Simulations of Temperature Field in HFCVD Diamond Films over Large Area

A three-dimensional model was developed to investigate the influence of various hot filaments parameters on substrate temperature fields that significantly affect the nucleation and growth of diamond films over large area by hot-filament chemical vapordeposition (HFCVD). Numerical simulated results indicated that substrate temperature varies as a function of hot filamentsnumber, radius, temperature, emissivity, the distance between filaments, and the distance between substrate and filamentsarrangement plane. When these filaments parameters were maintained at the optimal values, the homogeneous substrate temperature region of 76 mm×76 mm with the temperature fluctuation no more than 5% could be obtained by a 80 mm×80 mmhot filaments arrangement plane. Furthermore, the homogeneous region could be enlarged to 100 mm×100 mm under thecondition of supplementary hot filaments with appropriate parameters. All of these calculations provided the basis for speciallyoptimizing the hot filaments parameters to dep     

二氧化锡溅射工艺研究

SnO2 是最早使用也是目前使用最广泛的一种气敏材料 ,使用该材料设计制作的气敏传感器具有许多优点。在简要介绍溅射镀膜的成膜过程和特点的基础上 ,着重介绍了SnO2 膜的制备流程 ,分析了功率和温度变化对成膜质量的影响     

SG被膜处理钢板

1　引　言日本ＮＫＫ公司开发出 5 5 %Ａｌ Ｚｎ热镀层钢板代替以前使用的普通热镀锌钢板 ,耐蚀性提高 2～ 4倍。作为建材使用 ,还具有良好的加工性能和表面美观等。为满足这种高性能的要求 ,该公司研究了高性能化成处理被膜 ,在有机薄膜基础上开发出有机无机复合三维系倾斜被膜构造的高耐蚀性化学处理被膜“ＧｅｎｉｕｓＣｏａｔ”(简称Ｇ被膜 )。该Ｇ被膜涂层钢板已在市场出售 ,受到高度评价。但用户对 5 5 %Ａｌ Ｚｎ合金镀层表面处理钢板的耐蚀性、加工性能提出了更高的要求 ,该公司为了满足这种更高的要求 ,在Ｇ被膜基础上引进了该公司…     

天然气中甲烷和乙烷直接转化制乙烯

天然气中的甲烷和乙烷可以同时在Ｎａ２ＷＯ４－Ｍｎ／ＳｉＯ２催化剂上得到活化生成乙烯。在甲烷转化率为２０％时，原料甲烷氧化偶联反应生成Ｃ２＋的选择性为～８０％，原料乙烷反应的转化率为～８５％，选择性为～７０％。     

垂直磁记录介质薄膜研制的新途径(英文)

本文阐述了铝氧化电沉积法获得磁记录材料的基本原理,研究了铝交流氧化膜中沉积磁性金属及其合金制备垂直磁记录薄膜的新途径,建立了铝交流氧化电沉积法,探讨了氧化膜的结构和磁特性的关系。     

离子膜电槽出槽氯压和氢压波动的原因分析

我厂2万吨离子膜碱装置为旭化成复极式电槽。正常时出槽氯气和氢气压力分别控制在0.0392MPa和0.0539MPa。控制方式为氯压串级控制氢压。自1991年投产以来曾有2次因氯压和氢压波动而导致停车。其中,最严重的一次导至3天内电解未能正常运行。     

清洁催化氧化苯甲醇合成苯甲醛新途径

以30%的双氧水为氧源,Na2WO4·H2O为催化剂,在酸性配体存在而无任何溶剂和相转移催化剂的条件下,清洁催化氧化苯甲醇合成苯甲醛。研究了不同配体及其用量对反应的影响。     

RF—PECVD制备类金刚石碳膜的沉积机理

本文综合评述了用射频率等体化学气相沉积法制备类金刚石碳膜过程中的等离子体化学反应和等离子体与材料表面反应机理的研究概况。