吸附膜在受破损的钢表面能快速吸附成膜,能够对试样起到快速全面的保护作用。  相似文献   
53.
Fracture resistance of technical quartz and normal window glasses was investigated in testing polished rectangular parallelepipeds by edge flaking their long edges with Rockwell and Vickers indenters (EF method) and by scratching the specimen surface with a Rockwell indenter followed by flaking its edge (S+EF method). It was established that the fracture of those glass specimens in their edge flaking with a Rockwell indenter was started with the formation of a Hertzian ring crack and their corresponding chip scars had the form of Hertzian “quasi-cones.” Fractographic data were used in analysis of test results. __________ Translated from Problemy Prochnosti, No. 6, pp. 103–112, November–December, 2007.  相似文献   
54.
用单摆冲击划痕法测定膜基界面结合强度   总被引:2,自引:0,他引:2  
黄林国 《表面技术》2005,34(1):19-21
膜和基体之间界面结合强度是评价膜层质量很重要的性能指标.采用单摆冲击划痕法对膜基界面结合强度进行了定量研究.单摆冲击划痕法具有动态加载的特性,可从力和能量两个方面获得膜基破坏过程信息,用其测定的膜基界面单位面积所消耗的能量ε可用来定量表征膜基界面结合强度.研究结果表明,提高镀层磷含量、选择合适的基材表面粗糙度(Ra≈0.4μm)和合适的热处理温度(400℃)有利于提高Ni-P化学镀层的界面结合强度和临界法向载荷.  相似文献   
55.
56.
The objective of present investigation was to formulate hydrogel containing glycyrrhizic acid loaded Ultra deformable vesicles i.e., transfersomes effective against atopic dermatitis. These were formulated using thin film hydration technique and this transferosomal suspension was loaded into a hydrogel base. This was characterized on the basis of parameters like particle size, shape and surface morphology, in vitro release, in vivo studies and skin deposition studies. The optimized formulation showed the in vitro release of 89.8% upto 24?h and following Higuchi’s equation (R2?=?0.971).The data obtained revealed that the formulation is able to be effective against atopic dermatitis.  相似文献   
57.
58.
为了更好地理解立方碳化硅在化学机械抛光(CMP)过程中原子层面的材料去除机理,利用分子动力学(MD)方法建立了金刚石磨粒刻划碳化硅的原子模型,仿真研究了金刚石磨粒半径、刻划深度和刻划速度对碳化硅表面形貌、晶体结构、摩擦力和原子去除率的影响规律,并与无定型二氧化硅氧化膜的机械刻划作用的仿真结果进行了对比分析.结果发现:碳化硅在机械刻划过程中局部会出现非晶态变化;刻划深度增大会导致切削力和切削温度增大,原子去除率也随之增加;刻划速度的改变会影响温度和原子去除率,而对切削力几乎无影响;磨粒半径的增加会导致切削力和温度的增加,在压入深度相同的情况下对原子去除率影响不大;碳化硅表面生成的二氧化硅膜能大幅度降低切削力,但由于其结构的影响,机械刻划作用仅使氧化膜产生明显的致密化,而不产生磨屑.  相似文献   
59.
60.
黄林国 《机电工程》2005,22(6):14-18
为减少人工干预,提高测试精度,研制了单摆划痕仪自动测量系统,包括单摆系统、同步触发系统、测力系统、能耗测量系统、痕槽形貌测量系统和数据处理软件。  相似文献   
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