脱酮肟型有机硅建筑密封胶的研制

本文介绍了脱酮肟型有机硅建筑密封胶的配制原理、工艺、产品性能及其影响因素     

内陆核电厂放射性废液中硼酸的反渗透分离实验研究

建设内陆核电是我国经济社会发展的必然需求,但由于内陆核电自然环境和社会环境的特殊性,必须更进一步考虑排放对环境和公众的安全影响,对放射性废液进行深化处理,在解控排放的基础上进一步降低排放水平。本文在内陆AP1000机组已实施的放射性废液处理系统改进的基础上,开展了放射性废液深化处理研究,通过大量实验考察了不同进水pH值、硼浓度、含盐量、水温等水质条件和不同工作压力、回收率等运行条件下反渗透装置对硼酸的去除性能和对模拟放射性核素的截留能力。结果表明,通过控制适当的工艺条件,可以去除废液中80%以上的硼酸,同时保持很好的核素去除效果,达到进一步降低排放水平的目的。研究成果可为内陆核电厂放射性废液处理系统深化处理工程应用提供有力的技术支撑,并为后续内陆核电放射性废液深化处理提供参考。     

表面处理对氮化硅陶瓷力学性能的影响

采用X射线衍射应力分析的sin2ψ法计算了Si3N4陶瓷试样的残余应力，并分别测量了表面处理前后Si3N4试样的力学性能。结果表明，经平面磨削后的Si3N4试样表面残余应力为拉应力，而抛光处理可适当降低残余应力。两种方法都使试样抗弯强度降低。     

EFFECTS OF NONIONIC SURFACTANTS ON PERFORMANCE OF COPPER CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

During copper chemical mechanical polishing (Cu-CMP), the physical properties of slurry, such as the dispersion and suspension stability of abrasives, the interaction between particles and the polished surface, and the rheological characteristics, greatly affect the planarization efficiency. In this study, several nonionic surfactants were added to change the aforementioned physical characteristics of slurry and Cu-CMP performance. Their effects were investigated. The experimental results showed that Al₂O₃ slurry with 300 ppm Triton DF-16 could enhance the wettability of the Cu surface and stabilize the dispersion of abrasives in the slurry. Therefore, the passivation reaction on the Cu surface during CMP would occur uniformly, and the removal of particles during post cleaning could be improved. Cu CMP using the slurry with an adequate amount of nonionic surfactants, Triton DF-16, is proposed to reduce the surface roughness, enhancing the planarity.     

新型不锈钢化学抛光剂工艺研究

叙述了一般不锈钢化学抛光溶液的基本类型和在实际应用中存在的问题。着重论述MW－6不锈钢化学抛光剂的工艺研究过程、工艺条件、质量指标及检测方法，同时介绍了它与传统不锈钢化学抛光剂的比较，经验价值，表面质量控制，应用领域及应用前景。     

金钢石膜表面抛光与平整技术进展

综述了金刚石膜抛光与平整技术，例如研磨、热化学抛光、离子束抛光、化学机械抛光、等离子抛光、激光抛光等方法的优点与不足，重点分析厚度较小（约几微米）的金刚石薄膜抛光与平整的可行途径。     

等离子体抛光对表面粗糙度的影响

为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光.在新设计的等离子加工实验平台上进行了等离子体加工工艺实验,对氧气流量,放电功率大小,磁场大小几个参数对基片表面粗糙度的影响进行了实验研究,且优化了工艺参数.结果表明增加氧气流量,合理控制功率和磁场强度都会使等离子体抛光基片表面粗糙度减小.当氧气流量为50 sccm,功率为80 W,磁场强度为17 mT时,粗糙度达到最小值0.9 nm.     

Sr/Zr掺杂以及抛光对BaTiO_3陶瓷结构和介电性能的影响

采用冷压陶瓷技术制备了(Ba0.75Sr0.25)TiO3、Ba(Ti0.8Zr0.2)O3、(Ba0.75Sr0.25)(Ti0.8Zr0.2)O3陶瓷.XRD结果表明,Sr和Zr在BaTiO3的Ba位、Ti位、及Ba/Ti双位并入均具有高固溶性,且为没有超结构特征的单相钙钛矿结构.Sr/Zr的双位并入加快介电峰向低温的移动.Sr掺杂对Ba(Ti0.8Zr0.2)O3介电峰移动率的贡献为-1.5℃/mol%Sr.抛光技术对介电温谱的影响研究表明,尽管水抛光导致(Ba0.75Sr0.25)(Ti0.8Zr0.2)O3陶瓷颜色变暗,但晶体结构不变、介电峰值降低.     

凝结水精处理混床铵化运行条件的分析探讨

从树脂离子交换的角度，通过分析计算，给出了凝结水精处理混床铵化运行的基础数据，进而提出了凝结水精处理铵化运行的条件。     

金刚石刀具刃口研抛辅助机构方案设计

随着精密和超精密切削加工技术的发展,对金刚石刀具质量提出了更高的要求,由此对高性能金刚石刀具刃口研抛辅助机构的需求也越来越迫切。为此,在简要分析金刚石刀具刃口圆弧轮廓精度指标对加工精度影响的基础上,结合研抛工艺给出了金刚石刀具刃口研抛辅助机构的要求,并对金刚石刀具刃口研抛辅助机构的总体方案及其微进给机构和微摆幅机构进行了设计。