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为提高光固化成型零件的表面质量,采用单因素法成型制造出不同分层厚度和成型方向下的空心椭圆柱体,通过Surtronic25分别测量空心椭圆柱体不同截面的表面粗糙度,根据试验结果及理论分析得到分层厚度和成型方向对零件表面质量的作用机理。结果表明:分层厚度为0.05~0.10 mm,随着分层厚度的增加,零件整体表面质量不断提高;当分层厚度大于0.1 mm,随着分层厚度的增加,零件表面粗糙度不断增大;在设置零件成型方向时,应使零件整体轮廓斜率最大;成型零件表面有较大斜率时,适当增加分层厚度能提高零件整体的表面质量。 相似文献
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喷雾造粒粉末ZrO_2(Y_2O_3)烧结行为的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了喷雾造粒粉末ZrO2 (Y2 O3 )的烧结行为。在坯体烧结过程中形成的新团聚体主要由 5 0 0℃之前的升温速度所决定 ,当升温速度大于 2 .5℃ /min时 ,造粒粉中有机物燃烧放出的热量将导致颗粒间的紧密粘连 ,形成团聚体。新生团聚体将影响整个烧结过程 ,实验结果表明 :新生团聚体不仅阻碍烧结 ,同时使坯体的烧结方式发生了变化。即在较低密度下 ,烧结体的致密化速率大幅度减小 ,而主要呈现为以晶粒长大为主的烧结 ,致使坯体内部气孔难以消除 ,并且出现晶粒异常长大。通过研究烧结行为 ,获得了致密烧结、结构均匀氧化锆陶瓷的烧成曲线。 相似文献
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自适应方向图控制是阵列信号处理的关键,这里在广义线性约束正交投影算法(G-LCOP,Generalized Linearly Constrained Orthogonal Projection)基础上进行了自适应方向图控制算法(APC,Adaptive Pattern Control)的研究,G-LCOP算法能够在降秩的同时保留原有线性约束,并在此基础上增加了新的线性约束,并将静态权矢量向优化的干扰子空间投影,从而形成一种新的广义线性约束正交投影自适应方向图控制算法(G-LCOP-APC,Generalized Linearly Constrained Orthogonal Projection Adaptive Pattern Control),用新权矢量得到的自适应方向图能够较好地逼近期望的静态方向图,有效地压制干扰和噪声。 相似文献
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基于等比例放大透明喷嘴搭建可视化试验台,以乙醇柴油为流动介质,通过控制燃油喷射压力改变孔内燃油流动速度,对比研究了不同燃油流速下3种针阀升程(3mm、6mm和8mm)所对应的喷嘴孔内空化现象及近场喷雾形态。试验发现:喷嘴孔内空化现象随燃油流速升高依次历经无空化阶段、空化阶段(初生-发展-超空化)和柱塞流阶段;同等燃油流速下针阀升程越小,则喷嘴孔内越易发生空化,且空化现象更为强烈。喷孔流量系数随燃油流速升高呈先缓慢增大后急剧减小的变化趋势;同等燃油流速下针阀升程越大,则喷孔流量系数越大。近场喷雾锥角随燃油流速升高呈先增后减的变化趋势;在柱塞流发生之前,同等燃油流速下针阀升程越小,则近场喷雾锥角越大,且喷雾锥角峰值对应的燃油流速越小。 相似文献
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M. R. Fadavieslam N. Shahtahmasebi M. Rezaee-Roknabadi M. M. Bagheri-Mohagheghi 《半导体学报》2011,32(11):113002-8
Tin sulfide thin films (SnxSy) with an atomic ratio of y/x = 0.5 have been deposited on a glass substrate by spray pyrolysis. The effects of deposition parameters, such as spray solution rate (R), substrate temperature (Ts) and film thickness (t), on the structural, optical, thermo-electrical and photoconductivity related properties of the films have been studied. The precursor solution was prepared by dissolving tin chloride (SnCl4, 5H2O) and thiourea in propanol, and SnxSy thin film was prepared with a mole ratio of y/x = 0.5. The prepared films were characterized by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM) and UV-vis spectroscopy. It is indicated that the XRD patterns of SnxSx films have amorphous and polycrystalline structures and the size of the grains has been changed from 7 to 16 nm. The optical gap of SnxSx thin films is determined to be about 2.41 to 3.08 eV by a plot of the variation of (αhν)2 versus hν related to the change of deposition conditions. The thermoelectric and photo-conductivity measurement results for the films show that these properties are depend considerably on the deposition parameters. 相似文献