火炮身管内表面激光硬化处理的实验研究

提高身管寿命是火炮行业亟待解决的关键技术问题，激光表面改性技术是解决这一问题的有效方法之一。本文在分析激光表面相变硬化性能的基础上，对身管内表面进行了激光硬化处理实验研究，检测了其内表面阳线和阴线的硬化层硬度和深度，对比分析了离焦量和焦深对其内表面硬化层硬度的影响，并对激光相变硬化层金相组织进行了分析。经激光硬化处理后，身管的内表面硬度有明显提高，硬化层较深，且为很细的条状马氏体组织。     

PECVD法低温沉积多晶硅薄膜的研究

在玻璃衬底上采用常规的PKCVD法在低温(≤400℃)条件下制得大颗较(直径＞100nm)、择优取向(220)明显的多晶硅薄膜。选用的反应气体为SiF4和H2混合气体。加入少量的SiH4后，沉积速率提高了近10倍。分析认为，在低温时促使多晶硅结构形成的反应基元应是SiFmHn(m n≤3)，而不可能是SiHn(n≤3)基团。     

流量比对等离子体基团分布和薄膜结构的影响

使用光强标定的发射光谱(AOES)测量了CHF3／C6H6混合气体的微波电子回旋共振(ECR)放电等离子体中基团的分布状态。实验发现随着CHF3流量的增加，成膜基团CF、CF2、CH等的相对密度增大，而刻蚀基团F的密度也会增加，从而使得a—C：F薄膜的沉积速率降低。同时红外吸收谱(IR)分析表明，在高CHF3流量下沉积的a—C：F薄膜中含有更高的C—F键成分。可见在a—C：F薄膜的制备中CHF3／(CHF3 C6H6)流量比是重要的控制参量。     

30.4 nm光电成像系统分辨率的初步实验研究

本文基于微通道板MCP(Microchannel Plate)探测器件设计一套成像系统，用于对波长为30．4nm的极紫外EUV(Extreme Ultraviolet)光进行成像．结果获得了一宽度为3mm的狭缝的像，实验测得490μm的成像系统的空间分辨率，并分析了影响系统分辨率的各种因素及为提高系统分辨率所应采取的措施．     

SGXP—400液压泥炮的应用及其性能分析

通过本钢５＃高炉液压泥炮的技术改造实践，阐述了斜底座式液压泥炮在大型高炉上的应用情况，并且进一步对ＳＧＸＰ—４００液压泥炮的某些性能特点及其液压系统进行了分析。     

法国产CT4型横拼双金属专用真空电子束焊机原理与构造

试述法国TECHMETA公司产的CT4型横拼双金属专用真空电子束焊机原理与构造，其中主要阐述电子枪控制电路板的原理。     

侯马冶炼厂奥斯麦特熔炼炉炉渣恶化的处理

介绍侯马冶炼厂奥斯麦特熔炼炉3次炉渣恶化的原因，采取的措施和结果。粉煤灰积存，生料堆积和风料比失当造成炉渣SiO2含量升高，Fe含量降低是炉渣恶化的主要原因，添加高铁造渣成分调整渣组成或不加料浸沿喷枪正常熔炼状态操作，将生料中的铁氧化造渣，提高炉温，改善炉渣性质，使炉况恢复正常。     

Set－up of a Pure Electron Plasma Device

An electron Penning-Malmberg trap,which can confine an electron column and provide a good platform to investigate the cross-filed transportation of strongly magnetized electron plasma ,has been set up.With the device,an electron plasma with a density of 10^7 cm^-3 can be confined for a relatively long time.The structure of the trap,electron source,as well as the way how th measure electron plasma density profile and velocity distrbustion are introduced in detail.     

聚醚醚酮及其复合材料的摩擦学研究进展

评述了聚醚醚酮（PEEK）及其复合材料的摩擦磨损性能，在滑动过程中形成的摩擦转移膜以及磨屑的研究，总结了聚合物基复合材料摩擦学研究的一般方法及规律，介绍了关于用PEEK复合材料制造的轴承，齿轮等进行的摩擦学研究，以及等离子体表面处理和颗粒增强对PEEK及其复合材料摩擦学性能的影响。     

高压脉冲放电处理含氰废水的影响因素探讨

焦化废水中含有大量的氰化物,必须采取有效措施进行去除,传统去除方法运行成本高、操作复杂。提出了用高压毫微秒脉冲产生的非平衡等离子体处理含氰废水的方法,对其影响因素pH值、放电时间、气流量、放电条件等进行了大量的实验研究,结果表明:溶液初始pH值为9.09,放电2 h,放电电压46 kV时氰化物的去除率最高可达93.2%,氰化物质量浓度可降至0.26 mg/L。实验对比了放电与不放电氰化物的去除效果:相同条件下放电后氰化物的去除率大大提高,为焦化废水中氰化物的去除提出了一种新的方法。