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本采用高频溅射方法,在抛光Si(111)衬底上制备出碳化硅薄膜,了薄膜的高温真空退火勺,实验表明,退火后的薄膜具有较淡理想的结晶取向和发光性质。 相似文献
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本文以本厂和几个使用φ600XF-ⅢJ型内件的小氮肥厂的实际生产情况为依据,分析了ⅢJ型内件存在“冷管效应”及产生同平面温差的机理和操作控制方法。 相似文献
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