P，Zr，B对定向凝固IN738合金组织和偏析的影响SCIEI

用不同凝固速度下定向凝固和定向凝固加快淬的方法研究了Ｐ，Ｚｒ，Ｂ对定向凝固ＩＮ７３８合金组织和偏析的影响发现随磷含量的增加，合金固液两相区宽度及温度区间显著增加；凝固前沿低熔点液相区增大；树枝晶组织发达，二次晶变细、变多；固液界面表面积增加。发现只加Ｐ与同时加Ｐ，Ｚｒ合金的溶质原子偏析规律有差异。Ｐ，Ｚｒ，Ｂ促进合金中（γ＋γ′）共晶形成，在其前沿有（γ＋硼化物）共晶析出。     

酚醛树脂及含硼酚醛树脂热裂解和碳化研究进展

酚醛树脂(PR)作为一种广泛使用的热防护材料,其热裂解机理及其裂解产物一直以来备受关注.从不同角度介绍了PR热裂解机理的研究进展和发展方向.PR裂解产物具有较丰富的空隙结构,可以作为一种良好的碳前驱体,通过活化、模板等方法制备的多孔碳材料可以广泛应用于吸附及催化剂载体.在众多提高PR热稳定性的改性方法中,含硼化合物改性PR可以使得树脂的耐热性得到明显的提高,这主要是由于硼酸酯结构的形成可以有效抑制PR中的酚羟基和亚甲基.深入了解PR裂解及碳化过程对提高其耐热性具有一定的指导意义.     

冲模的渗硼工艺

冲模的渗硼工艺广西机电职工大学（广西南宁５３０００７）韦玉屏电机转子叶片的材料为０．５ｍｍ硅钢片，用６工位级进模冲压加工．凸模材料原选用Ｔ１０Ａ，因磨损快，后改用Ｃｒ１２ＭｏＶ，耐磨性大大提高。但凸模出现折断现象，现改用Ｔ８Ａ钢，经固体渗硼、淬火、回...     

扫描速度对硼铸铁气缸套表面钨极氩弧硬化效果的影响

研究了钨极氩弧扫描速度对硼铸铁表面硬化效果的影响规律。结果表明：扫描速度增加,硬化层宽度、深度减小,而硬度提高,裂纹率增大；硬化层硬度沿层深的分布是从表及里由高而低,在过渡区下降缓慢；沿层宽的分布是层中心最高,向两侧逐渐降低,直至硼铸铁基体达到最低值；在保证不出现裂纹的条件下,硬化层表面的最高硬度值可达61．4HRC,硬化层最高显微硬度值可达1156．4HV0．1；硼铸铁材料采用氩弧热源淬火时,淬硬层与基体之间过渡区明显,硬化区组织为莱氏体,过渡区为马氏体、残余奥氏体和少量石墨。     

ZrB2陶瓷的制备和烧结

采用自蔓延高温合成(Self-propagating high-temperature synthesis,SHS)技术和热压烧结(Hot pressing,HP)方法分别研究了Zr-B2O3-Mg和ZrO2-B4C-C体系反应原料的粒度和配比以及烧结温度对产物的影响规律,并烧结得到ZrB2陶瓷.采用X射线衍射和化学分析方法分析了材料的相组成,利用SEM和TEM观察了显微结构;并用阿基米德排水法测定了相对密度.结果表明:在Zr-B2O3-Mg体系中,50μm Zr粉和Mg过量15%(摩尔分数)的体系是最理想的SHS反应体系;SHS产物粒径、酸洗产物粒径和烧结体粒径分别为2～5μm、0.5～2.0 μm和2～10μm;酸洗产物组成为94.59%ZrB2、3.87%ZrO2和1.54%H3BO3(质量分数);烧结体为单相ZrB2陶瓷,相对密度为95.4%.在ZrO2-B4C-C体系中,B4C过量15%和C过量10%(摩尔分数)的体系是最理想的反应体系;烧结体相对密度为94%;烧结体组成为95.44%ZrB2、3.87%ZrO2、0.32?C和0.37%C(质量分数).     

Ni3Al中B和Mg的非平衡晶界共偏聚

在1023－1373K的初始温度和0.05-268.91K/s的冷速范围内，用Auger剖层分析确定含B和Mg的Ni3Al合金中B和Mg的非平衡晶界共偏聚行为，按照溶质－空位复合体迁移机制所导出的描述非平衡晶界偏聚的扩散速率方程解析表达式，很好地模拟了本实验结果，并确定了Ni3Al-B-Mg合金中B及B－空位复合体，Mg及Mg-空位复合体的扩散系数及复合体激活能。     

镍基合金渗硼工艺及组织性能分析

研究了纯镍和镍基合金渗硼层的组织结构和性能，探讨了该合金的渗硼工艺。结果表明，镍和镍基合金在本试验条件下，可在表面获得硬度高、耐磨性、耐蚀性好的Ｎｉ２Ｂ和Ｎｉ３Ｂ相。对镍基合金，渗硼表面强化有良好的应用前景。     

碳钢精铸件表面合金化：渗硼的试验研究

应用铸件表面合金化的方法，实现了碳钢精铸件表面铸态渗硼。渗层深度可达１．０５ｍｍ，硼相的显微硬度值为８００－１０００ｇ／μｍ＾２；碳钢精铸件铸态脱碳作为可利用的因素，有助于精铸件铸态渗硼。     

高纯度Si-Ge系合金靶

一种高纯度Si-Ge系合金靶，其杂质少、成膜时厚膜均匀，此外颗粒的发生少、均匀性和膜组成均衡，溅射性能良好，可得到膜厚均匀、漏电流少的膜特性优异的Si-Ge系溅射膜。该高纯度Si-Ge系合金靶的制造方法，是除去气体成分，在高真空中熔炼、铸造纯度5N（99．999wt％）以上的成为高纯度Si-Ge系合金靶及主成分的高纯度Si及高纯度Ge，制作合金锭，在通过将其粉碎制成Si-Ge系合金微粉末后，烧结该微粉末成合金靶。